أ-3-ب- المعدات المصممة خصيصا لتخشين المساحة المسطحة الفعالة للرقاقات المعالجة وفق مؤشر قراءة كاملة يبلغ 2 ميكرومتر أو أقل؛
a.3.b. Speziell entwickeltes Gerät, um eine Rauheit der aktiven Oberfläche eines bearbeiteten Wafers mit einem 2σ-Wert von maximal 2 µm (Mittigkeitsabweichung (Gesamt-Messuhrausschlag)) zu erzielen;