Tetraethylsilan
# Tetraethylsilan

Tetraethylsilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der siliciumorganischen Verbindungen und hat die Konstitutionsformel $Si(C_2H_5)_4.$

## Gewinnung und Darstellung

Über die Herstellung von Tetraethylsilan durch Umsetzung von Silicium(IV)-chlorid mit Diethylquecksilber (M = Hg) bzw. Diethylzink (M = Zn) in einer zugeschmolzenen Glasampulle wurde zuerst 1863 von Charles Friedel und James Mason Crafts berichtet:

    ${\ce {SiCl4+2M(C2H5)2->[\mathrm {140-160,^{\circ }C} ](C2H5)4Si+2MCl2}}$

## Eigenschaften

Tetraethylsilan hat einen Flammpunkt von 25 °C. Es ist stabil bei Kontakt mit Wasser und an der Luft und reagiert nicht mit Salpetersäure oder konzentrierter Kalilauge. Im Kernspinresonanzspektrum zeigt es folgende Signale:

| chemische Verschiebung (ppm) | $Si–CH_2–$ | $–CH_3$ |
| - | - | - |
| $^1H$ | 0,50 | 0,93 |
| $^{13}C$ | 3,0 | 7,5 |

## Verwendung

Tetraethylsilan reagiert mit Halogeniden der 3. Hauptgruppe (Borgruppe) wie Bortribromid oder Galliumtrichlorid mit hoher Reinheit und Ausbeute unter Bildung der entsprechenden Dihalogenethylverbindung:

    ${\ce {(C2H5)4Si + BBr3 -> (C2H5)3SiBr + C2H5BBr}}$
    ${\ce {(C2H5)4Si4 + GaCl3 -> (C2H5)3SiCl + C2H5GaCl2}}$
