A small SiO2 layer is going to be put on, deposited on the P portion of the semiconductor substrate.
ஒரு சிறிய SiO2 அடுக்கு போடப்பட உள்ளது, இது செமிகண்டக்டர் அடி மூலக்கூறின் P பகுதியில் வைக்கப்படுகிறது.