So, as per our requirement here we can control the what happens, we can control the metal deposition rate by controlling the pulse rate.
எனவே, இங்கே பல்ஸ் வீதத்தைக் கட்டுப்படுத்துவதன் மூலம் உலோக டெபாஸிசன் வீதத்தைக் கட்டுப்படுத்தலாம்.