Cr/CrN nanometric multilayers were deposited through unbalanced magnetron sputtering UBM with 200, 100 and 20 nm bilayer period and 0.2, 1 and 3 μm total thickness on AISI 304 steel and silicon 100, the latter for studying cross-section microstructure.
Las multicapas de Cr/CrN a escala nanométrica se depositaron por medio de sputtering con magnetrón desbalanceado, UBM, con período de la bicapa de 200, 100 y 20 nm y espesor de 0,2, 1 y 3 μm, sobre sustratos de acero inoxidable AISI 304 y silicio 100, en este último para estudiar la microestructura de sección transversal.