Such methods would include physical vapour deposition PVD, chemical vapour deposition CVD, ion implantation, sputtering, pulsed deposition, laser ablation and pulverised ion exchange.
Se encuentran en este grupo las técnicas PVD deposición física en fase de vapor, CVD deposición química en fase de vapor, la implantación iónica, el sputtering, el depósito pulsado, la ablación láser y la pulverización iónica.