When reducing the period, the CrN 200 peak position shifted to lower 2q values, indicating the presence of compressive residual stress, which is common for sputtering-deposited coatings, as shown in the pertinent literature Esteve et al., 2004 and de Lousa et al., 2001.
Con la reducción del período la posición de los picos de los planos 200 del CrN sufre una desviación hacia menores valores 2θ, indicando la presencia de esfuerzos residuales compresivos, algo usual en películas cristalinas depositadas con la técnica de sputtering, como lo indican los estudios sobre multicapas de CrN/Cr, de Romero et al., 2004, y de Lousa et al., 2001.