The coated substrate is then subjected to chemical-mechanical surface cleaning Groover, 2007 and then placed in a plasma chamber, in a low vacuum furnace or a controlled atmosphere furnace.
El recubrimiento obtenido es sometido a un proceso de limpieza superficial químico-mecánico Groover, 2007. El sustrato así tratado se ubica luego en una cámara de plasma, en un horno de bajo vacío o en un horno de atmósfera controlada.