Cr/CrN coatings were produced by UBM sputtering using a high purity 10 cm Cr target 99.99% and 5 cm target-substrate distance. Air flow was set at 9 standard cubic centimeters per minute sccm for Cr deposition; CrN deposition nitrogen was activated at 3 sccm.
Los recubrimientos de Cr/CrN fueron producidos mediante el sistema de sputtering con magnetrón desbalanceado, empleando un blanco de cromo 99,99% de pureza de 10 cm de diámetro y una distancia blanco-sustrato de 5 cm. En el depósito de películas de Cr se empleó un flujo de argón de 9 sccm y para la producción de CrN se activó el nitrógeno con flujo de 3 sccm.