Working pressure was 5 x 10-1 Pa and all coatings were grown at room temperature using 400 mA discharge current and ∼150 W discharge power for Cr deposition as ∼160 W was the discharge power for CrN coatings.
Para generar el plasma se utilizó una presión de trabajo de 5 x 10Pa, con el sustrato a temperatura ambiente, con una corriente de descarga de 400 mA y una potencia de descarga de ~150W para producir Cr y ~160 W para monocapas de CrN.