ASML
概要
IDMやファウンドリなどの半導体メーカーは、ムーアの法則に従い、製造するIC（集積回路）を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回シリコンウェハーに露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている。
近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の解像度が37ナノメートルに達した。
光学系はカール・ツァイスが供給し、蛍石や石英がレンズに使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。
ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数（N.A.）が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた。
世界シェア・ランキング
売上高ベースで2007年のASML露光装置の世界シェアは65％。 1996年は日本のニコンが約50％弱、キヤノンが約25％のシェアを獲得していた。
2008年の半導体製造装置メーカーランキング（VLSI Researchによる）では、東京エレクトロンを抜き2位に浮上し、 2011年の同ランキングではアプライド・マテリアルズを抜き、初めて1位となった。