Titanium aluminium nitride
ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್ (ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್) ಅಥವಾ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಟೈಟಾನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್ (ಆಲ್ಟಿಎನ್; ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ವಿಷಯಗಳಿಗೆ 50 ಪ್ರತಿಶತಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು) ಸಾರಜನಕ ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಅಂಶಗಳಾದ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಮೆಟಾಸ್ಟೇಬಲ್ ಹಾರ್ಡ್ ಲೇಪನಗಳ ಒಂದು ಗುಂಪಾಗಿದೆ. ಈ ಸಂಯುಕ್ತ ಮತ್ತು ಅಂತಹುದೇ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು (ಟಿ. ಐ. ಎನ್. ಮತ್ತು ಟಿ. ಐ. ಸಿ. ಎನ್. ನಂತಹ) ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಎಂಡ್ ಮಿಲ್ಗಳು ಮತ್ತು ಡ್ರಿಲ್ಗಳನ್ನು ಅವುಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿದ ಉಷ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಧರಿಸುವುದು. ನಾಲ್ಕು ಪ್ರಮುಖ ಸಂಯೋಜನೆಗಳು (ಲೋಹದ ಅಂಶ 100 ಡಬ್ಲ್ಯೂಟಿ.%) ಕೈಗಾರಿಕಾ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲ್ಪಡುತ್ತವೆಃ Ti50Al50N (ಕೈಗಾರಿಕವಾಗಿ ಸೆಮೆಕೋಟ್ (ಈಗ ಸೆಮೆಕಾನ್) ಕಂಪನಿಯಿಂದ ಪರಿಚಯಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ) ಆಚೆನ್, ಬಿಆರ್ಡಿ, ಗ್ರೂಪ್ ಟಿ. ಲೇಡೆಕರ್ ಸಿಎ. 1989) ಆಲ್55ಟಿಐ45ಎನ್ (ಕೈಗಾರಿಕಾವಾಗಿ ಮೆಟಾಪ್ಲಾಸ್ ಐಯೋನಾನ್ (ಈಗ ಒರ್ಲಿಕಾನ್), ಬರ್ಗಿಸ್ಕ್ ಗ್ಲ್ಯಾಡ್ಬ್ಯಾಕ್, ಬಿಆರ್ಡಿ, ಗ್ರೂಪ್ ಜೆ. ವೆಟ್ಟರ್ ಸಿಎ. 1999) ಆಲ್60ಟಿಐ40ಎನ್ (ಕೋಬ್ ಸ್ಟೀಲ್, ಕೋಬ್, ಜಪಾನ್, ಸಿ. ಎ. ಕಂಪನಿಯಿಂದ ಕೈಗಾರಿಕವಾಗಿ ಪರಿಚಯಿಸಲಾಯಿತು. 1992) ಆಲ್66ಟಿಐ34ಎನ್ (ಕೈಗಾರಿಕಾವಾಗಿ ಮೆಟಾಪ್ಲಾಸ್ (ಈಗ ಒರ್ಲಿಕಾನ್) ಕಂಪನಿಯಿಂದ ಪರಿಚಯಿಸಲ್ಪಟ್ಟ ಜೆ. ವೆಟ್ಟರ್ ಸಿಎ. 1996). ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಲೇಪನಗಳು ಶುದ್ಧ ಟೈಟಾನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್ (ಟಿಐಎನ್) ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಮೀರಿಸಲು ಮೂಲಭೂತ ಕಾರಣಗಳನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆಃ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ-ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪದರದ ರಚನೆಯಿಂದಾಗಿ ಎತ್ತರದ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಸೂಕ್ಷ್ಮ-ರಚನೆಯ ಬದಲಾವಣೆಗಳು ಮತ್ತು ಘನ ದ್ರಾವಣ ಗಟ್ಟಿಯಾಗುವುದರಿಂದ ಹೊಸದಾಗಿ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾದ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿದ ಗಡಸುತನ ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಅನ್ನು ಟಿಐಎನ್ ಮತ್ತು ಕ್ಯೂಬಿಕ್ ಎಎಲ್ಎನ್ ಆಗಿ ಸ್ಪಿನೊಡಲ್ ವಿಭಜನೆಯಿಂದಾಗಿ ಉಪಕರಣಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯನ್ನು ಕತ್ತರಿಸಲು ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಲೇಪನಗಳ ವಯಸ್ಸು ಗಟ್ಟಿಯಾಗಿಸುವುದು. ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಶೇಖರಣೆ ಅಥವಾ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ಮೂಲಕ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಮತ್ತು ಆಲ್ಟಿಎನ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಶೇಕಡಾವಾರುಗಳೊಂದಿಗೆ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಕೈಗಾರಿಕವಾಗಿ ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆಯಾದರೂ, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಶೇಖರಣೆ ತಂತ್ರವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಶುದ್ಧ ಅಲ್ ಮತ್ತು ಟಿ ಗುರಿಗಳೊಂದಿಗೆ ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಶುದ್ಧ ಅಲ್ ಮತ್ತು ಶುದ್ಧ ಟಿಐ ಗುರಿಗಳಿಂದ ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಶೇಖರಣೆಯಿಂದ ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಮತ್ತು ಆಲ್ಟಿಎನ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು 1999 ರಿಂದ ನ್ಯಾನೊಶೀಲ್ಡ್ ಪಿವಿಡಿ ಥೈಲ್ಯಾಂಡ್ ಕೈಗಾರಿಕಾವಾಗಿ ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತಿದೆ. ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಗುರಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸುವ ಮೂಲಕ ಲೇಪನದ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಸಂಯೋಜನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ನಮ್ಯತೆಯನ್ನು ನೀಡಲು ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಆಲ್66ಟಿಐ34ಎನ್ ನ ಆಯ್ದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೆಂದರೆಃ ವಿಕರ್ಸ್ ಗಡಸುತನ 2600 ರಿಂದ 3300 ಎಚ್. ವಿ. ಹಂತದ ಸ್ಥಿರತೆ ಸಿ. 850 °C, ಆಲ್ ಎನ್ + ಟಿ ಎನ್ ಗೆ ವಿಭಜನೆಯ ಪ್ರಾರಂಭ. ತೀವ್ರವಾದ ಉತ್ಕರ್ಷಣವು ಸುಮಾರು 800 °C (ca. ಟಿಐಎನ್ ಗಿಂತ 300 ಡಿಗ್ರಿ ಸೆಲ್ಸಿಯಸ್ ಹೆಚ್ಚು). ಟಿಐಎನ್ ಸಾಮಾನ್ಯ ಲೇಪನದ ದಪ್ಪಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆ ವಿದ್ಯುತ್ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. (1 ರಿಂದ 7) ಮೈಕ್ರೋಮೀಟರ್ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಉಪಕರಣಗಳ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಬಳಸುವ ಒಂದು ವಾಣಿಜ್ಯ ಲೇಪನ ಪ್ರಕಾರವೆಂದರೆ ಸಲ್ಜರ್ ಮೆಟಾಪ್ಲಾಸ್ನ ಆಲ್ಟಿನ್-ಸ್ಯಾಟರ್ನ್. ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಆಯ್ದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಸಲುವಾಗಿ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಕೆಲವೊಮ್ಮೆ ಇಂಗಾಲ, ಸಿಲಿಕಾನ್, ಬೋರಾನ್, ಆಮ್ಲಜನಕ ಮತ್ತು ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಕನಿಷ್ಠ ಒಂದರೊಂದಿಗೆ ಡೋಪ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಬಹು ಪದರದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳನ್ನು ರಚಿಸಲು ಸಹ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಅವುಗಳನ್ನು ಸಲ್ಜರ್ ಮೆಟಾಪ್ಲಾಸ್ನ ಎಂ ಪವರ್ ಲೇಪನ ಕುಟುಂಬದಲ್ಲಿ ಬಳಸಿದಂತೆ ಟಿಸಿಎಕ್ಸ್ಎನ್ನೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು. ಮೇಲೆ ತಿಳಿಸಲಾದ ಲೇಪನದ ಪ್ರಕಾರಗಳನ್ನು ವೈದ್ಯಕೀಯ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗಾಗಿ ವಿಶೇಷ ಉಪಕರಣಗಳು ಸೇರಿದಂತೆ ಸಾಧನಗಳನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅವುಗಳನ್ನು ಅಲಂಕಾರಿಕ ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗಳಾಗಿಯೂ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಟಿಐಎಎಲ್ಎನ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಒಂದು ಉತ್ಪನ್ನವೆಂದರೆ ನ್ಯಾನೊ ಕಾಂಪೋಸಿಟ್ ಟಿಐಎಎಲ್ಸಿಎನ್ (ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಸಿಲಿಕಾನ್ ನೈಟ್ರೈಡ್), ಇದನ್ನು ಜೆಕ್ ಗಣರಾಜ್ಯದಲ್ಲಿ ಎಸ್ಎಚ್ಎಂ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿತು ಮತ್ತು ಈಗ ಸ್ವಿಟ್ಜರ್ಲೆಂಡ್ನ ಪ್ಲಾಟಿಟ್ನಿಂದ ಮಾರಾಟವಾಗಿದೆ. ನ್ಯಾನೊ ಕಾಂಪೋಸಿಟ್ TiAlSiN ಲೇಪನವು ಸೂಪರ್ ಹಾರ್ಡ್ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಬಾಹ್ಯ ಕೊಂಡಿಗಳು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ನೈಟ್ರೈಡ್ಸ್ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಸಂಯುಕ್ತಗಳು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಸಂಯುಕ್ತಗಳಿಂದ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾದ ನ್ಯಾನೊಕಾಂಪೋಸಿಟ್ ಆಲ್ಟಿಂಕೋ ಲೇಪನಗಳು