Rotating wall technique
ತಿರುಗುವ ಗೋಡೆಯ ತಂತ್ರವು (ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರ) ವಿದ್ಯುತ್ಕಾಂತೀಯ ಬಲೆಯಲ್ಲಿ ಸೀಮಿತವಾಗಿರುವ ಏಕ-ಘಟಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು (ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡಲಾದ ಕಣಗಳ ತಂಪಾದ ದಟ್ಟ ಅನಿಲ) ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲು ಬಳಸುವ ಒಂದು ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ. ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡಲಾದ ಕಣಗಳನ್ನು ನಿರ್ವಾತದಲ್ಲಿ ಸಂಗ್ರಹಿಸುವುದರ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುವ ಅನೇಕ ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ಒಂದಾಗಿದೆ. ಈ ತಂತ್ರವು ಈ ಬಲೆಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ ಮತ್ತು ಆಂಟಿಪ್ರೋಟಾನ್ ಎರಡನ್ನೂ ಹೊಲಿಯಲು ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಕಂಡುಕೊಂಡಿದೆ. ವಿವಿಧ ಅಂತಿಮ ಬಳಕೆಗಳಿಗಾಗಿ ಆಂಟಿಪಾರ್ಟಿಕಲ್) ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ. ತಟಸ್ಥವಲ್ಲದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಒಂದು ವಿಧವಾದ ಏಕ-ಘಟಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳು (ಎಸ್. ಸಿ. ಪಿ.), ವಿವಿಧ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರದ ವಿದ್ಯಮಾನಗಳನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ಕಣಗಳ ಶೇಖರಣೆ, ಸಂಗ್ರಹಣೆ ಮತ್ತು ವಿತರಣೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ಅನೇಕ ಉಪಯೋಗಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ. ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಸೃಷ್ಟಿ ಮತ್ತು ಅಧ್ಯಯನ, ಸಾಮಾನ್ಯ ವಸ್ತುವಿನೊಂದಿಗೆ ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ಗಳ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಪಾಸಿಟ್ರೋನಿಯಂ (ಪಿಎಸ್) ಪರಮಾಣುಗಳ ದಟ್ಟವಾದ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ರಚಿಸಲು ಮತ್ತು ಪಿಎಸ್-ಪರಮಾಣು ಕಿರಣಗಳ ಸೃಷ್ಟಿ ಸೇರಿವೆ. "ತಿರುಗುವ ಗೋಡೆ (ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ) ತಂತ್ರ" ವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ಬಲೆಯಿಂದ ರೇಡಿಯಲ್ ಆಗಿ ಹರಡುವ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಎದುರಿಸಲು ಪಿಎಂ ಬಲೆಗಳಲ್ಲಿ ಎಸ್ಸಿಪಿಯನ್ನು ರೇಡಿಯಲ್ ಆಗಿ ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲು ತಿರುಗುವ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವಲ್ಲಿ ನಿರ್ಣಾಯಕವೆಂದು ಸಾಬೀತಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಟ್ರ್ಯಾಕ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮತ್ತು ಟ್ರ್ಯಾಪ್-ಆಧಾರಿತ ಕಿರಣಗಳ ಉಪಯುಕ್ತತೆ. ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ತತ್ವಗಳು ಈ ಅನ್ವಯಕ್ಕಾಗಿ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಪೆನ್ನಿಂಗ್-ಮಾಲ್ಬರ್ಗ್ (ಪಿಎಂ) ಬಲೆಯಲ್ಲಿ ಏಕರೂಪದ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಬಿ. ಚಾರ್ಜ್ ಮೋಡವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ಆಕಾರದಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತ್ರಿಜ್ಯಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಬಿ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ. ಈ ವಿದ್ಯುದಾವೇಶವು ರೇಡಿಯಲ್ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಹೊರಕ್ಕೆ ತಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಇದನ್ನು ಎದುರಿಸಲು, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದಾಗಿ ಅದನ್ನು ಸಮತೋಲನಗೊಳಿಸಲು ಲೊರೆಂಟ್ಜ್ ಬಲವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಸಮ್ಮಿತಿಯ ಅಕ್ಷದ ಸುತ್ತ ತಿರುಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನೂಲುವ ಚಾರ್ಜ್ ರಾಡ್ನ ರೂಪವನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಪಿಎಂ ಬಲೆಗಳಲ್ಲಿನ ಅಂತಹ ತಂಪಾದ, ಏಕ-ಘಟಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳು ಉಷ್ಣ ಸಮತೋಲನಕ್ಕೆ ಬರಬಹುದು ಮತ್ತು ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿ ತಿರುಗಬಹುದು, ಅಲ್ಲಿ n ಎಂಬುದು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯಾಗಿದೆ. ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಿದಂತೆ. 1, ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಒಂದು ಭಾಗವನ್ನು ಆವರಿಸುವ ಅಜಿಮುತಲಿ ವಿಭಜಿತ ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ಎಫ್ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ಹಂತ ಹಂತದ, ಸೈನೂಸೈಡಲ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್ಗಳನ್ನು ವಿಭಾಗಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದರ ಫಲಿತಾಂಶವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಸಮ್ಮಿತಿಯ ಅಕ್ಷಕ್ಕೆ ಲಂಬವಾಗಿ ತಿರುಗುವ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರವಾಗಿದೆ. ಈ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿ ವಿದ್ಯುತ್ ದ್ವಿಧ್ರುವದ ಕ್ಷಣವನ್ನು ಪ್ರಚೋದಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಟಾರ್ಕ್ ಅನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನೈಸರ್ಗಿಕ ತಿರುಗುವಿಕೆಯ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಅದಕ್ಕಿಂತ ವೇಗವಾಗಿ ಕ್ಷೇತ್ರದ ತಿರುಗುವಿಕೆಯು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ವೇಗವಾಗಿ ತಿರುಗಿಸಲು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಲೊರೆಂಟ್ಜ್ ಬಲವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಂಕೋಚನವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ (cf. ಅಂಜೂರಗಳು. 2 ಮತ್ತು 3). ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಂಕೋಚನಕ್ಕೆ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಅವಶ್ಯಕತೆಯೆಂದರೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮತ್ತು ತಿರುಗುವ ಕ್ಷೇತ್ರದ ನಡುವೆ ಉತ್ತಮ ಜೋಡಣೆ. ಅಸಿಮ್ಮೆಟ್ರಿ-ಪ್ರೇರಿತ ಸಾರಿಗೆಯನ್ನು ಜಯಿಸಲು ಇದು ಅಗತ್ಯವಾಗಿದೆ, ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಮೇಲೆ ಎಳೆತವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ಟಾರ್ಕ್ ಅನ್ನು ವಿರೋಧಿಸುತ್ತದೆ. ಕಡಿಮೆ ಅಸಿಮ್ಮೆಟ್ರಿ ಪ್ರೇರಿತ ಸಾರಿಗೆಯೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಪಿಎಂ ಟ್ರ್ಯಾಪ್ಗಳಿಗಾಗಿ, ಒಬ್ಬರು "ಸ್ಟ್ರಾಂಗ್ ಡ್ರೈವ್ ರೆಜಿಮ್" ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡಬಹುದು. ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ತಿರುಗುವ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುವುದರಿಂದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಅನ್ವಯಿಕ ಆವರ್ತನಕ್ಕೆ ತಿರುಗುತ್ತದೆ, ಅವುಗಳೆಂದರೆ fE = fRW (cf. ಅಂಕಿ. 3). ಎಫ್ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ಅನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸುವ ಮಾರ್ಗವಾಗಿ ಇದು ಅಗಾಧವಾಗಿ ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಗಿದೆ. ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟೈಸ್ಡ್ ಎಂಜಿ + ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲು ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರವನ್ನು ಮೊದಲು ಹುವಾಂಗ್ ಮತ್ತು ಇತರರು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದರು. ಈ ತಂತ್ರವನ್ನು ಶೀಘ್ರದಲ್ಲೇ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಯಿತು, ಅಲ್ಲಿ ಮೇಲೆ ವಿವರಿಸಿದಂತೆ ವಿಭಜಿತ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವನ್ನು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿನ ತರಂಗಗಳಿಗೆ (ಟ್ರೈವೆಲ್ಪೀಸ್-ಗೌಲ್ಡ್ ವಿಧಾನಗಳು) ಜೋಡಿಸಲು ಬಳಸಲಾಯಿತು. ಲೇಸರ್ ತಂಪಾಗುವ ಏಕ-ಘಟಕ ಅಯಾನು ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ತಿರುಗುವಿಕೆಯ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಹಂತ-ಲಾಕ್ ಮಾಡಲು ಸಹ ಈ ತಂತ್ರವನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು. ಆಂಟಿಮ್ಯಾಟರ್ಗಾಗಿ ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರದ ಮೊದಲ ಬಳಕೆಯನ್ನು ವಿಧಾನಗಳಿಗೆ ಜೋಡಿಸದೆ ಸಣ್ಣ ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳನ್ನು ಬಳಸಿ ಮಾಡಲಾಯಿತು. ಸ್ವಲ್ಪ ಸಮಯದ ನಂತರ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲಾದ ಸ್ಟ್ರಾಂಗ್ ಡ್ರೈವ್ ಆಡಳಿತವು, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವಿಧಾನಗಳಿಗೆ (ಮತ್ತು ಟ್ರ್ಯಾಕಿಂಗ್) ಟ್ಯೂನಿಂಗ್ ಅನಗತ್ಯವಾಗಲು ಹೆಚ್ಚು ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಗಿದೆ. ಪಿಎಂ ಬಲೆಗಳಲ್ಲಿ ಏಕ-ಘಟಕ ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡಲಾದ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲು ಸಂಬಂಧಿತ ತಂತ್ರವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ (ಅಂದರೆ, ಚಾರ್ಜ್ ಮೋಡಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಆಡಳಿತದಲ್ಲಿಲ್ಲ). ಉಪಯೋಗಗಳು ಪೆನ್ನಿಂಗ್-ಮಾಲ್ಬರ್ಗ್ ಬಲೆಗಳಲ್ಲಿ ಆಂಟಿಪಾರ್ಟಿಕಲ್ಗಳನ್ನು ಕುಶಲತೆಯಿಂದ ನಿರ್ವಹಿಸುವಲ್ಲಿ ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರವು ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಕಂಡುಕೊಂಡಿದೆ. ಪರಮಾಣು ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರದ ಪ್ರಯೋಗಗಳಿಗಾಗಿ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ಆಂಟಿಪಾರ್ಟಿಕಲ್ ಕಿರಣಗಳ ರಚನೆಯು ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಅನ್ವಯವಾಗಿದೆ. ಆಗಾಗ್ಗೆ ಒಬ್ಬರು ದೊಡ್ಡ ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಕಿರಣವನ್ನು ಬಯಸುತ್ತಾರೆ. ಈ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ವಿತರಣೆಯ ಮೊದಲು ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪಾಸಿಟ್ರೋನಿಯಂ (ಪಿಎಸ್) ಪರಮಾಣುಗಳ ದಟ್ಟವಾದ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಪಿಎಸ್ 2 ಅಣುವಿನ (ಇ + ಇ − ಇ + ಇ −) ರಚನೆಯನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡುವ ಪ್ರಯೋಗಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ. ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಪಿಎಸ್-ಪರಮಾಣು ಕಿರಣಗಳ ಸೃಷ್ಟಿಯಲ್ಲಿಯೂ ಇದು ಮಹತ್ವದ್ದಾಗಿದೆ. ಕಡಿಮೆ-ಶಕ್ತಿಯ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪರಮಾಣುಗಳ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಂತ್ರವನ್ನು ಮೂರು ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಬಲೆಯಲ್ಲಿ ಸಹ-ಲೋಡ್ ಮಾಡಲಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಹಾನುಭೂತಿಯ ಸಂಕೋಚನದಿಂದ ಆಂಟಿಪ್ರೋಟಾನ್ಗಳನ್ನು ರೇಡಿಯಲ್ ಆಗಿ ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ಗಳು ಮತ್ತು ಆಂಟಿಪ್ರೋಟಾನ್ಗಳನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುವ ಮೊದಲು ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಲು ಸಹ ಈ ತಂತ್ರವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ. ಆ್ಯಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮತ್ತು ಪಾಸಿಟ್ರಾನ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳ ಎಲ್ಲಾ ಪ್ರಮುಖ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ ಬಳಸಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗುವ ತಂಪಾಗಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ತಂಪಾಗಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಆನ್-ಆಕ್ಸಿಸ್ ಸ್ಪೇಸ್ ಚಾರ್ಜ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಬಹುದು ಎಂದು ಇತ್ತೀಚೆಗೆ ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲಾಯಿತು. ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಪುನರುತ್ಪಾದನೆ ಹೆಚ್ಚಾಯಿತು. ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಎಸ್. ಡಿ. ಆರ್. ಇ. ವಿ. ಸಿ. (ಸ್ಟ್ರಾಂಗ್ ಡ್ರೈವ್ ರೆಜಿಮ್ ಆವಿಯಾಗುವ ತಂಪಾಗಿಸುವಿಕೆ) ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುವ ಈ ತಂತ್ರವು ಎಷ್ಟು ಮಟ್ಟಿಗೆ ಯಶಸ್ವಿಯಾಯಿತೆಂದರೆ ಅದು ಟ್ರಾಪೆಬಲ್ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ಪ್ರಮಾಣದ ಕ್ರಮದಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿಸಿತು. ಇದರಲ್ಲಿ ಇದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದಾದರೂ, ಬಹುಪಾಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಕನಿಷ್ಠ-ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಪರಮಾಣು ಬಲೆಗಳ ಸಣ್ಣ ಬಾವಿ ಆಳದಲ್ಲಿ ಸಿಕ್ಕಿಕೊಳ್ಳಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ. ಪೊಸಿಟ್ರಾನ್ ಆಂಟಿಪ್ರೋಟಾನ್ ಪೆನ್ನಿಂಗ್ ಟ್ರ್ಯಾಪ್ ನಾನ್-ನ್ಯೂಟ್ರಲ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಸ್ ಅನ್ನಿಹಿಲೇಷನ್ ಪೊಸಿಟ್ರೋನಿಯಂ ಆಂಟಿಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸಹ ನೋಡಿ.