Overlay control
ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಓವರ್ಲೇ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಅಗತ್ಯವಾದ ಮಾದರಿ-ಗೆ-ಮಾದರಿ ಜೋಡಣೆಯ ನಿಯಂತ್ರಣವಾಗಿದೆ. ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ಗಳನ್ನು ಪ್ರಸ್ತುತ ಹಂತಗಳ ಸರಣಿಯಲ್ಲಿ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಪ್ರತಿ ಹಂತವು ವೇಫರ್ನ ಮೇಲೆ ವಸ್ತುಗಳ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಇರಿಸುತ್ತದೆ; ಈ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಟ್ರಾನ್ಸಿಸ್ಟರ್ಗಳು, ಸಂಪರ್ಕಗಳು ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ವಿವಿಧ ವಸ್ತುಗಳಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅಂತಿಮ ಸಾಧನವು ಸರಿಯಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸಲು, ಈ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ಸರಿಯಾಗಿ ಜೋಡಿಸಬೇಕು-ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸಂಪರ್ಕಗಳು, ಸಾಲುಗಳು ಮತ್ತು ಟ್ರಾನ್ಸಿಸ್ಟರ್ಗಳು ಎಲ್ಲಾ ಸಾಲಿನಲ್ಲಿರಬೇಕು. ಬಹು-ಪದರದ ಸಾಧನ ರಚನೆಗಳಲ್ಲಿ ಪದರದಿಂದ ಪದರದ ಜೋಡಣೆಯನ್ನು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಅರ್ಧವಾಹಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಮೇಲ್ಪದರ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಯಾವಾಗಲೂ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಯಾವುದೇ ರೀತಿಯ ತಪ್ಪು ಜೋಡಣೆಯು ಶಾರ್ಟ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ಗಳು ಮತ್ತು ಸಂಪರ್ಕ ವೈಫಲ್ಯಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಇದು ಫ್ಯಾಬ್ ಇಳುವರಿ ಮತ್ತು ಲಾಭದ ಅಂಚಿನ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಮೇಲ್ಪದರ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಈಗ ಇನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಮಾದರಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಡಬಲ್ ಪ್ಯಾಟರ್ನಿಂಗ್ ಮತ್ತು 193 ಎನ್ಎಂ ಇಮ್ಮರ್ಶನ್ ಲಿಥೊಗ್ರಫಿಯಂತಹ ನವೀನ ತಂತ್ರಗಳ ಸಂಯೋಜನೆಯು 45 ಎನ್ಎಂ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ನೋಡ್ ಮತ್ತು ಕೆಳಭಾಗದಲ್ಲಿ ಮಾದರಿ ಆಧಾರಿತ ಇಳುವರಿ ಸವಾಲುಗಳ ಹೊಸ ಗುಂಪನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಸಂಯೋಜನೆಯು ದೋಷ ಬಜೆಟ್ ಅನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸ ನಿಯಮಗಳ 30 ಪ್ರತಿಶತಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಮೇಲ್ಪದರ ಮಾಪನಶಾಸ್ತ್ರ ಪರಿಹಾರಗಳು ಒಟ್ಟು ಮಾಪನ ಅನಿಶ್ಚಿತತೆ (ಟಿಎಂಯು) ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಳತೆಯ ನಿಖರತೆ/ನಿಖರತೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ದೃಢತೆ ಎರಡನ್ನೂ ಹೊಂದಿರುವ ಮೇಲ್ಪದರ ಮಾಪನಶಾಸ್ತ್ರದ ಪರಿಹಾರಗಳು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಬಿಗಿಯಾದ ಮೇಲ್ಪದರದ ಬಜೆಟ್ಗಳನ್ನು ಪರಿಹರಿಸುವಾಗ ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶಗಳಾಗಿವೆ. ಹೈಯರ್ ಆರ್ಡರ್ ಓವರ್ಲೇ ನಿಯಂತ್ರಣ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ, ಮೈಕ್ರೋ-ಗ್ರೇಟಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಇತರ ಹೊಸ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಬಳಸುವ ಇನ್-ಫೀಲ್ಡ್ ಮಾಪನಶಾಸ್ತ್ರವು ಯಶಸ್ವಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಇಳಿಜಾರುಗಳಿಗೆ ಮತ್ತು 45 ಎನ್ಎಂ ಮತ್ತು ಅದಕ್ಕೂ ಮೀರಿದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಇಳುವರಿಗೆ ಅತ್ಯಗತ್ಯವಾಗುತ್ತಿದೆ. ವಿಶ್ವಾದ್ಯಂತ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲಾದ ಮೇಲ್ಪದರ ಮಾಪನ ಸಾಧನಗಳ ಉದಾಹರಣೆಗಳೆಂದರೆ ಕೆಎಲ್ಎ-ಟೆಂಕರ್ನ ಆರ್ಚರ್ ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊಮೆಟ್ರಿಕ್ಸ್ ಕ್ಯಾಲಿಪರ್ ಸರಣಿ, ಮೇಲ್ಪದರ ಮಾಪನಶಾಸ್ತ್ರ ವೇದಿಕೆಗಳು. ಅರೆವಾಹಕ ಸಾಧನ ತಯಾರಿಕೆ