Optical proximity correction
ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪ್ರಾಕ್ಸಿಮಿಟಿ ಕರೆಕ್ಷನ್ (ಒಪಿಸಿ) ಎಂಬುದು ಫೋಟೊಲಿಥೊಗ್ರಫಿ ವರ್ಧನೆಯ ತಂತ್ರವಾಗಿದ್ದು, ವಿವರ್ತನ ಅಥವಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಂದಾಗಿ ಚಿತ್ರದ ದೋಷಗಳನ್ನು ಸರಿದೂಗಿಸಲು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಒಪಿಸಿಯ ಅಗತ್ಯವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಅರೆವಾಹಕ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ ನಂತರ, ಮೂಲ ವಿನ್ಯಾಸದ ಅಂಚಿನ ನಿಯೋಜನೆಯ ಸಮಗ್ರತೆಯನ್ನು ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ನಲ್ಲಿರುವ ಎಚ್ಚಣೆಯ ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಹಿಸಲು ಬೆಳಕಿನ ಮಿತಿಗಳಿಂದಾಗಿ ಕಂಡುಬರುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ಷೇಪಿತ ಚಿತ್ರಗಳು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಿದ್ದಕ್ಕಿಂತ ಕಿರಿದಾದ ಅಥವಾ ಅಗಲವಾದ ರೇಖೆಯ ಅಗಲಗಳಂತಹ ಅಕ್ರಮಗಳೊಂದಿಗೆ ಕಾಣಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಇವು ಚಿತ್ರಣಕ್ಕಾಗಿ ಬಳಸುವ ಫೋಟೋಮಾಸ್ಕ್ನಲ್ಲಿನ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪರಿಹಾರಕ್ಕೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ. ದುಂಡಾದ ಮೂಲೆಗಳಂತಹ ಇತರ ವಿರೂಪಗಳು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಇಮೇಜಿಂಗ್ ಉಪಕರಣದ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ನಿಂದ ಪ್ರೇರೇಪಿಸಲ್ಪಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಸರಿದೂಗಿಸಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ. ಅಂತಹ ವಿರೂಪಗಳನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸದಿದ್ದರೆ, ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತಿದ್ದ ವಸ್ತುಗಳ ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು. ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಾಮೀಪ್ಯ ತಿದ್ದುಪಡಿಯು ಈ ದೋಷಗಳನ್ನು ಅಂಚುಗಳನ್ನು ಚಲಿಸುವ ಮೂಲಕ ಅಥವಾ ಫೋಟೋಮಾಸ್ಕ್ನಲ್ಲಿ ಬರೆಯಲಾದ ಮಾದರಿಗೆ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಬಹುಭುಜಾಕೃತಿಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಸರಿಪಡಿಸುತ್ತದೆ. ಇದನ್ನು ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳ ನಡುವಿನ ಅಗಲ ಮತ್ತು ಅಂತರದ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಪೂರ್ವ-ಕಂಪ್ಯೂಟೆಡ್ ಲುಕ್-ಅಪ್ ಕೋಷ್ಟಕಗಳಿಂದ (ನಿಯಮ ಆಧಾರಿತ ಒಪಿಸಿ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ) ಅಥವಾ ಅಂತಿಮ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಅನುಕರಿಸಲು ಕಾಂಪ್ಯಾಕ್ಟ್ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ಬಳಸುವುದರ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ಆ ಮೂಲಕ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವಿಭಾಗಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾದ ಅಂಚುಗಳ ಚಲನೆಯನ್ನು ಪ್ರೇರೇಪಿಸಬಹುದು (ಇದನ್ನು ಮಾದರಿ ಆಧಾರಿತ ಒಪಿಸಿ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ). ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ವೇಫರ್ನಲ್ಲಿ ವಿನ್ಯಾಸಕರು ರಚಿಸಿದ ಮೂಲ ವಿನ್ಯಾಸವನ್ನು ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಪುನರುತ್ಪಾದಿಸುವುದು ಇದರ ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ. ಒಪಿಸಿಯ ಎರಡು ಹೆಚ್ಚು ಗೋಚರ ಪ್ರಯೋಜನಗಳೆಂದರೆ ವಿಭಿನ್ನ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಪ್ರದೇಶಗಳಲ್ಲಿನ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳ ನಡುವೆ ಕಂಡುಬರುವ ರೇಖೆಯ ಅಗಲದ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸುವುದು (ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಮಧ್ಯದ ವಿರುದ್ಧ ರಚನೆಯ ಅಂಚು, ಅಥವಾ ಸಮೂಹದ ವಿರುದ್ಧ ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾದ ರೇಖೆಗಳು), ಮತ್ತು ರೇಖೆಯ ತುದಿಯನ್ನು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿಸುವುದು (ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಫೀಲ್ಡ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ನ ಮೇಲೆ ಗೇಟ್ ಓವರ್ಲ್ಯಾಪ್). ಮೊದಲಿನ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಇದನ್ನು ರೇಖೆಯ ಅಗಲ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಸ್ಕ್ಯಾಟರಿಂಗ್ ಬಾರ್ಗಳಂತಹ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ವರ್ಧನೆಯ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳೊಂದಿಗೆ (ಪರಿಹರಿಸಬಹುದಾದ ರೇಖೆಗಳ ಪಕ್ಕದಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗಿರುವ ಉಪ-ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ರೇಖೆಗಳು) ಒಟ್ಟಿಗೆ ಬಳಸಬಹುದು. ನಂತರದ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, "ಡಾಗ್-ಇಯರ್" (ಸೆರಿಫ್ ಅಥವಾ ಹ್ಯಾಮರ್ ಹೆಡ್) ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸದ ಸಾಲಿನ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು. ಒಪಿಸಿ ಫೋಟೊಮಾಸ್ಕ್ ತಯಾರಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ವೆಚ್ಚದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುತ್ತದೆ, ಆ ಮೂಲಕ ಮುಖವಾಡವನ್ನು ಬರೆಯುವ ಸಮಯವು ಮುಖವಾಡ ಮತ್ತು ಡೇಟಾ-ಫೈಲ್ಗಳ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಅದೇ ರೀತಿ ದೋಷಗಳಿಗಾಗಿ ಮುಖವಾಡ ಪರಿಶೀಲನೆಯು ಹೆಚ್ಚು ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾದ ಅಂಚಿನ ನಿಯಂತ್ರಣಕ್ಕೆ ಸಣ್ಣ ಸ್ಪಾಟ್ ಗಾತ್ರದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ನಿನ ಪರಿಣಾಮಃ ಕೆ1 ಅಂಶ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ವಿವರ್ತನ-ಸೀಮಿತ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಅನ್ನು ರೇಲೇ ಮಾನದಂಡದಿಂದ ಸಂಖ್ಯಾತ್ಮಕ ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರ ಎಲ್ಲಿದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಬೆಳಕಿನ ಮೂಲದ ತರಂಗಾಂತರವಾಗಿದೆ ಎಂದು ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಒಂದು ನಿಯತಾಂಕವನ್ನು ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸುವ ಮೂಲಕ ನಿರ್ಣಾಯಕ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಅಗಲವನ್ನು ಈ ಮೌಲ್ಯಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸುವುದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿದೆ, ಅಂದರೆ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಅಗಲವು ಒಂದೇ ಗಾತ್ರದ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಗಿಂತ ಒಪಿಸಿ ಯಿಂದ ಕಡಿಮೆ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ನೆಸ್ಟೆಡ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಗೆ ಸಮನಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಕಾರಣವೆಂದರೆ ನೆಸ್ಟೆಡ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳ ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಆವರ್ತನ ವರ್ಣಪಟಲವು ಪ್ರತ್ಯೇಕ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಪಿಚ್ ಕಡಿಮೆಯಾದಂತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಸಂಖ್ಯಾತ್ಮಕ ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರದಿಂದ ಮೊಟಕುಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಶೈಲಿಯಲ್ಲಿ ಮಾದರಿಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಲು ಹೆಚ್ಚು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ. ಬೆಳಕು ಮತ್ತು ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಸುಸಂಬದ್ಧತೆಯ ಪರಿಣಾಮ ಬೆಳಕಿನ ಮೂಲದ ಸುಸಂಬದ್ಧತೆಯ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಅದರ ಕೋನೀಯ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯ ಮತ್ತು ಸಂಖ್ಯಾತ್ಮಕ ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರದ ಅನುಪಾತದಿಂದ ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಅನುಪಾತವನ್ನು ಹಲವುವೇಳೆ ಭಾಗಶಃ ಸುಸಂಬದ್ಧತೆಯ ಅಂಶ ಅಥವಾ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಮಾದರಿಯ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಒಪಿಸಿಯ ಅನ್ವಯದ ಮೇಲೂ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಚಿತ್ರದ ಸಮತಲದಲ್ಲಿನ ಸುಸಂಬದ್ಧತೆಯ ಅಂತರವನ್ನು ಸ್ಥೂಲವಾಗಿ ಎರಡು ಚಿತ್ರ ಬಿಂದುಗಳಿಂದ ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಈ ಅಂತರಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಬೇರ್ಪಟ್ಟ ಎರಡು ಚಿತ್ರ ಬಿಂದುಗಳು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿರುವುದಿಲ್ಲ, ಇದು ಸರಳವಾದ ಒಪಿಸಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ಗೆ ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಈ ದೂರವು ವಾಸ್ತವವಾಗಿ 1ರ ಹತ್ತಿರದ ಮೌಲ್ಯಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ರೇಲೇ ಮಾನದಂಡಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ. ಇದಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಒಂದು ಅಂಶವೆಂದರೆ ಒಪಿಸಿಯ ಬಳಕೆಯು ಬೆಳಕಿನ ಅಗತ್ಯವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಆಫ್-ಆಕ್ಸಿಸ್ ಇಲ್ಯುಮಿನೇಶನ್ ಅಗತ್ಯವಿದ್ದರೆ, ಆನ್-ಆಕ್ಸಿಸ್ ಇಲ್ಯುಮಿನೇಶನ್ಗೆ ಬದಲಾಯಿಸಲು ಒಪಿಸಿ ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ, ಏಕೆಂದರೆ ಆನ್-ಆಕ್ಸಿಸ್ ಇಲ್ಯುಮಿನೇಶನ್ಗಾಗಿ, ಆಫ್-ಆಕ್ಸಿಸ್ ಇಲ್ಯುಮಿನೇಶನ್ ಅಗತ್ಯವಿದ್ದಾಗ ಇಮೇಜಿಂಗ್ ಮಾಹಿತಿಯನ್ನು ಅಂತಿಮ ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರದ ಹೊರಗೆ ಚದುರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಯಾವುದೇ ಇಮೇಜಿಂಗ್ ಅನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ. ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪ್ರೊಜೆಕ್ಷನ್ ಸಿಸ್ಟಮ್ಗಳಲ್ಲಿನ ಅಪೆರೇಶನ್ಗಳ ಪರಿಣಾಮವು ತರಂಗಮುಖಗಳನ್ನು ವಿರೂಪಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಅಥವಾ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ ಅಥವಾ ಬೆಳಕಿನ ಕೋನಗಳ ಹರಡುವಿಕೆಯು ಫೋಕಸ್ನ ಆಳದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಒಪಿಸಿಯ ಬಳಕೆಯು ಗಮನದ ಆಳಕ್ಕೆ ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ನೀಡಬಹುದಾದರೂ, ವಿಚಲನಗಳು ಈ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ಸರಿದೂಗಿಸುವುದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಬಹುದು. ಗಮನದ ಉತ್ತಮ ಆಳಕ್ಕೆ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಕ್ಷದೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಬಹುದಾದ ಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಚಲಿಸುವ ವಿವರ್ತನ ಬೆಳಕಿನ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದಕ್ಕೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಬೆಳಕಿನ ಕೋನದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಸರಿಯಾದ ಬೆಳಕಿನ ಕೋನವನ್ನು ಊಹಿಸಿಕೊಂಡರೆ, ಒಪಿಸಿ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪಿಚ್ಗೆ ಸರಿಯಾದ ಕೋನಗಳ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಹೆಚ್ಚು ವಿವರವಾದ ಬೆಳಕನ್ನು ನಿರ್ದೇಶಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಸರಿಯಾದ ಬೆಳಕಿನ ಕೋನವಿಲ್ಲದೆ, ಅಂತಹ ಕೋನಗಳು ಉದ್ಭವಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಹಿಂದಿನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ತಲೆಮಾರುಗಳಲ್ಲಿ ಈ ಅಂಶವು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಕುಗ್ಗುತ್ತಿರುವುದರಿಂದ, ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಬಹು ಮಾನ್ಯತೆಗೆ ಹೋಗುವ ನಿರೀಕ್ಷಿತ ಅಗತ್ಯವು ಹೆಚ್ಚು ವಾಸ್ತವಿಕವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಒಪಿಸಿಯ ಅನ್ವಯದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಪ್ರತಿ ಪ್ರದರ್ಶನದಿಂದ ಚಿತ್ರದ ತೀವ್ರತೆಯ ಮೊತ್ತವನ್ನು ಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ. ಪೂರಕ ಫೋಟೋಮಾಸ್ಕ್ ತಂತ್ರಕ್ಕೆ ಇದು ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಪರ್ಯಾಯ-ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರ ಹಂತ-ಸ್ಥಳಾಂತರಿಸುವ ಮುಖವಾಡ ಮತ್ತು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಬೈನರಿ ಮುಖವಾಡದ ಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಒಟ್ಟಿಗೆ ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮಲ್ಟಿಪಲ್-ಎಚ್ ಪ್ಯಾಟರ್ನಿಂಗ್ನ ಪರಿಣಾಮ ಒಂದೇ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಫಿಲ್ಮ್ನ ಮಲ್ಟಿಪಲ್ ಎಕ್ಸ್ಪೋಷರ್ಗೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಮಲ್ಟಿಪಲ್ ಲೇಯರ್ ಪ್ಯಾಟರ್ನಿಂಗ್ ಒಂದೇ ಸಾಧನದ ಪದರವನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲು ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಲೇಪನ, ಶೇಖರಣೆ ಮತ್ತು ಎಚ್ಚಣೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಇದು ಅದೇ ಪದರವನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲು ಸಡಿಲವಾದ ವಿನ್ಯಾಸದ ನಿಯಮಗಳನ್ನು ಬಳಸಲು ಅವಕಾಶವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಈ ಸಡಿಲವಾದ ವಿನ್ಯಾಸದ ನಿಯಮಗಳಲ್ಲಿ ಚಿತ್ರಿಸಲು ಬಳಸುವ ಶಿಲಾಮುದ್ರಣ ಸಾಧನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ, ಒಪಿಸಿ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಬಹು-ಎಚ್ ಮಾದರಿಯು ಭವಿಷ್ಯದ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಪೀಳಿಗೆಗೆ ಜನಪ್ರಿಯ ತಂತ್ರವಾಗಬಹುದು. ಸೈಡ್ ವಾಲ್ ತ್ಯಾಗದ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಬಹು-ಎಚ್ ಮಾದರಿಯ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ರೂಪವು ಪ್ರಸ್ತುತ 10 ಎನ್. ಎಂ. ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಇರುವ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳನ್ನು ವ್ಯವಸ್ಥಿತವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸುವ ಏಕೈಕ ಮಾರ್ಗವಾಗಿದೆ. ಕನಿಷ್ಠ ಅರ್ಧ-ಪಿಚ್ ತ್ಯಾಗದ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಸಂಗ್ರಹಿಸಿದ ದಪ್ಪಕ್ಕೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ. ಇಂದು ಒಪಿಸಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಡಿಸೈನ್ ಆಟೊಮೇಷನ್ (ಇಡಿಎ) ಮಾರಾಟಗಾರರಿಂದ ವಾಣಿಜ್ಯ ಪ್ಯಾಕೇಜ್ಗಳ ಬಳಕೆಯಿಲ್ಲದೆ ಒಪಿಸಿಯನ್ನು ವಿರಳವಾಗಿ ಅಭ್ಯಾಸ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕ್ರಮಾವಳಿಗಳು, ಮಾಡೆಲಿಂಗ್ ತಂತ್ರಗಳು ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಕಂಪ್ಯೂಟ್ ಫಾರ್ಮ್ಗಳ ಬಳಕೆಯಲ್ಲಿನ ಪ್ರಗತಿಗಳು 130 ಎನ್ಎಂ ವಿನ್ಯಾಸ ನಿಯಮಗಳಿಂದ (ಮಾದರಿ ಆಧಾರಿತ ಒಪಿಸಿ ಅನ್ನು ಮೊದಲು ಬಳಸಿದಾಗ) ಅತ್ಯಂತ ಸುಧಾರಿತ ವಿನ್ಯಾಸ ನಿಯಮಗಳವರೆಗೆ ಅತ್ಯಂತ ನಿರ್ಣಾಯಕ ಮಾದರಿ ಪದರಗಳನ್ನು ರಾತ್ರೋರಾತ್ರಿ ಸರಿಪಡಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಟ್ಟಿದೆ. ಅತ್ಯಾಧುನಿಕ ಒಪಿಸಿ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಪದರಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯು ಸುಧಾರಿತ ನೋಡ್ಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಹಿಂದೆ ನಿರ್ಣಾಯಕವಲ್ಲದ ಪದರಗಳಿಗೆ ಈಗ ಪರಿಹಾರದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಒಪಿಸಿಯ ಬಳಕೆಯು ಇಂದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಎದುರಾಗುವ ಕಡಿಮೆ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಗೆ ಸೀಮಿತವಾಗಿಲ್ಲ, ಆದರೆ ನಿಖರವಾಗಿ ರೂಪಿಸಬಹುದಾದ ಯಾವುದೇ ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಚಿತ್ರ ತಿದ್ದುಪಡಿ ಯೋಜನೆಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಶಿಲಾಮುದ್ರಣದಲ್ಲಿ ಸಾಮೀಪ್ಯ ಪರಿಣಾಮದ ತಿದ್ದುಪಡಿಯನ್ನು ವಾಣಿಜ್ಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್-ಕಿರಣದ ಶಿಲಾಮುದ್ರಣ ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ವಯಂಚಾಲಿತ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವಾಗಿ ಸೇರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಅನೇಕ ಲಿಪಿಯೇತರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ತಮ್ಮದೇ ಆದ ಸಾಮೀಪ್ಯ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುವುದರಿಂದ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ-ಯಾಂತ್ರಿಕ ಹೊಳಪು ಅಥವಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಎಚ್ಚಣೆ, ಈ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಮೂಲ ಒಪಿಸಿಯೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಬಹುದು. ಸಬ್ರೆಸೊಲ್ಯೂಷನ್ ಅಸಿಸ್ಟ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳು (ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳು) ಸಬ್ರೆಸೊಲ್ಯೂಷನ್ ಅಸಿಸ್ಟ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳು (ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳು) ಉದ್ದೇಶಿತ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಂದ ಬೇರ್ಪಟ್ಟಿರುವ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಾಗಿವೆ ಆದರೆ ಅವುಗಳ ಮುದ್ರಣದಲ್ಲಿ ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಅವುಗಳನ್ನು ಸ್ವತಃ ಮುದ್ರಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಎಸ್. ಆರ್. ಎ. ಎಫ್. ಗಳನ್ನು ಮುದ್ರಿಸುವುದು ಒಂದು ನಿರ್ಣಾಯಕ ಇಳುವರಿ ನಿವಾರಕವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಅನಪೇಕ್ಷಿತ ಮುದ್ರಣವು ಸಂಭವಿಸಬಹುದಾದ ಎಸ್. ಆರ್. ಎ. ಎಫ್. ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು ಮತ್ತು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಒ. ಪಿ. ಸಿ. ಮಾದರಿಗಳ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಉದ್ದೇಶಿತ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಮರುಗಾತ್ರ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ಲಗತ್ತುಗಳಿಗಿಂತ ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳು ವಿವರ್ತನ ವರ್ಣಪಟಲದ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಪಷ್ಟವಾದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಬೀರುತ್ತವೆ. ಮುದ್ರಿಸದಿರುವ ಅವಶ್ಯಕತೆಯು ಕಡಿಮೆ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಅವುಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಸಂಭವನೀಯ ಪರಿಣಾಮಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು. ಆದ್ದರಿಂದ ಅವುಗಳ ಮುಖ್ಯ ಅನ್ವಯವೆಂದರೆ ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾದ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳಿಗೆ ಗಮನದ ಆಳವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವುದು (ದಟ್ಟವಾದ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳು ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ ನಿಯೋಜನೆಗೆ ಸಾಕಷ್ಟು ಸ್ಥಳಾವಕಾಶವನ್ನು ಬಿಡುವುದಿಲ್ಲ). ಎಸ್. ಆರ್. ಎ. ಎಫ್ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಆವರ್ತನಗಳು ಅಥವಾ ವಿವರ್ತನೆಯ ಕ್ರಮಗಳಿಗೆ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಮರುಹಂಚಿಕೆ ಮಾಡುವುದರಿಂದ, ಗಮನದ ಆಳವು ಬೆಳಕಿನ ಕೋನದ (ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಆವರ್ತನಗಳ ವರ್ಣಪಟಲದ ಕೇಂದ್ರ ಅಥವಾ ವಿವರ್ತನೆಯ ಕ್ರಮಗಳು) ಜೊತೆಗೆ ಪಿಚ್ (ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ಆವರ್ತನಗಳು ಅಥವಾ ವಿವರ್ತನೆಯ ಕ್ರಮಗಳ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆ) ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚು ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ವಿಭಿನ್ನ ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳು (ಸ್ಥಾನ, ಆಕಾರ, ಗಾತ್ರ) ವಿಭಿನ್ನ ಬೆಳಕಿನ ವಿಶೇಷಣಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು. ವಾಸ್ತವವಾಗಿ, ಕೆಲವು ಪಿಚ್ಗಳು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಬೆಳಕಿನ ಕೋನಗಳಿಗೆ ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ನಿಷೇಧಿಸುತ್ತವೆ. ಪಿಚ್ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಪೂರ್ವನಿರ್ಧರಿತವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಎಸ್. ಆರ್. ಎ. ಎಫ್. ಒ. ಪಿ. ಸಿ. ಯ ಬಳಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಕೆಲವು ಬೆಳಕಿನ ಕೋನಗಳನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಬೇಕು. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಆದಾಗ್ಯೂ, ಎಸ್ಆರ್ಎಎಫ್ಗಳು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪರಿಹಾರವಾಗಿರಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ, ಮತ್ತು ದಟ್ಟವಾದ ಪ್ರಕರಣವನ್ನು ಮಾತ್ರ ಸಮೀಪಿಸಬಹುದು, ಅದಕ್ಕೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಕಂಪ್ಯೂಟೇಶನಲ್ ಲಿಥೊಗ್ರಫಿ ಫೇಸ್-ಶಿಫ್ಟ್ ಮಾಸ್ಕ್ ಇನ್ವರ್ಸ್ ಲಿಥೊಗ್ರಫಿ ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಬಾಹ್ಯ ಕೊಂಡಿಗಳು ಫ್ರಾಂಕ್ ಜೆನ್ನಾರಿ ಲಿಥೊಗ್ರಫಿ (ಮೈಕ್ರೋಫ್ಯಾಬ್ರಿಕೇಶನ್) ಅವರ ರೇಖಾಚಿತ್ರಗಳೊಂದಿಗೆ ಒಪಿಸಿಯ ಅವಲೋಕನ