Capacitively coupled plasma
ಕೆಪ್ಯಾಸಿಟಿವ್ಲಿ ಕಪಲ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ (ಸಿಸಿಪಿ) ಕೈಗಾರಿಕಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮೂಲಗಳ ಅತ್ಯಂತ ಸಾಮಾನ್ಯ ವಿಧಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಇದು ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ಎರಡು ಲೋಹದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ಸಣ್ಣ ಅಂತರದಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಿ, ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನಲ್ಲಿನ ಅನಿಲದ ಒತ್ತಡವು ವಾತಾವರಣಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿರಬಹುದು ಅಥವಾ ಅದು ವಾತಾವರಣದಲ್ಲಿರಬಹುದು. ಒಂದು ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ಸಿಸಿಪಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಒಂದೇ ರೇಡಿಯೋ-ಆವರ್ತನ (ಆರ್ಎಫ್) ವಿದ್ಯುತ್ ಸರಬರಾಜಿನಿಂದ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 13.56 ಮೆಗಾಹರ್ಟ್ಝ್. ಎರಡು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದನ್ನು ವಿದ್ಯುತ್ ಸರಬರಾಜಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇನ್ನೊಂದನ್ನು ನೆಲಸಮಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ಸಂರಚನೆಯು ತಾತ್ವಿಕವಾಗಿ ವಿದ್ಯುತ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ನಲ್ಲಿ ಕೆಪಾಸಿಟರ್ಗೆ ಹೋಲುತ್ತದೆಯಾದ್ದರಿಂದ, ಈ ಸಂರಚನೆಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಕೆಪಾಸಿಟಿವ್ಲಿ ಕಪಲ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ನಡುವೆ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಿದಾಗ, ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಯಾನೀಕರಿಸಲ್ಪಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುತ್ತವೆ. ಅನಿಲದಲ್ಲಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳು ಆರ್ಎಫ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದ ವೇಗಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಘರ್ಷಣೆಗಳ ಮೂಲಕ ನೇರವಾಗಿ ಅಥವಾ ಪರೋಕ್ಷವಾಗಿ ಅನಿಲವನ್ನು ಅಯಾನೀಕರಿಸಬಹುದು, ದ್ವಿತೀಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತವೆ. ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಸಾಕಷ್ಟು ಬಲವಾಗಿದ್ದಾಗ, ಅದು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹಿಮಪಾತಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು. ಹಿಮಪಾತದ ಸ್ಥಗಿತದ ನಂತರ, ಹೇರಳವಾದ ಮುಕ್ತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳಿಂದಾಗಿ ಅನಿಲವು ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕವಾಗುತ್ತದೆ. ಆಗಾಗ್ಗೆ ಇದು ಅನಿಲದಲ್ಲಿನ ಉತ್ತೇಜಿತ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಣುಗಳಿಂದ ಬೆಳಕಿನ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಇರುತ್ತದೆ. ಗೋಚರ ಬೆಳಕನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಿದಾಗ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಬರಿ ಕಣ್ಣುಗಳಿಂದಲೂ ಪರೋಕ್ಷವಾಗಿ ಗಮನಿಸಬಹುದು. ಕೆಪ್ಯಾಸ್ಟಿವ್ ಕಪಲ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕೆಪಾಸಿಟರ್ನೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಕೆಪಾಸಿಟರ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಆರ್ಎಫ್ ಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಶಾರ್ಟ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ನಂತೆ ಕಾಣುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಕರೆಂಟ್ (ಡಿಸಿ) ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ನಿರ್ದೇಶಿಸಲು ತೆರೆದ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ನಂತೆ ಕಾಣುತ್ತದೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳು ಕೋಶದಲ್ಲಿನ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತವೆ, ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವು ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಋಣಾತ್ಮಕ ಚಾರ್ಜ್ ಅನ್ನು (ಅಥವಾ ಸ್ವಯಂ-ಬಯಾಸ್) ಪಡೆಯುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಕೆಪಾಸಿಟರ್ ಅದನ್ನು ನೆಲಕ್ಕೆ ಹೊರಹಾಕಲು ಅನುಮತಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಇದು ಪರ್ಯಾಯ ಪ್ರವಾಹ (ಎಸಿ) ಕ್ಷೇತ್ರದ ಜೊತೆಗೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಾದ್ಯಂತ ದ್ವಿತೀಯಕ, ಡಿಸಿ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುತ್ತದೆ. ಬೃಹತ್ ಅಯಾನುಗಳು ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಬದಲಾಗುತ್ತಿರುವ ಎಸಿ ಕ್ಷೇತ್ರಕ್ಕೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವುದಿಲ್ಲ, ಆದರೆ ಬಲವಾದ, ಸ್ಥಿರವಾದ ಡಿಸಿ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಅವುಗಳನ್ನು ಸ್ವಯಂ-ಪಕ್ಷಪಾತದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಕಡೆಗೆ ವೇಗಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾದ (ಸ್ವಯಂ-ಪಕ್ಷಪಾತದ) ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲೆ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಈ ಶಕ್ತಿಯುತ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಅನೇಕ ಮೈಕ್ರೋಫ್ಯಾಬ್ರಿಕೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಿಕೊಳ್ಳಲಾಗುತ್ತದೆ (ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅಯಾನ್ ಎಚ್ಚಣೆ (ಆರ್ಐಇ) ನೋಡಿ). ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣೆಗಾಗಿ (ಸ್ಪಟರಿಂಗ್, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ವರ್ಧಿತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (ಪಿಇಸಿವಿಡಿ) ನೋಡಿ) ಮತ್ತು ಎಚ್ಚಣೆಗಾಗಿ ಸಿಸಿಪಿಗಳು ಅರೆವಾಹಕ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ. ಇಂಡಕ್ಟಿವ್ ಕಪಲ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಎಚಿಂಗ್ ಮಲ್ಟಿಪ್ಯಾಕ್ಟರ್ ಎಫೆಕ್ಟ್ ಅನ್ನು ಸಹ ನೋಡಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರದ ಲೇಖನಗಳ ಪಟ್ಟಿ ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪ್ರಕಾರಗಳು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ ಉತ್ಪಾದನೆ