Chemical laser
ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ಎಂಬುದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ತನ್ನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಪಡೆಯುವ ಲೇಸರ್ ಆಗಿದೆ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳು ಮೆಗಾವ್ಯಾಟ್ ಮಟ್ಟವನ್ನು ತಲುಪುವ ಶಕ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ ನಿರಂತರ ತರಂಗ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ತಲುಪಬಹುದು. ಅವುಗಳನ್ನು ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಕತ್ತರಿಸಲು ಮತ್ತು ಕೊರೆಯಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳ ಸಾಮಾನ್ಯ ಉದಾಹರಣೆಗಳೆಂದರೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆಮ್ಲಜನಕ ಅಯೋಡಿನ್ ಲೇಸರ್ (ಸಿಒಐಎಲ್), ಎಲ್ಲಾ ಅನಿಲ-ಹಂತದ ಅಯೋಡಿನ್ ಲೇಸರ್ (ಎಜಿಐಎಲ್), ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಫ್ಲೋರೈಡ್ (ಎಚ್ಎಫ್) ಮತ್ತು ಡ್ಯುಟೆರಿಯಮ್ ಫ್ಲೋರೈಡ್ (ಡಿಎಫ್) ಲೇಸರ್ಗಳು, ಇವೆಲ್ಲವೂ ಮಧ್ಯ-ಅತಿಗೆಂಪು ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ. ಡಿಎಫ್-ಸಿಒ2 ಲೇಸರ್ (ಡ್ಯುಟೆರಿಯಮ್ ಫ್ಲೋರೈಡ್-ಕಾರ್ಬನ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್) ಸಹ ಇದೆ, ಇದು ಸಿಒಐಎಲ್ನಂತೆಯೇ "ವರ್ಗಾವಣೆ ಲೇಸರ್" ಆಗಿದೆ. ಎಚ್ಎಫ್ ಮತ್ತು ಡಿಎಫ್ ಲೇಸರ್ಗಳು ಅಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿದ್ದು, ಲೇಸಿಂಗ್ಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಮಿತಿಯನ್ನು ದಾಟಲು ಸಾಕಷ್ಟು ಶಕ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ ಹಲವಾರು ಆಣ್ವಿಕ ಶಕ್ತಿಯ ಪರಿವರ್ತನೆಗಳಿವೆ. ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಮರು-ವಿತರಿಸಲು ಅಣುಗಳು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಡಿಕ್ಕಿ ಹೊಡೆಯದ ಕಾರಣ, ಈ ಹಲವಾರು ಲೇಸರ್ ವಿಧಾನಗಳು ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಅಥವಾ ಅತ್ಯಂತ ವೇಗವಾಗಿ ಅನುಕ್ರಮವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ತರಂಗಾಂತರ ಆಯ್ಕೆ ಸಾಧನವನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸದ ಹೊರತು ಎಚ್ಎಫ್ ಅಥವಾ ಡಿಎಫ್ ಲೇಸರ್ ಹಲವಾರು ತರಂಗಾಂತರಗಳಲ್ಲಿ ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಸಿ. ಡಬ್ಲ್ಯೂ ರಾಸಾಯನಿಕ ಎಚ್. ಎಫ್./ಡಿ. ಎಫ್. ಲೇಸರ್ಗಳ ಮೂಲ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಕಂಪನಶೀಲವಾಗಿ ಉತ್ತೇಜಿತ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಅತಿಗೆಂಪು ಲೇಸರ್ಗಳ ರಚನೆಯ ಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಮೊದಲು 1961 ರಲ್ಲಿ ಜಾನ್ ಪೊಲಾನಿ ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಿದರು. ಪಲ್ಸ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಜೆರೋಮ್ ವಿ. ವಿ. ಕಾಸ್ಪರ್ ಮತ್ತು ಜಾರ್ಜ್ ಸಿ. ಪಿಮೆಂಟೆಲ್ ಅವರು 1965ರಲ್ಲಿ ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದರು. ಮೊದಲಿಗೆ, ಕ್ಲೋರಿನ್ (ಸಿಎಲ್2) ಅನ್ನು ಪರಮಾಣುಗಳಾಗಿ ತೀವ್ರವಾಗಿ ದ್ಯುತಿ-ಬೇರ್ಪಡಿಸಲಾಯಿತು, ನಂತರ ಅದು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ನೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿ, ಲೇಸರ್ಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಉತ್ತೇಜಿತ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಕ್ಲೋರೈಡ್ (ಎಚ್ಸಿಎಲ್) ಅನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ನಂತರ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಫ್ಲೋರೈಡ್ (ಎಚ್ಎಫ್) ಮತ್ತು ಡ್ಯೂಟೇರಿಯಂ ಫ್ಲೋರೈಡ್ (ಡಿಎಫ್) ಅನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾಯಿತು. ಪಿಮೆಂಟೆಲ್ ಡಿಎಫ್-ಸಿಒ2 ವರ್ಗಾವಣೆ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವೇಷಿಸಲು ಮುಂದಾಯಿತು. ಈ ಕೆಲಸವು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ನಿರಂತರ ತರಂಗ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸದಿದ್ದರೂ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗೆ ಪಂಪಿಂಗ್ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಇದು ದಾರಿ ಮಾಡಿಕೊಟ್ಟಿತು. ನಿರಂತರ ತರಂಗ (ಸಿಡಬ್ಲ್ಯೂ) ರಾಸಾಯನಿಕ ಎಚ್ಎಫ್ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಮೊದಲ ಬಾರಿಗೆ 1969 ರಲ್ಲಿ ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು 1972 ರಲ್ಲಿ ಡಿ. ಜೆ. ಸ್ಪೆನ್ಸರ್, ಟಿ. ಎ. ಜೇಕಬ್ಸ್, ಎಚ್. ಮಿರೆಲ್ಸ್ ಮತ್ತು ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ. ಎಫ್. ಗ್ರಾಸ್ ಅವರು ಕ್ಯಾಲಿಫೋರ್ನಿಯಾದ ಎಲ್ ಸೆಗುಂಡೋದಲ್ಲಿರುವ ದಿ ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಶನ್ನಲ್ಲಿ ಪೇಟೆಂಟ್ ಪಡೆದರು. ಈ ಸಾಧನವು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕುಹರದೊಳಗೆ ಪಕ್ಕದ H2 ಮತ್ತು Fನ ಹೊಳೆಗಳ ಮಿಶ್ರಣವನ್ನು ಬಳಸಿ, ಕಂಪನಶೀಲವಾಗಿ-ಉತ್ತೇಜಿತವಾದ HFಅನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸಿತು. ಡಿಸಿ ವಿದ್ಯುತ್ ವಿಸರ್ಜನೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಎಸ್ಎಫ್6 ಅನಿಲವನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪರಮಾಣು ಫ್ಲೋರಿನ್ ಅನ್ನು ಒದಗಿಸಲಾಗಿದೆ. ನಂತರ ಯು. ಎಸ್. ಸೇನೆ, ಯು. ಎಸ್. ವಾಯುಪಡೆ ಮತ್ತು ಯು. ಎಸ್. ನೌಕಾಪಡೆಯ ಗುತ್ತಿಗೆದಾರರ ಸಂಸ್ಥೆಗಳಲ್ಲಿ ಕೆಲಸ ಮಾಡಿದರು (ಉದಾ. ಟಿ. ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ) ಪರಮಾಣು ಫ್ಲೋರಿನ್ ಅನ್ನು ಒದಗಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸಿದರು, ಈ ಪರಿಕಲ್ಪನೆಯು ಸ್ಪೆನ್ಸರ್ ಮತ್ತು ಇತರರ ಪೇಟೆಂಟ್ ಬಹಿರಂಗಪಡಿಸುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಸೇರಿದೆ. ನಂತರದ ಸಂರಚನೆಯು ವಿದ್ಯುತ್ ಶಕ್ತಿಯ ಅಗತ್ಯವನ್ನು ನಿವಾರಿಸಿತು ಮತ್ತು ಮಿಲಿಟರಿ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ-ಶಕ್ತಿಯ ಲೇಸರ್ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಕಾರಣವಾಯಿತು. ಪಕ್ಕದ ಸೂಪರ್ಸಾನಿಕ್ ಸ್ಟ್ರೀಮ್ಗಳ ದ್ರವದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮಿಶ್ರಣ, ಬಹು ಸಮತೋಲನವಿಲ್ಲದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕುಹರದೊಂದಿಗೆ ಲಾಭ ಮಾಧ್ಯಮದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಪರಿಗಣಿಸುವ ಅಗತ್ಯದಿಂದಾಗಿ ಎಚ್ಎಫ್ ಲೇಸರ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು ಸಂಕೀರ್ಣವಾಗಿದೆ. ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಶನ್ನ ಸಂಶೋಧಕರು ಮೊದಲ ನಿಖರವಾದ ವಿಶ್ಲೇಷಣಾತ್ಮಕ (ಫ್ಲೇಮ್ ಶೀಟ್) ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದರು, ಇದು ಮೊದಲ ಸಂಖ್ಯಾತ್ಮಕ ಕಂಪ್ಯೂಟರ್ ಕೋಡ್ ಪರಿಹಾರ ಮತ್ತು ಸಿಡಬ್ಲ್ಯೂ ಎಚ್ಎಫ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ಮೊದಲ ಸರಳೀಕೃತ ಮಾದರಿಯಾಗಿದೆ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳು ಅನುರಣಕ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಗಾಗಿ ತರಂಗ-ಆಪ್ಟಿಕ್ಸ್ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸಿದವು. ಈ ಕೆಲಸವನ್ನು ಇ. ಎ. ಸ್ಜಿಕ್ಲಾಸ್ (ಪ್ರ್ಯಾಟ್ & ವಿಟ್ನಿ) ಮತ್ತು ಎ. ಇ. ಸೀಗ್ಮನ್ (ಸ್ಟ್ಯಾನ್ಫೋರ್ಡ್ ವಿಶ್ವವಿದ್ಯಾಲಯ) ಅವರು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದರು. ಅವರ ಕೆಲಸದ ಮೊದಲ ಭಾಗವು ಹರ್ಮೈಟ್-ಗಾಸಿಯನ್ ವಿಸ್ತರಣೆಯೊಂದಿಗೆ ವ್ಯವಹರಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಈಗ ಯುನೈಟೆಡ್ ಟೆಕ್ನಾಲಜೀಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಷನ್, ಲಾಕ್ಹೀಡ್ ಮಾರ್ಟಿನ್, ಎಸ್ಎಐಸಿ, ಬೋಯಿಂಗ್, ಟಿಒಎಸ್ಸಿ, ಎಂಝಡ್ಎ (ವೇವ್ ಟ್ರೈನ್) ಮತ್ತು ಒಪಿಸಿಐಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಸಾಧನವಾಗಿರುವ ಫಾಸ್ಟ್ ಫೋರಿಯರ್ ರೂಪಾಂತರ ವಿಧಾನದೊಂದಿಗೆ ವ್ಯವಹರಿಸಿದ ಎರಡನೇ ಭಾಗಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಕಡಿಮೆ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಪಡೆದಿದೆ. ಈ ಕಂಪನಿಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನವು 1970 ಮತ್ತು 1980ರ ದಶಕದುದ್ದಕ್ಕೂ DARPA, US ವಾಯುಪಡೆ, US ಸೇನೆ ಅಥವಾ US ನೌಕಾಪಡೆಗೆ HF ಮತ್ತು DF ಲೇಸರ್ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸುವ ಒಪ್ಪಂದಗಳಿಗೆ ಸ್ಪರ್ಧಿಸಿದವು. ಜನರಲ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಮತ್ತು ಪ್ರ್ಯಾಟ್ & ವಿಟ್ನಿ 1980ರ ದಶಕದ ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ಸ್ಪರ್ಧೆಯಿಂದ ಹೊರಬಂದರು ಮತ್ತು ಈ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ರಾಕೆಟ್ಡೈನ್ (ಈಗ ಪ್ರ್ಯಾಟ್ & ವಿಟ್ನಿಯ ಭಾಗವಾಗಿದೆ-ಆದಾಗ್ಯೂ ಲೇಸರ್ ಸಂಸ್ಥೆಯು ಇಂದು ಬೋಯಿಂಗ್ನೊಂದಿಗೆ ಉಳಿದಿದೆ) ಮತ್ತು ಟಿಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ (ಈಗ ನಾರ್ತ್ರೋಪ್ ಗ್ರಮ್ಮನ್ನ ಭಾಗವಾಗಿದೆ) ಗೆ ಬಿಟ್ಟರು. ಸಮಗ್ರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ಎಸ್. ಎ. ಐ. ಸಿ. ಯಲ್ಲಿ ಆರ್. ಸಿ. ವೇಡ್, ಟಿ. ಆರ್. ಡಬ್ಲ್ಯೂ. ನಲ್ಲಿ ಸಿ. ಸಿ. ಶಿಹ್, ಡಿ. ಬುಲಕ್ ಮತ್ತು ಎಂ. ಇ. ಲೈನ್ಹಾರ್ಟ್ ಮತ್ತು ರಾಕೆಟ್ಡೈನ್ನಲ್ಲಿ ಡಿ. ಎ. ಹೋಮ್ಸ್ ಮತ್ತು ಟಿ. ಆರ್. ವೇಟ್ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದರು. ಇವುಗಳಲ್ಲಿ, ಬಹುಶಃ ಅತ್ಯಂತ ಅತ್ಯಾಧುನಿಕವಾದದ್ದು ಟಿಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂನಲ್ಲಿನ ಸಿಆರ್ಒಕ್ಯೂ ಕೋಡ್ ಆಗಿದ್ದು, ಇದು ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಶನ್ನಲ್ಲಿನ ಆರಂಭಿಕ ಕೆಲಸವನ್ನು ಮೀರಿಸಿದೆ. ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಆರಂಭಿಕ ವಿಶ್ಲೇಷಣಾತ್ಮಕ ಮಾದರಿಗಳು ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ದರ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಯುನೈಟೆಡ್ ಏರ್ಕ್ರಾಫ್ಟ್ ಮತ್ತು ದಿ ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಶನ್ನಲ್ಲಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಸಿಡಬ್ಲ್ಯೂ ಎಚ್ಎಫ್ ಲೇಸರ್ ಸಾಧನಗಳ ವಿನ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾದವು. 10 ಕಿಲೋವ್ಯಾಟ್ ವರೆಗಿನ ವಿದ್ಯುತ್ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಯಿತು. ಡಿಎಫ್ ಲೇಸಿಂಗ್ಅನ್ನು ಎಚ್2ಗೆ ಡಿ2ಅನ್ನು ಬದಲಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪಡೆಯಲಾಯಿತು. ಯುನೈಟೆಡ್ ಏರ್ಕ್ರಾಫ್ಟ್ ರಿಸರ್ಚ್ ಲ್ಯಾಬೊರೇಟರೀಸ್ನ ಒಂದು ಗುಂಪು ಮರು-ಪರಿಚಲನೆಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಿತು, ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾಕಾರಿಗಳ ನಿರಂತರ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರಲಿಲ್ಲ. ಕ್ಯಾಲಿಫೋರ್ನಿಯಾದ ರೆಡೊಂಡೋ ಬೀಚ್ನಲ್ಲಿರುವ TRW ಸಿಸ್ಟಮ್ಸ್ ಗ್ರೂಪ್, ತರುವಾಯ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ CW HF/DF ಲೇಸರ್ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಲು US ವಾಯುಪಡೆಯ ಒಪ್ಪಂದಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಿತು. ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಕಾರ್ಪೊರೇಷನ್ ವಿನ್ಯಾಸದ ಸ್ಕೇಲ್-ಅಪ್ ಆವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು, ಟಿಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ 100 ಕಿಲೋವ್ಯಾಟ್ ವಿದ್ಯುತ್ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಸಾಧಿಸಿತು. ಜನರಲ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್, ಪ್ರ್ಯಾಟ್ & ವಿಟ್ನಿ, ಮತ್ತು ರಾಕೆಟ್ಡೈನ್ ಇನ್ನೂ ದೊಡ್ಡ ಲೇಸರ್ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಲು ಡಿಒಡಿ ಒಪ್ಪಂದಗಳನ್ನು ಪಡೆಯುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಲ್ಲಿ ಕಂಪನಿಯ ನಿಧಿಯಲ್ಲಿ ವಿವಿಧ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಿದವು. ರಾಕೆಟ್ಡೈನ್ ಮಾತ್ರ ಟಿಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ಜೊತೆ ಸ್ಪರ್ಧೆಯನ್ನು ಮುಂದುವರಿಸಲು ಸಾಕಷ್ಟು ಮೌಲ್ಯದ ಒಪ್ಪಂದಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಿತು. TRW ಯು ಯು. ಎಸ್. ನೌಕಾಪಡೆಗೆ MIRACL ಸಾಧನವನ್ನು ತಯಾರಿಸಿತು, ಅದು ಮೆಗಾವ್ಯಾಟ್ ವಿದ್ಯುತ್ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಸಾಧಿಸಿತು. ಎರಡನೆಯದನ್ನು ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ (2007) ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದ ಯಾವುದೇ ರೀತಿಯ ಅತ್ಯುನ್ನತ ಶಕ್ತಿಯ ನಿರಂತರ ಲೇಸರ್ ಎಂದು ನಂಬಲಾಗಿದೆ. ಡಿಆರ್ಪಿಎ ಜೆನಿತ್ ಸ್ಟಾರ್ಗಾಗಿ ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ (ಆಲ್ಫಾ ಲೇಸರ್) ಅನ್ನು ಸಹ ಟಿಆರ್ಡಬ್ಲ್ಯೂ ತಯಾರಿಸಿತು, ಇದು ಇನ್ನೂ ದೊಡ್ಡ ಶಕ್ತಿಗಳಿಗೆ ಸ್ಕೇಲೆಬಲ್ ಆಗುವ ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಹೊಂದಿತ್ತು. ಆದಾಗ್ಯೂ, 1990 ರ ಹೊತ್ತಿಗೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳಲ್ಲಿನ ಆಸಕ್ತಿಯು ಕಡಿಮೆ ತರಂಗಾಂತರಗಳ ಕಡೆಗೆ ಬದಲಾಯಿತು, ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಆಮ್ಲಜನಕ ಅಯೋಡಿನ್ ಲೇಸರ್ (COIL) ಹೆಚ್ಚಿನ ಆಸಕ್ತಿಯನ್ನು ಗಳಿಸಿತು, 1.315 μm ನಲ್ಲಿ ವಿಕಿರಣವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಿತು. COIL ಲೇಸರ್ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಏಕ ತರಂಗಾಂತರದ ವಿಕಿರಣವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ ಎಂಬ ಮತ್ತೊಂದು ಪ್ರಯೋಜನವಿದೆ, ಇದು ಚೆನ್ನಾಗಿ ಕೇಂದ್ರೀಕೃತವಾದ ಕಿರಣವನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಬಹಳ ಸಹಾಯಕವಾಗಿದೆ. ಈ ರೀತಿಯ ಸಿಒಐಎಲ್ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಇಂದು ಎಬಿಎಲ್ನಲ್ಲಿ (ಏರ್ಬೋರ್ನ್ ಲೇಸರ್, ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಸ್ವತಃ ನಾರ್ತ್ರೋಪ್ ಗ್ರುಮನ್ ನಿರ್ಮಿಸುತ್ತಿದ್ದಾರೆ) ಮತ್ತು ಬೋಯಿಂಗ್ ತಯಾರಿಸಿದ ಎಟಿಎಲ್ನಲ್ಲಿ (ಅಡ್ವಾನ್ಸ್ಡ್ ಟ್ಯಾಕ್ಟಿಕಲ್ ಲೇಸರ್) ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಏತನ್ಮಧ್ಯೆ, ಯು. ಎಸ್. ಆರ್ಮಿ ಎಸ್ಎಂಡಿಸಿಯ ಸಹಕಾರದೊಂದಿಗೆ ಇಸ್ರೇಲಿ ರಕ್ಷಣಾ ಸಚಿವಾಲಯಕ್ಕಾಗಿ 1990 ರ ದಶಕದ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ನಿರ್ಮಿಸಲಾದ ಟಿಹೆಚ್ಇಎಲ್ (ಟ್ಯಾಕ್ಟಿಕಲ್ ಹೈ ಎನರ್ಜಿ ಲೇಸರ್) ಗಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಶಕ್ತಿಯ ಎಚ್ಎಫ್ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು. ರಾಕೆಟ್ಗಳು ಮತ್ತು ಫಿರಂಗಿಗಳ ವಿರುದ್ಧ ಸಾಕಷ್ಟು ವಾಸ್ತವಿಕ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳಲ್ಲಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿತ್ವವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದ ಮೊದಲ ಫೀಲ್ಡ್ ಹೈ ಎನರ್ಜಿ ಲೇಸರ್ ಇದಾಗಿದೆ. ವೈಟ್ ಸ್ಯಾಂಡ್ಸ್ ಕ್ಷಿಪಣಿ ಶ್ರೇಣಿಯಲ್ಲಿ ಅದರ ಮುಂದೆ ಹಾರಿಸಲಾದ ಕೆಲವು ಗುರಿಗಳ ವಿರುದ್ಧ ಎಮ್ಐಆರ್ಎಸಿಎಲ್ ಲೇಸರ್ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿತ್ವವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದೆ, ಆದರೆ ಇದನ್ನು ಫೀಲ್ಡ್ ಶಸ್ತ್ರಾಸ್ತ್ರವಾಗಿ ನಿಜವಾದ ಸೇವೆಗಾಗಿ ಕಾನ್ಫಿಗರ್ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ. ಗಮನಾರ್ಹ ಶ್ರೇಣಿಗಳಿಂದ ಹಲವಾರು ಪೂರ್ಣ ಗಾತ್ರದ ಕ್ಷಿಪಣಿಗಳನ್ನು ಹೊಡೆದುರುಳಿಸುವಲ್ಲಿ ಎಬಿಎಲ್ ಯಶಸ್ವಿಯಾಯಿತು ಮತ್ತು ಚಲಿಸುವ ಭೂ ವಾಹನಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಯುದ್ಧತಂತ್ರದ ಗುರಿಗಳನ್ನು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಲ್ಲಿ ಎಟಿಎಲ್ ಯಶಸ್ವಿಯಾಯಿತು. ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅನುಕೂಲಗಳ ಹೊರತಾಗಿಯೂ, ರಕ್ಷಣಾ ಇಲಾಖೆಯು 2012 ರಲ್ಲಿ ಏರ್ಬೋರ್ನ್ ಲೇಸರ್ ಟೆಸ್ಟ್ಬೆಡ್ನ ಮುಕ್ತಾಯದೊಂದಿಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಲೇಸರ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ಎಲ್ಲಾ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ನಿಲ್ಲಿಸಿತು. "ನವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ" ವಿದ್ಯುತ್ ಮೂಲದ ಬಯಕೆ, ಅಂದರೆ. ಫ್ಲೋರೀನ್, ಡ್ಯೂಟೇರಿಯಂ, ಮೂಲ ಹೈಡ್ರೋಜನ್-ಪೆರಾಕ್ಸೈಡ್ ಅಥವಾ ಅಯೋಡಿನ್ನಂತಹ ಅಸಾಮಾನ್ಯ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸದಿರುವುದು ಡಯೋಡ್ ಪಂಪ್ ಮಾಡಿದ ಕ್ಷಾರ ಲೇಸರ್ಗಳ (ಡಿಪಿಎಎಲ್ಎಸ್) ನಂತಹ ವಿದ್ಯುತ್ ಪಂಪ್ ಮಾಡಿದ ಲೇಸರ್ಗಳಿಗೆ ಡಿಒಡಿ ಒತ್ತಲು ಕಾರಣವಾಯಿತು. "ಇನ್ಸೈಡ್ ದಿ ಆರ್ಮಿ" ವಾರಪತ್ರಿಕೆಯ ವರದಿಯು "ಡೈರೆಕ್ಟೆಡ್ ಎನರ್ಜಿ ಮಾಸ್ಟರ್ ಪ್ಲಾನ್" ಅಮೇರಿಕನ್ ಆವಿಷ್ಕಾರಗಳ ಉಲ್ಲೇಖಗಳನ್ನು ಉಲ್ಲೇಖಿಸುತ್ತದೆ.