Dick effect
ಡಿಕ್ ಪರಿಣಾಮವು (ಇನ್ನು ಮುಂದೆ; "ಪರಿಣಾಮ") ಪರಮಾಣು ಕಾರಂಜಿಗಳು ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಲ್ಯಾಟಿಸ್ ಗಡಿಯಾರಗಳಂತಹ ಆಧುನಿಕ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳ ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಮಿತಿಯಾಗಿದೆ. ಇದು ಒಂದು ಅಲಿಯಾಸಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆಃ ಅಗತ್ಯವಾದ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕದಲ್ಲಿ (ಎಲ್. ಓ.) ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದವನ್ನು ನಿಯತಕಾಲಿಕ ವಿಚಾರಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಶೂನ್ಯ ಆವರ್ತನಕ್ಕೆ ಅಲಿಯಾಸಿಡ್ (ಹೆಟೆರೊಡೈನ್ಡ್) ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಎಲ್. ಓ. ನ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಪರಮಾಣುಗಳಿಗೆ ಲಾಕ್ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಶಬ್ದವು ಗಡಿಯಾರದ ಅಂತರ್ಗತ ಸಂಖ್ಯಾಶಾಸ್ತ್ರೀಯ ಅಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಅನುಕರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದನ್ನು ಲಭ್ಯವಿರುವ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಫೋಟಾನ್ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯಿಂದ ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹಾಗೆ ಮಾಡುವಾಗ, ಪರಿಣಾಮವು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕುಗ್ಗಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಎಲ್ಒ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಹೊಸ ಮತ್ತು ಕಠಿಣ ಬೇಡಿಕೆಗಳನ್ನು ಇರಿಸುತ್ತದೆ. ಯಾವುದೇ ವಿಚಾರಣೆಯ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರಕ್ಕೆ, ಎಲ್. ಓ. ಶಬ್ದದ ವರ್ಣಪಟಲದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಕ್ವಾಂಟಮ್-ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಸೆನ್ಸಿಟಿವಿಟಿ ಕಾರ್ಯವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಬಹುದು. ಜಿ. ಜಾನ್ ಡಿಕ್ ಅವರು ಪರಿಚಯಿಸಿದ ಈ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರದ ವಿಧಾನವನ್ನು ಈಗ ಸುಧಾರಿತ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳ ವಿನ್ಯಾಸದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಜೊತೆಗೆ ಪರಮಾಣು-ತರಂಗ ಇಂಟರ್ಫೆರೊಮೆಟ್ರಿ, ಆವರ್ತನ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಹೋಲಿಕೆ ಮತ್ತು ಮಾಪನ ವಿಜ್ಞಾನದ ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳ ವಿಧಾನಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹಿನ್ನೆಲೆ ಸಾಮಾನ್ಯ ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದ ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅಲನ್ ವಿಚಲನದಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸರಾಸರಿ ಸಮಯದ ಕಾರ್ಯವಾಗಿ ಭಾಗಶಃ ಆವರ್ತನದ ನಿರೀಕ್ಷಿತ ಸಂಖ್ಯಾಶಾಸ್ತ್ರೀಯ ವ್ಯತ್ಯಾಸದ ಅಳತೆಯಾಗಿದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಗಡಿಯಾರದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಅಲ್ಪಾವಧಿಯ ಏರಿಳಿತಗಳು (ಆವರ್ತನ ಅಥವಾ ಹಂತದ ಶಬ್ದ) ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ವಿಸ್ತೃತ ಅವಧಿಗೆ ಸರಾಸರಿ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಗಡಿಯಾರದ ನಿಖರತೆಯಂತೆಯೇ ಇಲ್ಲ, ಇದು ಕೆಲವು ಸಂಪೂರ್ಣ ಮಾನದಂಡದಿಂದ ಸರಾಸರಿ ಆವರ್ತನದ ನಿರೀಕ್ಷಿತ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಅಂದಾಜು ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಗಡಿಯಾರದ ಉಪಯುಕ್ತತೆಗೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆಯು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆಃ ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ನಿಖರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದರೂ ಸಹ, ಕಳಪೆ ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಗಡಿಯಾರಕ್ಕೆ ಒಂದೇ ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಖರತೆಯ ಪರೀಕ್ಷೆ ಅಥವಾ ಹೋಲಿಕೆಗೆ ಒಂದು ವಾರ ಅಥವಾ ಅದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸರಾಸರಿ ಬೇಕಾಗಬಹುದು. ಅಂತಹ ಗಡಿಯಾರವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಗಡಿಯಾರದಷ್ಟು ಉಪಯುಕ್ತವಾಗುವುದಿಲ್ಲ; ಪರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ದಿನಗಳ ಬದಲಿಗೆ ಗಂಟೆಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಧಿಸಬಲ್ಲ ಗಡಿಯಾರ. ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯು ಪರಮಾಣುಗಳು ಮತ್ತು ಎಲ್. ಓ. ಗಳ ನಡುವಿನ ಅಪೂರ್ಣ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಿಂದಾಗಿ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದಿಂದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿನ ಅಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಈ ಹಿಂದೆ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಅರ್ಥೈಸಲಾಗಿತ್ತು. ಈ ಅಸ್ಥಿರತೆಯು ಅಲ್ಪಾವಧಿಯ ಸ್ವರೂಪದ್ದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಗಡಿಯಾರದ ಉಪಯುಕ್ತತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲ. ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, ಪರಿಣಾಮವು ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳಿಗೆ ಮೂಲಭೂತ ಫೋಟಾನ್-ಅಥವಾ ಪರಮಾಣು-ಎಣಿಕೆಯ ಮಿತಿಯಿಂದಾಗಿ ಅದೇ ಪಾತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ (ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅದಕ್ಕಿಂತ ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ). ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಮತ್ತು ಅಮೋನಿಯಾವನ್ನು ಹೊರತುಪಡಿಸಿ (ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಮೇಸರ್, ಅಮೋನಿಯಾ ಮೇಸರ್), ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳಲ್ಲಿನ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನುಗಳು ಬಳಸಬಹುದಾದ ಔಟ್ಪುಟ್ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಒದಗಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಬದಲಿಗೆ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಅಥವಾ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಲೋಕಲ್ ಆಸಿಲೇಟರ್ (ಎಲ್ಒ) ಅಗತ್ಯವಾದ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಒ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಅಲ್ಪಾವಧಿಯ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ; ಪರಮಾಣುಗಳಿಂದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಅದರ ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸುವ ಮೂಲಕ ದೀರ್ಘಾವಧಿಯ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮುಂದುವರಿದ ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳಲ್ಲಿ ಪರಮಾಣು ವಿಚಾರಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅನುಕ್ರಮ ಸ್ವರೂಪದ್ದಾಗಿರುತ್ತದೆಃ ಸ್ಥಿತಿ-ಸಿದ್ಧತೆಯ ನಂತರ, ಪರಮಾಣುಗಳ ಆಂತರಿಕ ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅವಧಿಗೆ ಎಲ್. ಓ. ನಿಂದ ಸಂಕೇತದ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಆಂದೋಲನ ಮಾಡಲು ಅನುಮತಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಅವಧಿಯ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ, ಸ್ಥಿತಿಯು ಬದಲಾಗಿದೆಯೇ (ಮತ್ತು ಎಷ್ಟು) ಎಂಬುದನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಿಗ್ನಲ್ ಮೂಲಕ ಪ್ರಶ್ನಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಮಾಹಿತಿಯನ್ನು ಎಲ್. ಓ. ನ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮತ್ತೆ ಮತ್ತೆ ಪುನರಾವರ್ತಿಸಿದರೆ, ಇದು ಎಲ್. ಓ. ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯೊಂದಿಗೆ ನಿರಂತರ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯನ್ನು ಶಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ವಾಸ್ತವವಾಗಿ, ಅಂತಹ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಎಲ್ಒ ಔಟ್ಪುಟ್ನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ದೀರ್ಘ ಅಳತೆಯ ಸಮಯದವರೆಗೆ ಪರಮಾಣುಗಳ ಸಂಖ್ಯಾಶಾಸ್ತ್ರೀಯ ಮಿತಿಯನ್ನು ತಲುಪಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ ಎಂದು ಈ ಹಿಂದೆ ಭಾವಿಸಲಾಗಿತ್ತು. ಪರಿಣಾಮವು ಈ ಸಂತೋಷದ ಚಿತ್ರಣವನ್ನು ಅಡ್ಡಿಪಡಿಸುವ ಅಸ್ಥಿರತೆಯ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಮೂಲವಾಗಿದೆ. ಇದು ಎಲ್. ಓ. ನಲ್ಲಿನ ಹಂತದ ಶಬ್ದ ಮತ್ತು ವಿಚಾರಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿನ ನಿಯತಕಾಲಿಕ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉದ್ಭವಿಸುತ್ತದೆ. ವಿಚಾರಣೆಯ ಅವಧಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಲಾಭ ಅಲಿಯಾಸ್ (ಅಥವಾ ಹೆಟೆರೊಡೈನ್) ಎಲ್ಒ ಶಬ್ದದಲ್ಲಿನ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳು ಶೂನ್ಯ ಆವರ್ತನಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರವಾಗುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಇದು ಅಸ್ಥಿರತೆಗೆ (ಅಲನ್ ವಿಚಲನ) ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಅಳತೆಯ ಸಮಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರೊಂದಿಗೆ ನಿಧಾನವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿದ ಅಸ್ಥಿರತೆಯು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದ ಉಪಯುಕ್ತತೆಯನ್ನು ಮಿತಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅಗತ್ಯವಾದ ಎಲ್. ಓ. ಗೆ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ (ಮತ್ತು ಸಂಬಂಧಿತ ವೆಚ್ಚ) ಮೇಲೆ ಕಠಿಣ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆಃ ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುವುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ (ಪರಮಾಣುಗಳ ಅತಿ-ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಅದರ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು); ಇದು ಈಗ ಅತ್ಯುತ್ತಮ (ಕಡಿಮೆ) ಹಂತದ ಶಬ್ದವನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿರಬೇಕು. ಪರಿಣಾಮದ ಸರಳವಾದ, ಆದರೆ ಅಪೂರ್ಣವಾದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು, ಮುಂದಿನ ವಿಚಾರಣೆಗೆ ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಲು ಅಗತ್ಯವಾದ ನಿಗದಿತ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಎಲ್. ಓ ಆವರ್ತನ ಅಥವಾ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಯಾವುದೇ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಪತ್ತೆಯಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಅದನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂಬುದನ್ನು ಗಮನಿಸುವುದರ ಮೂಲಕ ಕಂಡುಹಿಡಿಯಬಹುದು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ವಿಧಾನವು ಪರಮಾಣುಗಳು ಎಲ್. ಓ. ನಿಂದ ಸಂಕೇತದ ನಾಡಿಮಿಡಿತಗಳಿಗೆ ಒಡ್ಡಿಕೊಂಡಾಗ ಅವುಗಳ ಕ್ವಾಂಟಮ್-ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವುದಿಲ್ಲ. ಇದು ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಸಮಯ-ಅವಲಂಬಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಸಂವೇದನೆಯ ಕಾರ್ಯದ ಮೂಲಕ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯಲ್ಲಿ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಎಲ್. ಓ. ಅನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಟ್ರ್ಯಾಕ್ಡ್-ಅಯಾನ್ ಫ್ರೀಕ್ವೆನ್ಸಿ ಸ್ಟ್ಯಾಂಡರ್ಡ್ನ ಪರಿಣಾಮದ ಮುನ್ಸೂಚನೆಗಳನ್ನು ಇಲ್ಲಿನ ಗ್ರಾಫ್ಗಳು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ. ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಜೊತೆಗೆ, ಸ್ಫಟಿಕದ ಆಂದೋಲಕಗಳು ಬಹಳ ಚೆನ್ನಾಗಿ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಲಾದ ಶಬ್ದದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆಃ ಅವುಗಳ ಆವರ್ತನದ ಏರಿಳಿತಗಳನ್ನು ಬಹಳ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಆವರ್ತನ ಮತ್ತು ಸಮಯದ ಮೇಲೆ ಮಿನುಗುವ ಆವರ್ತನ ಎಂದು ನಿರೂಪಿಸಲಾಗಿದೆ. ಇಲ್ಲಿ ಗ್ರಾಫ್ಗಳಲ್ಲಿ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಎಲ್. ಓ. ಗೆ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಫ್ಲಿಕರ್ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದವು ಸ್ಥಿರವಾದ ಅಲನ್ ವಿಚಲನಕ್ಕೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಟ್ ಮೇಲಿನ "ನಿರೀಕ್ಷಿತ" ವಕ್ರರೇಖೆಯು ಪರಮಾಣುಗಳ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಎಲ್ಒನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೇಗೆ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಅಳತೆಯ ಸಮಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿದಂತೆ (ದಾಳಿಯ ಸಮಯಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಮಯದವರೆಗೆ) ಸ್ಥಿರತೆಯು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಸುಮಾರು 10,000 ಸೆಕೆಂಡುಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಮಯದವರೆಗೆ ಪರಮಾಣುಗಳ ಅಂತರ್ಗತ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಮೀಪಿಸುತ್ತದೆ. "ನಿಜವಾದ" ವಕ್ರರೇಖೆಯು ಪರಿಣಾಮದಿಂದ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಹೇಗೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣುಗಳ ಅಂತರ್ಗತ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಮೀಪಿಸುವ ಬದಲು, ಎಲ್. ಓ. ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಈಗ ಹೆಚ್ಚಿನ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ರೇಖೆಯನ್ನು ಸಮೀಪಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ರೇಖೆಯ ಇಳಿಜಾರು ಪರಮಾಣು ಮಿತಿಯನ್ನು ಹೋಲುತ್ತದೆ (ಲಾಗ್-ಲಾಗ್ ಪ್ಲಾಟ್ನಲ್ಲಿ ಮೈನಸ್ ಒಂದು ಅರ್ಧ), ಚಕ್ರದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅಳೆಯಲಾದ ಎಲ್. ಓ. ಗೆ ಹೋಲಿಸಬಹುದಾದ ಮೌಲ್ಯದೊಂದಿಗೆ, ಸಣ್ಣ ನೀಲಿ (ಕೆಳಕ್ಕೆ) ಬಾಣದಿಂದ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮೌಲ್ಯವು (ನೀಲಿ ಬಾಣದ ಉದ್ದ) ಪರಮಾಣು ವಿಚಾರಣೆ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರದ ವಿವರಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಂವೇದನೆ ಕಾರ್ಯ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಬಹುದು. ಇಲ್ಲಿ ಎರಡನೇ ರೇಖಾಚಿತ್ರವು ಎಲ್ಒನ ವಿವಿಧ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಂಶಗಳು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಕ್ಕೆ ಹೇಗೆ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು ಎಂಬುದನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. "ಹಿಂದೆ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಿದ ಎಲ್ಒ ಇಂಪ್ಯಾಕ್ಟ್" ಎಂದು ಹೆಸರಿಸಲಾದ ಅವಲಂಬನೆಯು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಲೂಪ್ಗೆ "ಅಟ್ಯಾಕ್ ಟೈಮ್" ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಮಯದವರೆಗೆ ಸರಿಸುಮಾರು ಅವಲಂಬನೆಯೊಂದಿಗೆ ಎಲ್ಒನ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಸುಧಾರಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಅಳತೆ ಸಮಯದ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು, ಪ್ರತಿ ಅಳತೆಗೆ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಪರಮಾಣುಗಳು ಮತ್ತು ಫೋಟಾನ್ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಗಳಲ್ಲಿನ ಸಂಖ್ಯಾಶಾಸ್ತ್ರೀಯ ವ್ಯತ್ಯಾಸದಿಂದಾಗಿ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಸೀಮಿತ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಸಮೀಪಿಸುತ್ತದೆ. ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, ಪರಿಣಾಮವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಎಲ್. ಓ ಹಂತದ ಶಬ್ದದ ಮೇಲೆ ಪ್ರತಿ-ಅಂತರ್ಬೋಧೆಯ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸಲು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡದ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ. ಇಲ್ಲಿ ಚಕ್ರ ಸಮಯಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಎಲ್. ಓ. ಯ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಅದರ ಸಂಪೂರ್ಣ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಮಾಣು ಮಾನದಂಡದ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಇದಲ್ಲದೆ, ಇದು ಗಡಿಯಾರವು ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಅಂತರ್ಗತವಾಗಿರುವ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಎಂದಿಗೂ ಸಮೀಪಿಸದಂತೆ ತಡೆಯುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಒ ಅಲಿಯಾಸಿಂಗ್ನ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು ರೂಪಿಸುವ ಎರಡು ಪ್ರಬಂಧಗಳನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಿದ ಕೆಲವೇ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ, ವಿಧಾನವನ್ನು ಪ್ರಾಯೋಗಿಕವಾಗಿ ಪರಿಶೀಲಿಸಲಾಯಿತು, ಇದನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಟೈಮ್ ಮತ್ತು ಫ್ರೀಕ್ವೆನ್ಸಿ ಸಮುದಾಯವು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಂಡಿತು ಮತ್ತು ಅನೇಕ ಸುಧಾರಿತ ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳ ವಿನ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಯಿತು. ಇದನ್ನು ಲೆಮಾಂಡೆ ಮತ್ತು ಇತರರು ಸ್ಪಷ್ಟಪಡಿಸಿದ್ದಾರೆ. (1998) ಹೆಚ್ಚು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಕ್ವಾಂಟಮ್-ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಿದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯದ ವ್ಯುತ್ಪತ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ, ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಸ್ಯಾಂಟರೇಲಿ ಮತ್ತು ಇತರರು ಸಾಮಾನ್ಯೀಕರಿಸಿದರು. (1996) ಸಮಯದ ಸಮರೂಪತೆಯಿಲ್ಲದೆ ವಿಚಾರಣೆ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲು. ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮಿತಿಗಳನ್ನು ಹಿಂದೆ ನಿಖರತೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಫೋಟಾನ್-ಅಥವಾ ಪರಮಾಣು-ಎಣಿಕೆಯ ಮಿತಿಯಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು, ಪರಿಣಾಮವು ಈಗ ಚಿತ್ರದ ಮೂರನೇ ಭಾಗವಾಗಿದೆ. ಈ ಆರಂಭಿಕ ಹಂತವು 1998ರಲ್ಲಿ ಅಲ್ಟ್ರಾಸಾನಿಕ್ಸ್, ಫೆರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ಫ್ರೀಕ್ವೆನ್ಸಿ ಕಂಟ್ರೋಲ್ ಕುರಿತ ಐ. ಇ. ಇ. ವಹಿವಾಟುಗಳ ಜರ್ನಲ್ಗಾಗಿ ಡಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶೇಷ ಸಂಚಿಕೆಯಲ್ಲಿ ನಾಲ್ಕು ಪ್ರಬಂಧಗಳ ಪ್ರಕಟಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಮುಕ್ತಾಯಗೊಂಡಿತು. ಅನೇಕ ವಿಭಿನ್ನ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳಿಗೆ ಬಳಸುವ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ನಿಖರವಾಗಿ ಲೆಕ್ಕಹಾಕಲು ಸಂಶೋಧಕರಿಗೆ ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಟ್ಟ ಗಣಿತದ ಚೌಕಟ್ಟಿನ ಪ್ರಸ್ತುತಿಯು ಬಹುಶಃ ಡಿಕ್ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಅತ್ಯಂತ ಮಹತ್ವದ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆ. ಪರಿಣಾಮವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸುಧಾರಿತ ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಅತ್ಯಂತ ಮಹತ್ವದ ಮಿತಿಯಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಆ ಸಮಯದಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕೆಲಸವು ಸುಧಾರಣೆಯ ಕಾರ್ಯತಂತ್ರಗಳ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಿದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಪರಿಣಾಮ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯವು ಹಲವಾರು ತಾಂತ್ರಿಕ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರಗತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಟ್ಟಿದೆ. ಪರಿಣಾಮದಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಸೀಮಿತ ಅಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಎಲ್. ಓ. ನ ಹಂತದ ಶಬ್ದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಲಾದ ವಿಚಾರಣೆ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರದಿಂದ ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಸಿದ್ಧಾಂತದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ವಿವಿಧ ರೀತಿಯ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳಿಗೆ ರೂಪಿಸಲಾಗಿದೆ. ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಪರಮಾಣು ಕಾರಂಜಿ ಗಡಿಯಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಕೆಲಸ ಮಾಡುವ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯಗಳು ಈ ಹಿಂದೆ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಪರಮಾಣು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳಿಗೆ ಉಲ್ಲೇಖವಾಗಿ ಬಳಸಿದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಅಲ್ಟ್ರಾಸ್ಟಬಲ್ ಆಸಿಲೇಟರ್ (ಯುಎಸ್ಒ) ಅನ್ನು ಬದಲಿಸಲು ಕ್ರಯೋಜೆನಿಕ್ ಅಥವಾ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಎಲ್ಒ ತಂತ್ರಗಳಿಗೆ ತಿರುಗಿವೆ. ಗಡಿಯಾರದಲ್ಲಿನ ಅಂತರ್ಗತ ಪರಮಾಣು ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಯುಎಸ್ಒನ ಅಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದಾದರೂ, ಪರಿಣಾಮದಿಂದ ರೂಪಾಂತರಗೊಂಡ ಅದರ ಹಂತದ ಶಬ್ದವು ಈಗ ಗಡಿಯಾರದ ಅಸ್ಥಿರತೆಯ ಪ್ರಾಥಮಿಕ ಮೂಲವಾಗಿದೆ, ಹಿಂದಿನ ವಿಭಾಗದಲ್ಲಿ ಗ್ರಾಫ್ ತೋರಿಸಿದೆ. ಕ್ರಯೋಜೆನಿಕ್ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ತಂತ್ರಗಳು ಪರಮಾಣು ಮಾನದಂಡದ ಅಂತರ್ಗತ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು ಅಗತ್ಯವಾದ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಹಂತದ ಶಬ್ದ ಎರಡನ್ನೂ ಒದಗಿಸುತ್ತವೆ. ಈ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಲೇಸರ್-ತಂಪಾಗುವ ಪರಮಾಣುಗಳ ಚೆಂಡನ್ನು ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಕುಹರದ ಮೂಲಕ ಮೇಲ್ಮುಖವಾಗಿ ಎಸೆಯುವ ಮೂಲಕ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಇದು ಪ್ರತಿ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಪರಮಾಣುವಿನಲ್ಲಿ ಗಡಿಯಾರವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣುಗಳು ಕೆಳಮುಖವಾಗಿ ಹಿಂತಿರುಗಿದಾಗ, ಅವು ಮತ್ತೆ ಅದೇ ಕುಹರದ ಮೂಲಕ ಹಾದುಹೋಗುತ್ತವೆ, ಅಲ್ಲಿ ಅವು ತಮ್ಮ ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ನಿಲ್ಲಿಸುವ ಎರಡನೇ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಪಲ್ಸ್ ಅನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತವೆ. ನಂತರ ಚೆಂಡು ಕುಹರದ ಕೆಳಗಿರುವ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ವಿಚಾರಣೆ ಉಪಕರಣದ ಮೂಲಕ ಬೀಳುತ್ತದೆ, ಅದು ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ಗಳು (ಎಲ್ಒ) ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಹಾರಾಟದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದ ಪರಮಾಣುಗಳ ನಡುವಿನ ಹಂತದ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು "ಓದುತ್ತದೆ". ಇದನ್ನು ಮತ್ತೆ ಮತ್ತೆ ಪುನರಾವರ್ತಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ; ಪರಿಣಾಮಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುವ ಅನುಕ್ರಮ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ. ಸಣ್ಣ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ, ಪಲ್ಸ್ಡ್ ಆಪ್ಟಿಕಲಿ ಪಂಪ್ (ಪಿಒಪಿ) ತಂತ್ರವನ್ನು ಬಳಸುವ ಆರ್ಬಿ ಆವಿ ಗಡಿಯಾರಗಳ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಎಷ್ಟು ಮಟ್ಟಿಗೆ ಸುಧಾರಿಸಿದೆ ಎಂದರೆ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಯುಎಸ್ಒ ಎಲ್ಒನಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಪರಿಣಾಮವು ಸೀಮಿತಗೊಳಿಸುವ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಂಶವಾಗಿದೆ. ಸಂಯೋಜಿತ ಯು. ಎಸ್. ಓ.-ಡಿ. ಆರ್. ಓ. (ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ರೆಸೊನೇಟರ್ ಆಸಿಲೇಟರ್) ಎಲ್. ಓ. ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿನ ಬೆಳವಣಿಗೆಗಳು ಈಗ ಸುಧಾರಿತ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುತ್ತವೆ. ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗಡಿಯಾರಗಳು ಯಾವುದೇ ಗಡಿಯಾರಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಿವೆ ಮತ್ತು ಎರಡನೆಯ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನವಾಗಿ ಸೀಸಿಯಂ ಕಾರಂಜಿ ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ಬದಲಿಸುವ ಹಾದಿಯಲ್ಲಿವೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, (ಕಟೋರಿ, 2011) ಹೇಳುವಂತೆಃ "ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಲ್ಯಾಟಿಸ್ ಗಡಿಯಾರಗಳಲ್ಲಿ, ಆದಾಗ್ಯೂ, ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಕ್ಯುಪಿಎನ್ (ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪ್ರೊಜೆಕ್ಷನ್ ಶಬ್ದ) ಕಾರಣ, ಡಿಕ್ ಪರಿಣಾಮವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸುವಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಅಡಚಣೆಯಾಗುತ್ತದೆ". ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮಾನದಂಡಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ಪರಿಣಾಮ ಮತ್ತು ಅದರ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು ಪ್ರಮುಖ ವಿಮರ್ಶೆಯಲ್ಲಿ (ಲುಡ್ಲೋ, ಮತ್ತು ಇತರರು, 2015) ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆ, ಅದು "ಡಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದ ಹಾನಿಕಾರಕ ಪ್ರಭಾವ" ವನ್ನು ವಿಷಾದಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹಲವಾರು ಇತರ ಪ್ರಬಂಧಗಳಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಎರಡು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ಸಮಯವನ್ನು (ಕೇವಲ ಒಂದು ಎಲ್ಒ ಅನ್ನು ಬಳಸುವಾಗ) ಪರಸ್ಪರ ಬಿಡಬಹುದು, ಹೀಗಾಗಿ ಪರಮಾಣು ಸ್ಥಿತಿಯ ಸಿದ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಪತ್ತೆಹಚ್ಚುವಿಕೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಡೆಡ್ ಟೈಮ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಬಹುದು. ಇದು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಬಹುಶಃ ಅದನ್ನು ತೊಡೆದುಹಾಕಬಹುದು. ಅವರ ವಿಧಾನದ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿತ್ವವನ್ನು ಬೈಡೆರ್ಮನ್ ಮತ್ತು ಇತರರು ಪರಿಶೀಲಿಸಿದರು. ಉದ್ದೇಶಪೂರ್ವಕವಾಗಿ ಅವನತಿ ಹೊಂದಿದ ಎಲ್. ಓ. ಯೊಂದಿಗಿನ ಪ್ರಯೋಗದಲ್ಲಿ ತರುವಾಯ, ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಶಿಯೋಪೊ ಮತ್ತು ಇತರರು ಅನ್ವಯಿಸಿದ್ದಾರೆ. ಎರಡು ಲೇಸರ್-ಕೂಲ್ಡ್ ವೈಬಿ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪರೀಕ್ಷೆಗಳಲ್ಲಿ ಯಾವುದೇ ಗಡಿಯಾರಕ್ಕೆ ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು, ಮತ್ತು, ಚಿಕ್ಕ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ, ಆರ್ಬಿ ಆವಿ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಗಡಿಯಾರದಲ್ಲಿ. ಕುಶಲತೆಯ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಒಂದೇ ಕಾರಂಜಿಗಳಲ್ಲಿ ಶೂನ್ಯ ಡೆಡ್ ಟೈಮ್ ಅನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು ಎಂದು ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಲಾಗಿದೆ. ಒಂದು ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಲೇಖನವು ಕೇವಲ ಎರಡು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳನ್ನು ಬಳಸಲು ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ತೊಡೆದುಹಾಕಲು ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ ಫೋಟಾನ್-ಅಥವಾ ಪರಮಾಣು-ಎಣಿಕೆಯ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಂದಾಗಿ ಸೀಮಿತಗೊಳಿಸುವ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಮೂರನೇ ಒಂದು ಭಾಗವನ್ನು (ಮತ್ತೆ ಒಂದೇ ಎಲ್ಒನೊಂದಿಗೆ) ಸೇರಿಸಲು ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸುತ್ತದೆ. ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ತೊಡೆದುಹಾಕುವ ಪರ್ಯಾಯವೆಂದರೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಕಾರಂಜಿ. ನಿರಂತರ ಹರಿವಿನೊಂದಿಗೆ ಲೇಸರ್-ತಂಪಾಗುವ ಪರಮಾಣುಗಳ ಮೂಲವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸುವ ಮೂಲಕ ಅಂತಹ ಗಡಿಯಾರವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾಗಿದೆ. ಏರುತ್ತಿರುವ ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ಬೀಳುವ ಪರಮಾಣುಗಳಿಂದ ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಲು ಈ ಗಡಿಯಾರವು ಸಾಮಾನ್ಯ ಕಾರಂಜಿಗಿಂತ ವಿಭಿನ್ನ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ಉಡಾವಣೆಯ ದಿಕ್ಕನ್ನು ಲಂಬದಿಂದ ದೂರಕ್ಕೆ ತಿರುಗಿಸುವ ಮೂಲಕ ಇದನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ; ಪರಮಾಣುಗಳ ಆಂತರಿಕ ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ಒಂದು ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಕುಹರದಲ್ಲಿ ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ; ನಂತರ ಪ್ಯಾರಾಬೊಲಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಅನ್ನು ಕಾರ್ಯಗತಗೊಳಿಸಿದ ನಂತರ ಎರಡನೆಯದರಲ್ಲಿ ನಿಲ್ಲಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಎರಡನೇ ಕುಹರವು, ಎರಡನೇ ಲೇಸರ್ ವಿಚಾರಣೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯೊಂದಿಗೆ, ಉಡಾವಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಕುಹರದಿಂದ ಪಾರ್ಶ್ವವಾಗಿ ಸ್ಥಳಾಂತರಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣುಗಳ ಆಂತರಿಕ ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲು ಮತ್ತು ನಿಲ್ಲಿಸಲು ಬಳಸುವ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಅಥವಾ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಂಕೇತಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಆಯತಾಕಾರದ ಸಮಯ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಆಕಾರದ ದ್ವಿದಳ ಧಾನ್ಯಗಳು ವಿದ್ಯುತ್ಕಾಂತೀಯ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಇದ್ದಕ್ಕಿದ್ದಂತೆ ಆನ್ ಮತ್ತು ಆಫ್ ಮಾಡುವುದರಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕ್ರಿಯೆಯ ಇಳಿಜಾರಿನಲ್ಲಿನ ಸ್ಥಗಿತಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ಮೂಲಕ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು. ಇದು, ಪ್ರತಿಯಾಗಿ, ಎಲ್ಒ ಹಂತದ ಶಬ್ದದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಇಂಟರ್ಲೀವ್ ಟೈಮಿಂಗ್ನೊಂದಿಗೆ ಅನೇಕ ಗಡಿಯಾರಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಿದಾಗ, ಸರಿಯಾಗಿ ಆಕಾರದ ದ್ವಿದಳ ಧಾನ್ಯಗಳು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೊಡೆದುಹಾಕಬಹುದು. ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಹೋಲಿಸಿ. ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳನ್ನು ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶದಲ್ಲಿನ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಲಾಗಿದೆ, ಭೂ-ಆಧಾರಿತ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಿಂದ ಈಗಾಗಲೇ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಮತ್ತು ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಗಡಿಯಾರದಿಂದ ಮಾತ್ರ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ. ಒಂದು ಉತ್ತಮ ಉದಾಹರಣೆಯೆಂದರೆ ಫರಾವೋ ಲೇಸರ್-ಕೂಲ್ಡ್ ಸಿಎಸ್ ಪರಮಾಣು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡವಾಗಿದ್ದು, ಇದನ್ನು ಯುರೋಪಿಯನ್ ಸ್ಪೇಸ್ ಏಜೆನ್ಸಿಗೆ ಎಸಿಇಎಸ್ ಮಲ್ಟಿಪಲ್-ಕ್ಲಾಕ್ ಭೌತಶಾಸ್ತ್ರ ಪೇಲೋಡ್ಗೆ ಸೇರಿಸಲು ವಿತರಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಐಎಸ್ಎಸ್ಗೆ ಉಡಾವಣೆ ಮಾಡಲು ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶ-ಆಧಾರಿತ ಗಡಿಯಾರಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಪ್ರಯೋಜನದ ಗಮನಾರ್ಹ ಭಾಗವು ಪರಿಣಾಮದ ಕಡಿತದಿಂದಾಗಿ ಆಗಿದೆ; ಇದು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರವನ್ನು ಶೂನ್ಯ ಜಿ ಯಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಹಿಸಿದಾಗ ಲಭ್ಯವಿರುವ ದೀರ್ಘವಾದ ವಿಚಾರಣೆ ಸಮಯಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರ್ತವ್ಯ ಅಂಶಗಳಿಂದಾಗಿ. ಪರಮಾಣು ಇಂಟರ್ಫೆರೊಮೆಟ್ರಿಯು ಪರಮಾಣು ಗುರುತ್ವಾಕರ್ಷಣಾ ಮಾಪಕವಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗುರುತ್ವಾಕರ್ಷಣೆಯ ತರಂಗವನ್ನು ಪತ್ತೆಹಚ್ಚುತ್ತದೆ. ವಿಧಾನಶಾಸ್ತ್ರ ಪರಿಚಯ ಆಧುನಿಕ ಪರಮಾಣು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಗಳು ಅಥವಾ ಗಡಿಯಾರಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕವನ್ನು (ಎಲ್ಒ) ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ಎಲ್ಒ ನಿಯತಕಾಲಿಕವಾಗಿ ಪ್ರಶ್ನಿಸುವ ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಆ ವಿಚಾರಣೆಯ ಫಲಿತಾಂಶಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಎಲ್ಒನಲ್ಲಿನ ಆವರ್ತನ ದೋಷಗಳನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಲು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಲೂಪ್ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ; ಹೀಗಾಗಿ ಎಲ್ಒನ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ಲಾಕ್ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಪರಿಣಾಮವು ಪರಮಾಣು ವಿಚಾರಣೆ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರದ ವಿವರಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುವ ಅಪೂರ್ಣ ಲಾಕ್ ಮಾಡುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ವಿವರಿಸುತ್ತದೆ. ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡಕ್ಕೆ ಉಪಯುಕ್ತವಾದ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ಲಾಕ್ ಮಾಡಲಾದ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕದ (ಎಲ್ಎಲ್ಒ) ಆವರ್ತನ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಎಲ್ಒ ಶಬ್ದದ ಈ ಹೊಸದಾಗಿ ಗುರುತಿಸಲಾದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಲೆಕ್ಕಹಾಕಲು ಎರಡು ಹಂತಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ. ಅವುಗಳೆಂದರೆಃ ವಿಚಾರಣೆಯ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಎಲ್. ಓ ಹಂತದ ಏರಿಳಿತಗಳಿಗೆ ತತ್ಕ್ಷಣದ ಸಂವೇದನೆಯ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರ. ಇದನ್ನು ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯವಾಗಿ ವ್ಯಕ್ತಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಚಕ್ರದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಇದು ಮನೆಕೆಲಸ ಕಾರ್ಯಗಳು ನಡೆಯುತ್ತಿರುವ ಚಕ್ರದ ಭಾಗಗಳಲ್ಲಿ ಶೂನ್ಯದ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು (ಉದಾ. ರಾಮ್ಸೇ ವಿಚಾರಣೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ವಿಚಾರಣೆ ಪಲ್ಸ್ಗಳ ನಡುವಿನ ಐಕ್ಯತೆಯ ಮೌಲ್ಯ. ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನುಗಳ ಫೋಟಾನಿಕ್ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಇತರ ಉದಾಹರಣೆಗಳಿಗೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಈ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ನಿಧಾನವಾದ ವ್ಯವಹಾರವಾಗಿದೆ, ಇದು ಅತ್ಯಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕ್ಯೂ ಅಂಶಗಳ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಸಾಧಿಸಲು ಮಿಲಿಸೆಕೆಂಡುಗಳು ಅಥವಾ ಸೆಕೆಂಡುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಒಂದು ಫೋಟಾನ್ ಒಂದು ಘನವನ್ನು ಹೊಡೆದು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಅನ್ನು ಹೊರಹಾಕುವ ಬದಲು, ಇಲ್ಲಿ ಅನೇಕ ಫೋಟಾನ್ಗಳನ್ನು (ನಿಧಾನವಾಗಿ) ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಸುಸಂಬದ್ಧ ಇಎಂ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಮೋಡದಲ್ಲಿರುವ ಪ್ರತಿ ಪರಮಾಣು ಅಥವಾ ಅಯಾನ್ ಅನ್ನು ಅವುಗಳ ನೆಲದ ಸ್ಥಿತಿಯಿಂದ ಮಿಶ್ರ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಓಡಿಸುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅದು ನೆಲದಲ್ಲಿ ಸಮಾನ ವೈಶಾಲ್ಯ ಮತ್ತು ಉತ್ತೇಜಿತ ಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣುಗಳು ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಅಥವಾ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳನ್ನು ಪ್ರಶ್ನಿಸುವ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ರೂಪಗಳನ್ನು ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಸ್ಟೇಟ್-ಟ್ರಾನ್ಸಿಷನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಕಾಲ್ಪನಿಕ ಸ್ಪಿನ್ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಅಥವಾ ಬೀಜಗಣಿತದ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಬಹುದು. ಈ ರೂಪಗಳು, ಯಾವುದೇ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸದ ಸಮಯಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರ ಮೌಲ್ಯಗಳೊಂದಿಗೆ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಶೂನ್ಯ ಅಥವಾ ಏಕತೆ) ಸಂಯೋಜನೆಯಾಗಿ, ಇಡೀ ವಿಚಾರಣೆ ಚಕ್ರದಲ್ಲಿ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯವನ್ನು ಉತ್ತಮವಾಗಿ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ರಾಮ್ಸೇ ವಿಚಾರಣೆ ಮತ್ತು ರಬಿ ವಿಚಾರಣೆ ಎರಡಕ್ಕೂ ತಾರತಮ್ಯದ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಈ ಹಿಂದೆ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಲಾಗಿತ್ತು, ಇದು ಸ್ವಲ್ಪಮಟ್ಟಿಗೆ ಬೇರ್ಪಡಿಸಿದ ಡ್ರೈವ್ ಸಿಗ್ನಲ್ಗೆ ಪರಮಾಣು ಅಥವಾ ಅಯಾನ್ನ ಕ್ವಾಂಟಮ್-ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಆಧರಿಸಿದೆ. ಈ ಹಿಂದೆ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಿದ ಈ ಮೌಲ್ಯಗಳು ಈಗ ವಿಚಾರಣೆ ಚಕ್ರದಲ್ಲಿ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲಾದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯದ ಸಮಯದ ಸರಾಸರಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿರುವುದು ಕಂಡುಬರುತ್ತದೆ. ಪರಿಣಾಮದ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದ ಸೀಮಿತ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರ. ಎಲ್ಒನ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯ ಮತ್ತು ಆವರ್ತನ ಶಬ್ದ ವರ್ಣಪಟಲವನ್ನು ಗಮನಿಸಿದರೆ, ಗಡಿಯಾರದ ಸೀಮಿತ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಈಗ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಬಹುದು. ಸಮಾನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮಾದರಿಯ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು ಲೂಪ್ ಗೇನ್ನಲ್ಲಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳು, ಸಮಯದ ವ್ಯತ್ಯಾಸದಿಂದಾಗಿ, ಪರಮಾಣುಗಳಿಂದ ಪರಿಪೂರ್ಣವಾದ (ಶಬ್ದ ಮುಕ್ತ) ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯೊಂದಿಗೆ, ಎಲ್ಒನಲ್ಲಿ ಸರಿಪಡಿಸದ ನಿಧಾನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಆವರ್ತಕವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಆವರ್ತನ ವರ್ಣಪಟಲವು ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾಗಿದ್ದು, ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿ ಹಾರ್ಮೋನಿಕ್ಸ್ನೊಂದಿಗೆ ಚಕ್ರದ ಸಮಯದ ವಿಲೋಮದ ಪೂರ್ಣಾಂಕ ಗುಣಾಕಾರಗಳಾಗಿವೆ. ಈ ಹಾರ್ಮೋನಿಕ್ಸ್ಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿಯೊಂದೂ ಎಲ್. ಓ. ಶಬ್ದವನ್ನು ಶೂನ್ಯ ಆವರ್ತನದ ಹತ್ತಿರಕ್ಕೆ ಬದಲಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಗಡಿಯಾರಕ್ಕೆ ಔಟ್ಪುಟ್ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ಲಾಕ್ ಮಾಡಲಾದ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕದ ಬಿಳಿ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದಕ್ಕೆ ಸೇರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಶಬ್ದವು ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದಲ್ಲಿ ಫೋಟಾನ್-ಅಥವಾ ಪರಮಾಣು-ಎಣಿಕೆಯ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಅದೇ ರೀತಿಯದ್ದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಅದರ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಕುಗ್ಗಿಸುತ್ತದೆ. ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯದ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರ ಕೆಳಗೆ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾದ ಪರಿಕಲ್ಪನೆಗಳು ಮತ್ತು ಲೆಕ್ಕಾಚಾರಗಳ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ಮೊದಲ ಪ್ರಬಂಧಗಳಲ್ಲಿ ಕಾಣಬಹುದು. ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದಲ್ಲಿನ ಪ್ರತಿಯೊಂದು ವಿಚಾರಣೆ ಚಕ್ರವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಅವುಗಳ ನೆಲದ ಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ತಯಾರಿಸುವುದರೊಂದಿಗೆ ಪ್ರಾರಂಭವಾಗುತ್ತದೆ. ವಿಚಾರಣೆಯ ನಂತರ ಯಾರಾದರೂ ಅದರ ಉತ್ತೇಜಿತ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ ಸಂಭವನೀಯತೆ ಪಿ ಆಗಿರಲಿ. ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡುವ ಸಂಕೇತದ ವೈಶಾಲ್ಯ ಮತ್ತು ಸಮಯವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸರಿಹೊಂದಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಎಲ್ಒ ಅನ್ನು ಪರಮಾಣು ಆವರ್ತನಕ್ಕೆ ನಿಖರವಾಗಿ ಹೊಂದಿಸುವುದು, ಅಂದರೆ, ಎಲ್ಲಾ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನುಗಳು ತಮ್ಮ ಉತ್ತೇಜಿತ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ. ಪ್ರತಿ ಅಳತೆಗೆ ಪಿ ಅನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ನಂತರ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಬೇರೆ ಸಿಗ್ನಲ್ಗೆ ಒಡ್ಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅದು ಪ್ರತಿದೀಪಕವನ್ನು ಮಾತ್ರ ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ (ಉದಾ. ಉತ್ತೇಜಿತ ಸ್ಥಿತಿಯ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನುಗಳು. ಪಿ ಯ ನಿಯತಕಾಲಿಕ ಅಳತೆಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು, ಪ್ರೋಟೋಕಾಲ್ ಅನ್ನು ಜೋಡಿಸಬೇಕು, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಪಿ ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ನಂತರ ವಿಚಾರಣೆ ಸಮಯ ಎಲ್ಲಿದೆ ಎಂದು ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಬಹುದು, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಅದರ ಮೌಲ್ಯವು ಪಿ ಮಾಪನದ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಎಲ್ಒ ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ನಿರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಒ ಅನ್ನು ಪರಮಾಣು ಪರಿವರ್ತನೆಯ ಆವರ್ತನಕ್ಕೆ ನಿಖರವಾಗಿ ಹೊಂದಿಸಿದಾಗ ಪಿ ಅನ್ನು ಗರಿಷ್ಠಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆಯಾದ್ದರಿಂದ, ಆ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಅದರ ಮೌಲ್ಯವು ಶೂನ್ಯವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಹೀಗಾಗಿ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ರಬಿ ವಿಚಾರಣೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡದಲ್ಲಿ, ಎಲ್ಒ ಅನ್ನು ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ಬೇರ್ಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಎಲ್ಒ ಆವರ್ತನದ ಅಸ್ಥಿರತೆಯು ಪಿ ಯ ನಂತರದ ಮಾಪನವು ಇದಕ್ಕಿಂತ ಭಿನ್ನವಾದ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಹಿಂದಿರುಗಿಸಲು ಕಾರಣವಾದಾಗ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಲೂಪ್ ಅದನ್ನು ಮರಳಿ ತರಲು ಎಲ್ಒ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ರಯೋಗವಾದಿಗಳು ಪರಮಾಣು ಸಂಖ್ಯೆ, ಬೆಳಕಿನ ತೀವ್ರತೆ ಇತ್ಯಾದಿಗಳಲ್ಲಿನ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ತಗ್ಗಿಸಲು ವಿವಿಧ ಶಿಷ್ಟಾಚಾರಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತಾರೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಪಿ ಅನ್ನು ನಿಖರವಾಗಿ ನಿರ್ಧರಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತಾರೆ, ಆದರೆ ಇವುಗಳನ್ನು ಇಲ್ಲಿ ಮತ್ತಷ್ಟು ಚರ್ಚಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ. ರಬಿ ವಿಚಾರಣೆಗಾಗಿ ಎಲ್. ಓ ಆವರ್ತನದ ಬದಲಾವಣೆಗೆ ಪಿ ಯ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಈ ಹಿಂದೆ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಎಲ್. ಓ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಯಾವಾಗ ನೀಡಲು ಆವರ್ತನದಿಂದ ಸರಿದೂಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಎಂಬುದರ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ. ಡಿಟ್ಯೂನ್ ಮಾಡಿದಾಗ ಇದನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಕ್ಕೆ P ಯ ಸಂವೇದನೆಗಾಗಿ ಸಮಯ-ಅವಲಂಬಿತ ರೂಪವನ್ನು ಈಗ ಪರಿಚಯಿಸಬಹುದು, ಇದನ್ನು ಹೀಗೆ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಬಹುದುಃ, ಆ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಪ್ರಶ್ನಿಸುವ ಸಂಕೇತಕ್ಕೆ ಒಂದು ಹಂತದ ಹಂತವನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಿದಾಗ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಸಂಭವನೀಯತೆಯಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆ ಎಲ್ಲಿದೆ. ಸಮೀಕರಣದ ಎರಡೂ ಬದಿಗಳನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುವುದರಿಂದ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾಗುವ ಆವರ್ತನದ ಸಂಭವನೀಯತೆ ಪಿ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬರೆಯಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆಃ ಇದು ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯವೆಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ; ಅಂತಿಮ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಸಂಭವನೀಯತೆಯ ಮೇಲೆ ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳ ಪರಿಣಾಮಕ್ಕಾಗಿ ಸಮಯ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ. ರಬಿ ವಿಚಾರಣೆಯ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯವನ್ನುಃ ಎಲ್ಲಿ,, ಮತ್ತು ಎಲ್ಲಿ ಅರ್ಧ-ಸಂಕೇತ ವೈಶಾಲ್ಯಕ್ಕೆ ಬೇರ್ಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ರೂಪದ ಸಮಯದ ಸರಾಸರಿಯನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವುದರಿಂದ, ಈ ಹಿಂದೆ ಉಲ್ಲೇಖಿಸಿದಂತೆ ನಿಖರವಾಗಿ ನೀಡುತ್ತದೆಃ ಇದು ಹಿಂದೆ ಬಳಸಿದ ಸಂವೇದನೆಯ ಸರಿಯಾದ ಸಾಮಾನ್ಯೀಕರಣವೆಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಎರಡು ವಿಚಾರಣೆಯ ಪಲ್ಸ್ಗಳ (ಆವರ್ತನ ಆಫ್ಸೆಟ್ ಬದಲಿಗೆ) ನಡುವಿನ ಹಂತದ ಹಂತದೊಂದಿಗೆ ರಾಮ್ಸೇ ವಿಚಾರಣೆಯ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಕಾಗಿ ರೂಪಗಳು ಸ್ವಲ್ಪ ಸರಳವಾಗಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಇವುಗಳನ್ನು ಹೀಗೆ ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆಃ ನಾಡಿ ಸಮಯ ಎಲ್ಲಿದೆ, ವಿಚಾರಣೆಯ ಸಮಯ ಮತ್ತು ಚಕ್ರದ ಸಮಯ. ಆವರ್ತನದ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮಿತಿಯ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರ ಪಲ್ಸ್-ಮೋಡ್ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರದ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯನ್ನು ಇಲ್ಲಿ ಬ್ಲಾಕ್ ರೇಖಾಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅಂಶಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು (ಸಂಪೂರ್ಣ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಗಾಗಿ ಗ್ರೀನ್ಹಾಲ್ ನೋಡಿ). ಇಲ್ಲಿ, ಎಲ್. ಓ. ಅನ್ನು ಅದರ ಸ್ವಂತ ಬ್ಲಾಕ್ನಿಂದ ಪ್ರತಿನಿಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇತರ ನಾಲ್ಕು ಬ್ಲಾಕ್ಗಳಿಂದ ವಿಚಾರಣೆಗೊಳಗಾದ ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪರಮಾಣು ವಿಚಾರಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಮಯ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಇಲ್ಲಿ ಮಾಡ್ಯುಲೇಟರ್ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಸಮಯ-ಅವಲಂಬಿತ ಆವರ್ತನ ದೋಷವನ್ನು ಹಿಂದಿನ ವಿಭಾಗದಲ್ಲಿ ಲೆಕ್ಕ ಹಾಕಿದಂತೆ ಸಮಯ-ಅವಲಂಬಿತ ಲಾಭದಿಂದ ಗುಣಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇಂಟಿಗ್ರೇಟರ್ಗೆ ಸಿಗ್ನಲ್ ಇನ್ಪುಟ್ ಆವರ್ತನ ದೋಷಕ್ಕೆ ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕದಲ್ಲಿನ ನಿಧಾನ ಆವರ್ತನ ದೋಷಗಳು ಮತ್ತು ಚಲನೆಗಳನ್ನು ಸರಿಪಡಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಬ್ಲಾಕ್ ರೇಖಾಚಿತ್ರದಲ್ಲಿನ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು, ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಿ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಸರಾಸರಿ ಮೌಲ್ಯಗಳು ಮತ್ತು ಸರಾಸರಿಗಿಂತ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳಿಂದ ಕೂಡಿದೆ ಎಂದು ಪರಿಗಣಿಸಿ. ಇದರ ಮೌಲ್ಯವು (ಒಂದು ಚಕ್ರದಲ್ಲಿ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲಾದ ಸರಾಸರಿಗಳೊಂದಿಗೆ) ಸರಿಯಾದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕದ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಡಿಸ್ಕ್ರಿಮಿನೇಟರ್ಗೆ ಲಾಕ್ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಏಕೀಕರಣ ಮತ್ತು ಮಾದರಿಯ ಮೂಲಕ ಸುಗಮಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಈಗಾಗಲೇ ತಿಳಿದಿರುವ ಅಲ್ಪಾವಧಿಯ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮಿತಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಪದವು, ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವಾಗ, ಬಹಳ ಕಡಿಮೆ ಆವರ್ತನದ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಲೂಪ್ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕವನ್ನು ಅಸಮರ್ಪಕವಾಗಿ ಸರಿಪಡಿಸಲು ಕಾರಣವಾಗುವ ಅಲಿಯಾಸಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಕಡಿಮೆ ಆವರ್ತನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. (ಡಿಕ್, 1987) ಮತ್ತು (ಸ್ಯಾಂಟರೆಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಇತರರು, 1996) ವಿಧಾನವನ್ನು ಅನುಸರಿಸಿ, ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಕಾರ್ಯದ ಫೋರಿಯರ್ ಘಟಕಗಳು ಹೀಗಿವೆಃ,,, ಮತ್ತು, ಚಕ್ರದ ಸಮಯ ಎಲ್ಲಿದೆ. ಲಾಕ್ ಮಾಡಲಾದ ಸ್ಥಳೀಯ ಆಂದೋಲಕವು ಯಾವುದೇ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ (ಮಾಸರ್ ಅಲ್ಲದ) ಆವರ್ತನ ಮಾನದಂಡದಿಂದ ಉಪಯುಕ್ತ ಔಟ್ಪುಟ್ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ. ಅದರ ಬಿಳಿ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದಕ್ಕೆ ಕಡಿಮೆ ಮಿತಿಯು ಎಲ್ಲಾ ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿ ಎಲ್ಒನ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದದ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದು ಚಕ್ರದ ಸಮಯ (ಪರಮಾಣು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಸತತ ಅಳತೆಗಳ ನಡುವಿನ ಸಮಯ). ಬಿಳಿ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಆಂದೋಲಕಕ್ಕೆ ಅಲನ್ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಹೀಗೆ ನೀಡಲಾಗಿದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಪರಿಣಾಮದ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮಿತಿಯನ್ನು ಹೀಗೆ ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಬಹಳ ಸಣ್ಣ ವಿಚಾರಣೆಯ ಪಲ್ಸ್ಗಳೊಂದಿಗೆ ರಾಮ್ಸೇ ವಿಚಾರಣೆಗೆ, ಇದು ಆಗುತ್ತದೆ, ವಿಚಾರಣೆಯ ಸಮಯ ಎಲ್ಲಿದೆ. ಫ್ಲಿಕರ್ ಆವರ್ತನದ ಶಬ್ದದೊಂದಿಗೆ ಎಲ್ಓ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿರುವ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಮತ್ತು ಕರ್ತವ್ಯ ಅಂಶವು ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವಲ್ಲಿ, ಅಲನ್ ವಿಚಲನವನ್ನು ಅಂದಾಜು ಮಾಡಬಹುದು. ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರ ಆವರ್ತನ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಬಾಹ್ಯ ಕೊಂಡಿಗಳು ಗೂಗಲ್ ಸ್ಕಾಲರ್ ಪರಮಾಣು ಗಡಿಯಾರಗಳಲ್ಲಿ ಡಿಕ್ ಎಫೆಕ್ಟ್ ಪೇಪರ್ಗಳನ್ನು ಸಹ ನೋಡಿ.