Sigma hole interactions
ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರದಲ್ಲಿ, ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು (ಅಥವಾ σ-ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು) ಅಣುಗಳ ಹಲವಾರು ವರ್ಗಗಳ ನಡುವೆ ಸಂಭವಿಸಬಹುದಾದ ಮತ್ತು ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಧನಾತ್ಮಕ-ಚಾರ್ಜ್ಡ್ ಸೈಟ್ ಮತ್ತು ಋಣಾತ್ಮಕ-ಚಾರ್ಜ್ಡ್ ಸೈಟ್, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಒಂಟಿ ಜೋಡಿ, ಪರಸ್ಪರ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಬಂಧವಿಲ್ಲದ ವಿವಿಧ ಪರಮಾಣುಗಳ ನಡುವಿನ ಶಕ್ತಿಯುತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಇಂಟರ್ಮಾಲಿಕ್ಯುಲರ್ ಶಕ್ತಿಗಳ ಒಂದು ಕುಟುಂಬವಾಗಿದೆ. ಈ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಪ್ರಾಥಮಿಕವಾಗಿ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಚಾರ್ಜ್-ವರ್ಗಾವಣೆಯ ಮೂಲಕ ತರ್ಕಬದ್ಧಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಬಲವಾದ ದಿಕ್ಕಿನ ಆದ್ಯತೆಯಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸುಪ್ರಾಮೋಲಿಕ್ಯುಲರ್ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರದ ಮೇಲೆ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಬಯಸುವ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಅವುಗಳನ್ನು ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿಸುತ್ತದೆ. ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಆಣ್ವಿಕ ಆಧಾರವು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಆಧಾರವು ವಿಭಿನ್ನ ಪರಮಾಣುಗಳ ಮೇಲೆ ಧನಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದ ತಾಣ (ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರ) ಮತ್ತು ಋಣಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದ ತಾಣ (ಏಕ ಜೋಡಿ) ನಡುವಿನ ಶಕ್ತಿಯುತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ. ಧನಾತ್ಮಕ ತಾಣವು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪರಮಾಣು ಮತ್ತು ನೆರೆಯ ಪರಮಾಣುವಿನ ನಡುವಿನ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಸಿಗ್ಮಾ ಬಂಧದಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುತ್ತದೆ. ಬಂಧದ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯು ಆತಿಥೇಯ ಪರಮಾಣುವಿನ ಸುತ್ತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ವಿರೂಪಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಸಾಂದ್ರತೆಯು ಪರಮಾಣುವಿನ ಸುತ್ತ ಸಮಭಾಜಕವಾಗಿ (ಬಂಧಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ) ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಆದರೆ ಬಂಧದ ವಿಸ್ತರಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನದ ಮೂಲಕ, ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರ ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಧನಾತ್ಮಕ ಸ್ಥಾಯೀವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಸಿಗ್ಮಾ ಬಂಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪರಮಾಣುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಳೀಕರಿಸಬಹುದು. ಈ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವು ನಂತರ ಋಣಾತ್ಮಕ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಏಕೈಕ ಜೋಡಿಯೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ತೊಡಗಬಹುದು. ಮೇಲೆ ವಿವರಿಸಿದ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಜೊತೆಗೆ, ಪ್ರಸರಣ ಶಕ್ತಿಗಳು ಸಹ ಒಟ್ಟಾರೆ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಒಂದು ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತವೆ ಎಂದು ಭಾವಿಸಲಾಗಿದೆ. ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಮತ್ತು ಪ್ರಸರಣದ ಕೊಡುಗೆಗಳನ್ನು ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಸರಿಸುಮಾರು ಹೋಲಿಸಬಹುದೆಂದು ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಕಂಡುಕೊಂಡಿವೆ, ಮತ್ತು ಪ್ರಬಲ ಕೊಡುಗೆದಾರರು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ಬದಲಾಗುತ್ತಾರೆ. ಪರ್ಯಾಯವಾಗಿ, ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಜೋಡಿ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಆಣ್ವಿಕ ಕಕ್ಷೆಗಳ ಮಿಶ್ರಣದ ಪರಿಭಾಷೆಯಲ್ಲಿ ಪರಿಕಲ್ಪನೆ ಮಾಡಬಹುದು. ಬಂಧಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಆಕ್ರಮಿತ ಸಿಗ್ಮಾ ಬಂಧದ ಕಕ್ಷೆಯು ಪರಮಾಣುವಿನ ವಿರುದ್ಧ ಮುಖದಲ್ಲಿ ಇರುವ ಅನುಗುಣವಾದ ಆಕ್ರಮಿತವಲ್ಲದ ಸಿಗ್ಮಾ ಆಂಟಿಬಾಂಡಿಂಗ್ ಕಕ್ಷೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆಂಟಿಬಾಂಡಿಂಗ್ ಆರ್ಬಿಟಲ್ ಮತ್ತು ಒಂಟಿ ಜೋಡಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಆಕ್ರಮಿತ ಆರ್ಬಿಟಲ್ ನಡುವೆ ಮಿಶ್ರಣವು ಶಕ್ತಿಯುತ ಸ್ಥಿರೀಕರಣಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿದೆ. ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋನೆಗೇಟಿವ್ (ಕ್ಲೋರಿನ್, ಆಮ್ಲಜನಕ ಮತ್ತು ಫ್ಲೂರೈನ್ನಂತಹವು) ಸೇರಿದಂತೆ ಹಲವಾರು ಪರಮಾಣುಗಳು ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಜೋಡಿ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಧನಾತ್ಮಕ ತಾಣಗಳಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ. ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಧನಾತ್ಮಕ ತಾಣವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಪರಮಾಣು ಒಟ್ಟಾರೆ ಋಣಾತ್ಮಕ ಭಾಗಶಃ ಚಾರ್ಜ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿರುವಾಗಲೂ ಇದು ಸಂಭವಿಸಬಹುದು. ಈ ಸ್ಪಷ್ಟ ವಿರೋಧಾಭಾಸಕ್ಕೆ ಪರಿಹಾರವು ಸಿಗ್ಮಾ ಬಂಧದ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯಿಂದ ಪರಿಚಯಿಸಲಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೋಡದಲ್ಲಿನ ಅನಿಸೊಟ್ರೊಪಿಯಲ್ಲಿದೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಚಾರ್ಜ್ ಅನ್ನು ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯಸ್ನ ಸುತ್ತ ಸಮಾನವಾಗಿ ವಿತರಿಸದಿದ್ದರೆ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸವಕಳಿಯ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ಸಿಗ್ಮಾ ಬಂಧದ ಎದುರು ಧನಾತ್ಮಕ ಭಾಗಶಃ ಚಾರ್ಜ್ ಬೆಳೆಯಲು ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಈ ಭಾಗಶಃ ಧನಾತ್ಮಕ ಆವೇಶವು ಪರಮಾಣು ಮೇಲ್ಮೈಯ ಹೆಚ್ಚಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್-ಸಮೃದ್ಧ ಪ್ರದೇಶಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಭಾಗಶಃ ಋಣಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದೊಂದಿಗೆ ಸಹಬಾಳ್ವೆ ನಡೆಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಒಟ್ಟಾರೆ ಋಣಾತ್ಮಕ ಭಾಗಶಃ ಆವೇಶಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಲಕ್ಷಣಗಳ ನಿರ್ದೇಶನ ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ರೇಖೀಯತೆಗೆ ಬಲವಾದ ಆದ್ಯತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ. ಋಣಾತ್ಮಕ ತಾಣವು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುವ ಬಂಧದೊಂದಿಗೆ ಕೋಲಿನಿಯರ್ ಆಗಿರುವಾಗ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ತೋರಿಸಿವೆ. ಈ ಬಂಧ ಮತ್ತು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ನಡುವಿನ ಕೋನವು ಕಡಿಮೆಯಾದಂತೆ, ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಬಲವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವೇಗವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುವುದು ಕಂಡುಬರುತ್ತದೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಅನಿಸೊಟ್ರೊಪಿಯಿಂದ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವು ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ ಎಂಬ ಊಹೆಯೊಂದಿಗೆ ಈ ಸಂಶೋಧನೆಯು ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆ. ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಕೋನವು 180° ಗಿಂತ ಸ್ವಲ್ಪ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುವ ಸಂದರ್ಭಗಳಿವೆ-ಈ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ, ಒಟ್ಟಾರೆ ರೇಖಾಗಣಿತವನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುವಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಅಂತರ-ಆಣ್ವಿಕ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕೂಲಂಬ್ನ ನಿಯಮಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ, ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಶಕ್ತಿಯುತ ಸ್ಥಿರೀಕರಣ ಮತ್ತು ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಮತ್ತು ಒಂಟಿ ಜೋಡಿ ತಾಣಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸ್ಥಾಯೀವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಉತ್ಪನ್ನದ ನಡುವೆ ಬಹಳ ಬಲವಾದ ಸಂಬಂಧವಿದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮತ್ತು ಏಕೈಕ ಜೋಡಿಯ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಅಂಶಗಳು ಬಲವಾದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತವೆ. ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಕ್ಕೆ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುವ ಮುಖ್ಯ ರಚನಾತ್ಮಕ ಅಂಶಗಳೆಂದರೆ ಆತಿಥೇಯ ಪರಮಾಣುವಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋನೆಜೆಟಿವಿಟಿ, ಆತಿಥೇಯ ಪರಮಾಣುವಿನ ಧ್ರುವೀಕರಣ ಮತ್ತು ಅತಿ ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹಿಂತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವ ಗುಂಪುಗಳಿಗೆ ಬದ್ಧವಾಗಿರುವ ಕಡಿಮೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋನೆಜೆಟಿವ್ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಧ್ರುವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಆತಿಥೇಯ ಪರಮಾಣುಗಳೊಂದಿಗೆ ಆತಿಥೇಯ ಪರಮಾಣುಗೆ ಬಂಧಿಸಲಾದ ಗುಂಪಿನ ಪಾತ್ರವನ್ನು ದಾನ ಮಾಡುವ ಅಥವಾ ಹಿಂತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್. ಕೆಳಗಿನ ಕೋಷ್ಟಕವು ವಿವಿಧ ಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಆಯ್ದ ಮೂರು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರಗಳ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳ ಗಣನೆಯ ಬಲವನ್ನು (ಕೆ. ಸಿ. ಎಲ್/ಎಂ. ಓ. ಎಲ್. ನಲ್ಲಿ) ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಯಾವುದೇ ಕೋನದಲ್ಲಿ, ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಬ್ರೋಮಿನ್ ಪರಮಾಣು ಬಲವಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹಿಂತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುವ ಸೈನೊ ಗುಂಪಿಗೆ ಬಂಧಿಸಲ್ಪಟ್ಟಾಗ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಬಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಗಮನಿಸಬಹುದು, ಈ ಪರಮಾಣು ಟ್ರೈಫ್ಲೋರೊಮೆಥೈಲ್ ಗುಂಪಿಗೆ ಬಂಧಿಸಲ್ಪಟ್ಟಾಗ, ಇದು ಕೇವಲ ಮಧ್ಯಮ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹಿಂತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, ಅಮೋನಿಯಾ ಅಣುವು ಏಕೈಕ ಜೋಡಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸಿದಾಗ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಬಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಈ ತಾಣಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸ್ಥಾಯೀವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಸೈನೈಡ್ನ ಸಂಬಂಧಿತ ತಾಣಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಋಣಾತ್ಮಕವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಲಾ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ, ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಹೆಚ್ಚು ರೇಖೀಯ ಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಬಲಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಸ್ಥಿರತೆ ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಜೋಡಿ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ರಚನೆಯು ಶಕ್ತಿಯುತ ಸ್ಥಿರೀಕರಣದೊಂದಿಗೆ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿದ್ದರೂ, ಶಕ್ತಿಯುತ ಸ್ಥಿರೀಕರಣವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಎಂಟ್ರೊಪಿಯಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆಯಿಂದ ಸರಿದೂಗಿಸಲ್ಪಡುವುದರಿಂದ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಥರ್ಮೋಡೈನಾಮಿಕಲ್ ಆಗಿ ಇಷ್ಟವಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಶಕ್ತಿಯುತ ಮತ್ತು ಎಂಟ್ರೋಪಿಕ್ ಬದಲಾವಣೆಗಳ ನಡುವೆ ಎಂಥಾಲ್ಪಿ-ಎಂಟ್ರೋಪಿ ಪರಿಹಾರ ಸಂಬಂಧವು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ದೊಡ್ಡ ಎಂಟ್ರೋಪಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗಲು ಕಾರಣವಾಗುತ್ತವೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ರಚನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಎಂಟ್ರೊಪಿಯಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆಯು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಶಕ್ತಿಯುತ ಅನುಕೂಲಕರತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಸೀಮಿತ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಅತ್ಯಂತ ಶಕ್ತಿಯುತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ಉಷ್ಣಬಲದಲ್ಲಿ ಅನುಕೂಲಕರವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ದ್ರವ ಮತ್ತು ಘನ ಹಂತಗಳಲ್ಲಿ ಉಷ್ಣಬಲದ ಸ್ಥಿರತೆಗೆ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುವ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಅಂಶಗಳಿವೆ, ಇವುಗಳನ್ನು ಅನಿಲ ಹಂತದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಂತೆ ಸುಲಭವಾಗಿ ರೂಪಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಅಂತೆಯೇ, ದ್ರವ ಅಥವಾ ಘನ ಹಂತದಲ್ಲಿ ನೀಡಲಾದ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಅನುಕೂಲಕರತೆಯು ಅನಿಲ ಹಂತದ ಸಮಾನತೆಗೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಜ್ಯಾಮಿತಿ ಮತ್ತು ಕಂಪನ ವರ್ಣಪಟಲವು ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳ ಮೂಲಕ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುವ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅವುಗಳ ವ್ಯಾನ್ ಡರ್ ವಾಲ್ಸ್ ತ್ರಿಜ್ಯದ ಮೊತ್ತಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಹತ್ತಿರವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ಸಹ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುವ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಬಂಧದ ಉದ್ದ ಮತ್ತು ಕಂಪನ ವಿಸ್ತರಿಸುವ ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿವೆ. ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ತೊಡಗಿರುವ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ, ಬಾಂಡ್ ಸಂಕುಚಿತಗೊಳ್ಳುವ ಮತ್ತು ಕಂಪನ ವಿಸ್ತರಿಸುವ ಆವರ್ತನವು ಹೆಚ್ಚಾಗುವ "ನೀಲಿ ಶಿಫ್ಟ್" ಅಥವಾ ಬಂಧವು ಉದ್ದವಾಗುವ ಮತ್ತು ಕಂಪನ ವಿಸ್ತರಿಸುವ ಆವರ್ತನವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುವ "ಕೆಂಪು ಶಿಫ್ಟ್" ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಈ ಪರಿಣಾಮಗಳ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಬಲಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ, ಬಲವಾದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ಪರಸ್ಪರ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುವ ಪರಮಾಣುಗಳು ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಕೆಂಪು ಶಿಫ್ಟ್ಗಳ ನಡುವೆ ಕಡಿಮೆ ಅಂತರವನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತವೆ. ವ್ಯಾಪ್ತಿ ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಔಪಚಾರಿಕತೆಯನ್ನು ಧನಾತ್ಮಕ ಮತ್ತು ಋಣಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದ ತಾಣಗಳ ನಡುವೆ ಸ್ಥಾಯೀವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಮತ್ತು ಪ್ರಸರಣದ ಆಕರ್ಷಣೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಧನಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದ ಸ್ಥಳವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪರಮಾಣುವಿನ ಗುರುತಿನ ಪ್ರಕಾರ ವರ್ಗೀಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಉಪವರ್ಗಗಳಾಗಿ ವಿಶಾಲವಾಗಿ ಅಂಗೀಕರಿಸಲ್ಪಟ್ಟ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಪ್ರಕಾರಗಳಲ್ಲಿ ಟೆಟ್ರೆಲ್ ಬಂಧ (ಇದರಲ್ಲಿ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವು ಗುಂಪು IV ರ ಪರಮಾಣುವಿನ ಮೇಲೆ ವಾಸಿಸುತ್ತದೆ), ನಿಕ್ಟೋಜೆನ್ ಬಂಧ (ಗುಂಪು V), ಚಾಲ್ಕೋಜೆನ್ ಬಂಧ (ಗುಂಪು VI), ಮತ್ತು ಹ್ಯಾಲೊಜೆನ್ ಬಂಧ (ಗುಂಪು VII) ಸೇರಿವೆ. ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರವು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪರಮಾಣುವಿನ ಮೇಲೆ ಇರುವ ಸಿಗ್ಮಾ ರಂಧ್ರದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆ ಎಂದು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧವನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿ ವರ್ಗೀಕರಿಸಲಾಗಿದೆಯೇ ಅಥವಾ ವಿಭಿನ್ನ ವರ್ಗದ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳೆಂದು ವರ್ಗೀಕರಿಸಲಾಗಿದೆಯೇ ಎಂಬುದು ಕೆಲವು ಚರ್ಚೆಯ ವಿಷಯವಾಗಿ ಉಳಿದಿದೆ. ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳು ಮತ್ತು IV-VII ಗುಂಪುಗಳ ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳೆರಡೂ ರೇಖೀಯತೆಯ ಕಡೆಗೆ ದಿಕ್ಕಿನ ಆದ್ಯತೆಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆಯಾದರೂ, ಆದರ್ಶ 180° ಕೋನದಿಂದ ವಿಚಲನಗೊಳ್ಳುವ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ. ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, ಎರಡೂ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ನಿರ್ದೇಶಿಸುವ ಆಧಾರವಾಗಿರುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಒಂದೇ ಆಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಓರಿಯೆಂಟೇಷನಲ್ ಆದ್ಯತೆಯಲ್ಲಿನ ಗಮನಿಸಲಾದ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ಗಳ ಆಕಾರದಲ್ಲಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ ಎಂದು ವಾದಿಸಲಾಗಿದೆ. ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳು ವಿವಿಧ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ. ಸಣ್ಣ ರಚನಾತ್ಮಕ ಬದಲಿಗಳ ಮೂಲಕ ಸುಲಭವಾಗಿ ಹೊಂದಿಸಬಹುದಾದ ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸುವ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ದಿಕ್ಕಿನ ಇಂಟರ್ಮಾಲಿಕ್ಯುಲರ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಪ್ರಚೋದಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಈ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸುಪ್ರಾಮಾಲಿಕ್ಯುಲರ್ ಸಂಸ್ಥೆಯ ಮೇಲೆ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಬಯಸುವ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಮೌಲ್ಯಯುತವಾಗಿಸುತ್ತದೆ. ಅಂತೆಯೇ, ಸಿಗ್ಮಾ ಹೋಲ್ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಸ್ಫಟಿಕ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಸ್ವಯಂ-ಜೋಡಣೆಗಾಗಿ ಆಣ್ವಿಕ ಬಿಲ್ಡಿಂಗ್ ಬ್ಲಾಕ್ಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲು, ದ್ರವ ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಕಾಂತೀಯ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ವಿಕಿಪೀಡಿಯ ವಿದ್ಯಾರ್ಥಿ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮ ಕೆಮಿಕಲ್ ಬಾಂಡಿಂಗ್ ಸುಪ್ರಮಾಲಿಕ್ಯುಲರ್ ಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ ಮಾಲಿಕ್ಯುಲರ್ ಬಯಾಲಜಿ