Laser guided and stabilized arc welding
ಲೇಸರ್ ಗೈಡೆಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಟೆಬಿಲೈಸ್ಡ್ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ (ಎಲ್ಜಿಎಸ್-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್) ಒಂದು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಇದರಲ್ಲಿ ಲೇಸರ್ ಕಿರಣವು ಹೆಚ್ಚಿದ ವಾಹಕತೆಯ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ಹೊಂದಿಸಲು ವಿದ್ಯುತ್ ಬಿಸಿಮಾಡಿದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಚಾಪವನ್ನು ವಿಕಿರಣಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಚಾಪದ ಶಕ್ತಿಯು ಪ್ರಾದೇಶಿಕ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿರಬಹುದು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಉರಿಯುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಲೇಸರ್-ಹೈಬ್ರಿಡ್ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ನಿಂದ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಬೇಕು, ಏಕೆಂದರೆ ಒಂದೆರಡು ನೂರು ವ್ಯಾಟ್ಗಳ ಕಡಿಮೆ ಶಕ್ತಿಯ ಲೇಸರ್ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಮಾತ್ರ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ಇನ್ಪುಟ್ನ ವಿಷಯದಲ್ಲಿ ಲೇಸರ್ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಗಮನಾರ್ಹ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುವುದಿಲ್ಲ. ಲೇಸರ್ ವರ್ಧಿತ ಬೆಸುಗೆಯ ತತ್ವವು ವಿದ್ಯುತ್ ಚಾಪ ಮತ್ತು ಲೇಸರ್ ವಿಕಿರಣದ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಆಧರಿಸಿದೆ. ಆಪ್ಟೋಗಲ್ವಾನಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದಿಂದಾಗಿ (ಒಜಿಇ) ಲೇಸರ್ ಮಾರ್ಗದಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ವಾಹಕತೆಯ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಲೇಸರ್ ಕಿರಣದ ಚಲನೆಯು ವಿದ್ಯುತ್ ಚಾಪದ ಚಲನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಪರಿಣಾಮವು ಕೆಲವು ಮಿಲಿಮೀಟರ್ಗಳ ವ್ಯಾಪ್ತಿಗೆ ಸೀಮಿತವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಕ್ಕೆ ವಿಕಿರಣದ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಒಳನುಗ್ಗುವಿಕೆಯ ಆಳದಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ನಷ್ಟವಿಲ್ಲದೆ 811 ಎನ್ಎಂ ತರಂಗಾಂತರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಡಯೋಡ್ ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುವ ಮೂಲಕ 100% ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೆಸುಗೆ ವೇಗದ ಹೆಚ್ಚಳವನ್ನು ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಇದಲ್ಲದೆ, ಈ ತಂತ್ರವನ್ನು ಕ್ಲಾಡಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕಿದ ಪದಾರ್ಥವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ ಇಂಗಾಲದ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ನೊಂದಿಗೆ ಆರ್ಗಾನ್ ಅಥವಾ ಆರ್ಗಾನ್ ಅನ್ನು ರಕ್ಷಿಸುವ ಅನಿಲವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಲೇಸರ್ ಮೂಲವನ್ನು 811 ಎನ್ಎಂ ತರಂಗಾಂತರದಲ್ಲಿ ಹೊರಸೂಸುವಂತೆ ಟ್ಯೂನ್ ಮಾಡಬೇಕು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಕ್ಕೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಬೇಕು. ಲೇಸರ್ ಗೈಡೆಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಿದ ಜಿಎಂಎ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಒವರ್ಲ್ಯಾಪ್ ಅಥವಾ ಬಟ್ ಜಾಯಿಂಟ್ನಲ್ಲಿ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಮಾಡುವಾಗ ಸುಮಾರು 2 ಎಂಎಂ ವರೆಗೆ ತೆಳುವಾದ ಲೋಹದ ಹಾಳೆಗಳನ್ನು ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಫಿಲ್ಲೆಟ್ ವೆಲ್ಡ್ಗಳನ್ನು ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕುವಾಗ ಎಲ್ಜಿಎಸ್-ಜಿಎಂಎ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಅತ್ಯಂತ ಪ್ರಯೋಜನಕಾರಿಯಾಗಿದೆ. ಲೇಸರ್ ವಿಕಿರಣದ ಮಾರ್ಗದರ್ಶನದ ಪರಿಣಾಮವು ಚಾಪವನ್ನು ಫಿಲ್ಲೆಟ್ಗೆ ಒತ್ತಾಯಿಸುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಸ್ಥಿರವಾದ ಸೀಮ್ ಅನ್ನು ತಲುಪಬಹುದು. ಇದಲ್ಲದೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಸ್ಥಿರೀಕರಣವು ವಸ್ತುವಿನಲ್ಲಿನ ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಸುಡದೆ ತೆಳುವಾದ ಹಾಳೆಗಳನ್ನು ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕಲು ಜಿಎಂಎ-ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಶಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಸಲಕರಣೆಗಳು ಮತ್ತು ಸೆಟಪ್ ಈ ಸೆಟಪ್ಗೆ ಜಿಎಂಎ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಹೆಡ್ ಅನ್ನು ಕೆಲಸದ ತುಂಡು ಮೇಲ್ಮೈಗೆ 60° ನಲ್ಲಿ ಬಾಗಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ವಿದ್ಯುತ್ ಚಾಪ ಮತ್ತು ಲೇಸರ್ ಕಿರಣದ ನಡುವೆ ಗರಿಷ್ಠ ಅತಿಕ್ರಮಣವನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು, ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು ವರ್ಕ್ಪೀಸ್ಗೆ ನೇರವಾಗಿ ಅಳವಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ಚಾಪದಲ್ಲಿ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಬೆಸುಗೆ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು. ಲೇಸರ್ ಮೂಲವನ್ನು ಮೇಲೆ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಲೇಸರ್ ಗೈಡೆಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರ ಡಬಲ್ ಹೆಡ್ ಟಿಐಜಿ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಲೇಸರ್ ಗೈಡೆಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರ ಡಬಲ್ ಹೆಡ್ ಟಿಐಜಿ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಲೇಸರ್ ಎರಡು ಆರ್ಕ್ಗಳನ್ನು ಒಟ್ಟಿಗೆ ಒತ್ತಾಯಿಸುತ್ತದೆ. ಗುಣಮಟ್ಟಕ್ಕೆ ಧಕ್ಕೆಯಾಗದಂತೆ ಟಿಐಜಿ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ನ ಬೆಸುಗೆಯ ವೇಗವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು ಈ ತಂತ್ರದ ಗುರಿಯಾಗಿದೆ. ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಸೆಟಪ್ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಎರಡು ಟಿಐಜಿ-ಮೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಮೇಲೆ ವಿವರಿಸಿದ ಲೇಸರ್ ಅಗತ್ಯವಿದೆ. ಟಿಐಜಿ-ಟಾರ್ಚ್ಗಳನ್ನು ಮಧ್ಯದಲ್ಲಿ ಲೇಸರ್ ಕಿರಣವನ್ನು ಲಂಬವಾಗಿ ಅಳವಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಎರಡು ಟಾರ್ಚ್ಗಳ ಎಲ್ಲಾ ಬೆಸುಗೆ ವಿಧಾನಗಳು ಸಾಧ್ಯ (ಡಿಸಿ/ಡಿಸಿ, ಎಸಿ/ಎಸಿ, ಎಸಿ/ಡಿಸಿ). ಲೇಸರ್ ಗೈಡೆಡ್ ಮತ್ತು ಸ್ಟೆಬಿಲೈಸ್ಡ್ ಜಿಎಂಎ-ಕ್ಲ್ಯಾಡಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಎಲ್ಜಿಎಸ್-ಜಿಎಂಎ-ಕ್ಲ್ಯಾಡಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರೀಕರಣ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಜಿಎಂಎ-ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಶಕ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ನುಗ್ಗುವಿಕೆಯ ಆಳವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಬೇಸ್ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣೆಯ ವಸ್ತುಗಳ ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಇದು ಅಗತ್ಯವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಜಿಎಂಎ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಡಯೋಡ್ ಲೇಸರ್ಗಳ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಅಗ್ಗದ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ದಕ್ಷತೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಸಲಕರಣೆಗಳು ಮತ್ತು ಸೆಟಪ್ ಎಲ್ಜಿಎಸ್-ಜಿಎಂಎ-ಕ್ಲ್ಯಾಡಿಂಗ್ನ ಸೆಟಪ್ ಬಹುತೇಕ ಎಲ್ಜಿಎಸ್-ಜಿಎಂಎ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ನಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತದೆ, ಜೊತೆಗೆ ಜಿಎಂಎ-ಸೋರ್ಸ್ "ಕೋಲ್ಡ್-ಎಂಐಜಿ" ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರಬೇಕು. ಇದರರ್ಥ, ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಕರೆಂಟ್ ಅನ್ನು ನನ್ನ ಮೈಕ್ರೊಕಂಟ್ರೋಲರ್ಗಳು ನಿಯಂತ್ರಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಪವರ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ನಿಂದ ಉತ್ಪಾದಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತ ಶಿಖರಗಳನ್ನು ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ ಇಳಿಜಾರುಗಳನ್ನೂ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದು. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ಬಾಹ್ಯ ಕೊಂಡಿಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಓದುವಿಕೆ ಪ್ರಾಜೆಕ್ಟ್ ಮುಖಪುಟ LZH (ಜರ್ಮನ್) ಪ್ರಾಜೆಕ್ಟ್ ಮುಖಪುಟ (ಲೇಸರ್ ಸ್ಥಿರ ಡಬಲ್ ಟಿಐಜಿ-ವೆಲ್ಡಿಂಗ್) ವೆಂಡೆಲ್ಸ್ಟಾರ್ಫ್, ಜೆ.; ಡೆಕ್ಕರ್, ಐ.; ವೊಹ್ಲ್ಫಾಹರ್ಟ್, ಎಚ್. 1994, ಲೇಸರ್-ವರ್ಧಿತ ಅನಿಲ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಆರ್ಕ್ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ (ಲೇಸರ್-ಟಿಐಜಿ), ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಇನ್ ದಿ ವರ್ಲ್ಡ್ ಕ್ಯೂಯಿ, ಎಚ್., 1991, ಅನ್ಟರ್ಸ್ಚುಂಗೆನ್ ಡೆರ್ ವೆಕ್ಸೆಲ್ವಿರ್ಕುಂಗ್ ಜ್ವಿಸ್ಚೆನ್ ಶ್ವೆಸ್ಲಿಚ್ಟ್ಬೋಜೆನ್ ಉಂಡ್ ಫೋಕುಸಿಯೆರೆಮ್ ಲೇಸರ್ಸ್ಟ್ರಾಲ್ ಉಂಡ್ ಡೆರ್ ಅನ್ವೆಂಡಂಗ್ಸ್ಮೋಗ್ಲಿಚ್ಕೀಟ್ ಕೊಂಬಿನಿಯರ್ಟರ್ ಲೇಸರ್-ಲಿಚ್ಟ್ಬೋಜೆಂಟೆ (ಜರ್ಮನ್ ಮಾತ್ರ) ಪೌಲಿನಿ, ಜೆ., ಸೈಮನ್, ಜಿ., 1993, ಲೇಸರ್-ವರ್ಧಿತ ಆರ್ಕ್ ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಲೇಸರ್ ಶಕ್ತಿಗಾಗಿ ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಕಡಿಮೆ ಮಿತಿ, ಜೆ. ಫಿಸಿಕ್. ಡಿಃ ಆಪಲ್. ಫಿಸಿಕಲ್. 26 (1993) ಎಂ. ಷ್ನಿಕ್, ಎಸ್. ರೋಸ್, ಯು. ಫ್ಯೂಸೆಲ್, ಎ. ಮಹರ್ಲೆ, ಸಿ. ಡೆಮುತ್, ಇ. ಬೇಯರ್ಃ ನ್ಯೂಮರಿಷೆ ಉಂಡ್ ಎಕ್ಸ್ಪೆರಿಮೆಂಟೆಲ್ಲೆ ಅನ್ಟರ್ಸ್ಚುಂಗೆನ್ ಜುರ್ ವೆಕ್ಸೆಲ್ವಿರ್ಕುಂಗ್ ಜ್ವಿಸ್ಚೆನ್ ಐನೆಮ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಲಿಚ್ಟ್ಬೋಜೆನ್ ಉಂಡ್ ಐನೆಮ್ ಲೇಸರ್ಸ್ಟ್ರಾಲ್ ಗೆರಿಂಗರ್ ಲಿಸ್ಟಂಗ್ಃ ಡಿವಿಎಸ್ (ಜರ್ಮನ್ ಮಾತ್ರ) ಕುಯಿ, ಎಚ್., 1991, ಅನ್ಟರ್ಸ್ಚುಂಗೆನ್ ಡೆರ್ ವೆಕ್ಸೆಲ್ವಿರ್ಕುಂಗ್ ಜ್ವಿಸ್ಚೆನ್ ಶ್ವಿಸ್ಲೆಚ್ಟ್ಬೋಜೆನ್ ಉಂಡ್ ಫೋಕುಸ್ಸಿಯೆರೆಮ್ ಲೇಸರ್ಸ್ಟ್ರಾಲ್ ಉಂಡ್ ಡೆರ್ ಅನ್ವೆಂಡಂಗ್ಸ್ಮೋಗ್ಲಿಚ್ಕೀಟ್ ಕೊಂಬಿನಿಯರ್ ಲೇಸರ್ (ಜರ್ಮನ್ ಮಾತ್ರ) ವೆಲ್ಡಿಂಗ್