Plasma polymerization
ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು (ಅಥವಾ ಹೊಳೆಯುವ ವಿಸರ್ಜನೆ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ) ಅನಿಲ ವಿಸರ್ಜನೆಯನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮೂಲಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಸಲುವಾಗಿ ಅನಿಲ ಅಥವಾ ದ್ರವ ಮೊನೊಮರ್ ಅನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸಲು ಅಥವಾ ತುಂಡು ಮಾಡಲು ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವಿನೈಲ್ ಗುಂಪನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ಈ ತಂತ್ರದಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ಕವಲೊಡೆದ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಘನ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗೆ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅತಿದೊಡ್ಡ ಪ್ರಯೋಜನವೆಂದರೆ ಸರಪಳಿಗಳು ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವಾಗ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ನೇರವಾಗಿ ಜೋಡಿಸಬಹುದು, ಇದು ಕಸಿ ಮಾಡುವಿಕೆಯಂತಹ ಇತರ ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಹಂತಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ದ್ರಾವಕ ಕರಗದ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳೊಂದಿಗೆ 100 ಪಿಕೋಮೀಟರ್ಗಳಿಂದ 1-ಮೈಕ್ರೋಮೀಟರ್ ದಪ್ಪದ ಪಿನ್ ಹೋಲ್-ಮುಕ್ತ ಲೇಪನಗಳಿಗೆ ಇದು ತುಂಬಾ ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಪರಿಚಯ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ "ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು" 1870 ರ ದಶಕದ ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ತಿಳಿದಿತ್ತು, ಆದರೆ ಈ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ವಿದ್ಯುತ್ ವಿಸರ್ಜನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಅನಪೇಕ್ಷಿತ ಉಪಉತ್ಪನ್ನಗಳೆಂದು ಭಾವಿಸಲಾಗಿತ್ತು, ಅವುಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಗೆ ಕಡಿಮೆ ಗಮನ ನೀಡಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು. 1960ರ ದಶಕದವರೆಗೆ ಈ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಉಪಯುಕ್ತವೆಂದು ಕಂಡುಬಂದಿರಲಿಲ್ಲ. ಲೋಹಗಳ ಮೇಲೆ ದೋಷರಹಿತ ತೆಳುವಾದ ಪಾಲಿಮರಿಕ್ ಲೇಪನಗಳು ರೂಪುಗೊಳ್ಳಬಹುದು ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಆದಾಗ್ಯೂ ಅತ್ಯಂತ ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳಿಗೆ (<10nm) ಇದು ಅತಿಯಾದ ಸರಳೀಕರಣ ಎಂದು ಇತ್ತೀಚೆಗೆ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಯಸುದಾ ನಿಯತಾಂಕ ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಪ್ರತಿ ಮೊನೊಮರ್ಗೆ ಮೊನೊಮರ್ ಪ್ರಕಾರ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ, ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬರುವ ತೆಳುವಾದ ಪದರದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆ ಮತ್ತು ರಚನೆಯನ್ನು ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯೊಂದಿಗೆ ಬದಲಿಸಬಹುದು. ಈ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಜಡವಾಗಿರುತ್ತವೆ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಸ್ಥಿರಾಂಕಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ ಮಾಡಲಾದ ಕೆಲವು ಸಾಮಾನ್ಯ ಮೊನೊಮರ್ಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಟೈರೀನ್, ಎಥಿಲೀನ್, ಮೆಥಾಕ್ರಿಲೇಟ್ ಮತ್ತು ಪಿರಿಡಿನ್ ಸೇರಿವೆ. 1970 ರ ದಶಕವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಅನೇಕ ಪ್ರಗತಿಗಳನ್ನು ತಂದಿತು, ಇದರಲ್ಲಿ ವಿವಿಧ ರೀತಿಯ ಮೊನೊಮರ್ಗಳ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವೂ ಸೇರಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಶೇಖರಣೆಯ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಇತ್ತೀಚಿನವರೆಗೂ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ನಿರ್ಲಕ್ಷಿಸಲಾಗಿತ್ತು. ಈ ಸಮಯದಿಂದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವು ಲೇಪನಗಳ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿದೆ, ಆದರೆ ಪಾಲಿಮರ್ ರಚನೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವುದು ಕಷ್ಟಕರವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಇದು ಸೀಮಿತ ಅನ್ವಯಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಮೂಲ ಕಾರ್ಯಾಚರಣಾ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನ ಗ್ಲೋ ವಿಸರ್ಜನೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳು, ಅಯಾನುಗಳು, ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು, ನ್ಯೂಟ್ರಲ್ಗಳು ಮತ್ತು ಫೋಟಾನ್ಗಳ ಮಿಶ್ರಣವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ. ಈ ಪ್ರಭೇದಗಳಲ್ಲಿ ಕೆಲವು ಸ್ಥಳೀಯ ಉಷ್ಣಬಲದ ಸಮತೋಲನದಲ್ಲಿವೆ, ಆದರೆ ಇತರವುಗಳಲ್ಲ. ಆರ್ಗಾನ್ನಂತಹ ಸರಳ ಅನಿಲಗಳಿಗೂ ಸಹ, ಈ ಮಿಶ್ರಣವು ಸಂಕೀರ್ಣವಾಗಿರಬಹುದು. ಸಾವಯವ ಮೊನೊಮರ್ಗಳ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳಿಗೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ತುಣುಕಿನ ಕೆಲವು ಘಟಕಗಳು ಪರಸ್ಪರ ಸಂವಹನ ನಡೆಸಿ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಭೇದಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುವುದರಿಂದ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯು ವೇಗವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗಬಹುದು. ಹೊಳಪು ವಿಸರ್ಜನೆಯು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಒಂದು ತಂತ್ರವಾಗಿದ್ದು, ಇದು ಮುಕ್ತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರ ಅನಿಲ ಹಂತದಲ್ಲಿ ತಟಸ್ಥ ಅಣುಗಳೊಂದಿಗೆ ಘರ್ಷಣೆಗಳ ಮೂಲಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಕಳೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಇದು ಅನೇಕ ರಾಸಾಯನಿಕವಾಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ರಭೇದಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ನಂತರ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ವಿದ್ಯುತ್ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು "ಕಡಿಮೆ-ತಾಪಮಾನದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ" ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನವು ಅವನತಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳು ನೇರ ಪ್ರವಾಹ, ಪರ್ಯಾಯ ಪ್ರವಾಹ ಅಥವಾ ರೇಡಿಯೋ ಆವರ್ತನ ಜನರೇಟರ್ನಿಂದ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ. ರಿಯಾಕ್ಟರ್ಗಳ ವಿಧಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಕೆಲವು ವಿನ್ಯಾಸಗಳಿವೆ, ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದು ಬೆಲ್ (ಸ್ಥಿರ ಪ್ರಕಾರ), ಇದರಲ್ಲಿ ಮೊನೊಮರ್ ಅನಿಲವನ್ನು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಕೊಠಡಿಯೊಳಗೆ ಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಅದು ಕೊಠಡಿಯ ಮೂಲಕ ಹರಿಯುವುದಿಲ್ಲ. ಇದು ಒಳಗೆ ಬರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತೆಗೆದುಹಾಕದೆ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಈ ರೀತಿಯ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಅನ್ನು ಚಿತ್ರ 1ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಆಂತರಿಕ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಮತ್ತು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಬದಿಯಲ್ಲಿ ನಡೆಯುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಲಾ ಸಾಧನಗಳು ತಾಪಮಾನವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಬಳಸುವ ಥರ್ಮೋಸ್ಟಾಟಿಕ್ ಸ್ನಾನವನ್ನು ಮತ್ತು ಒತ್ತಡವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ನಿರ್ವಾತವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಃ ಮೊನೊಮರ್ ಅನಿಲವು ಬೆಲ್-ರೀತಿಯ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ಗೆ ಅನಿಲ ಪ್ರಭೇದವಾಗಿ ಬರುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ನಂತರ ಅದನ್ನು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಿಂದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು, ಅಯಾನುಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಟಯಾನುಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರಬಹುದು. ಈ ಮೊನೊಮರ್ಗಳನ್ನು ನಂತರ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅಥವಾ ಉಪಕರಣದಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗಿರುವ ಇತರ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ವಿವಿಧ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳಿಂದ ವಿವರಗಳನ್ನು ಕೆಳಗೆ ಚರ್ಚಿಸಲಾಗಿದೆ. ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ನಂತರ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಹರಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ಸ್ಥಿರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಬೆಳೆಯುವ ಸರಪಳಿಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ಮತ್ತೊಂದು ಜನಪ್ರಿಯ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಪ್ರಕಾರವೆಂದರೆ ಫ್ಲೋ-ಥ್ರೂ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ (ನಿರಂತರ ಹರಿವಿನ ರಿಯಾಕ್ಟರ್), ಇದು ಆಂತರಿಕ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿದೆ, ಆದರೆ ಈ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ತನ್ನ ಹೆಸರೇ ಸೂಚಿಸುವಂತೆ ರಿಯಾಕ್ಷನ್ ಚೇಂಬರ್ ಮೂಲಕ ಮೊನೊಮರ್ ಅನಿಲವನ್ನು ಹರಿಯಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಪಾಲಿಮರ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣೆಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಸಮನಾದ ಲೇಪನವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಲು ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನೊಳಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಮೊನೊಮರ್ಗಳು ಹರಿಯುತ್ತಿರುತ್ತವೆ ಎಂಬುದು ಇದರ ಪ್ರಯೋಜನವಾಗಿದೆ. ಇದು "ಟೈಲ್ ಫ್ಲೇಮ್" ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ರಚನೆಯ ಅನನುಕೂಲತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ನಿರ್ವಾತ ರೇಖೆಯೊಳಗೆ ವಿಸ್ತರಿಸಿದಾಗ. ಮೂರನೇ ಜನಪ್ರಿಯ ವಿಧದ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಎಂದರೆ ವಿದ್ಯುತುರಹಿತ ರಿಯಾಕ್ಟರ್. ಇದು ಗಾಜಿನ ಉಪಕರಣದ ಸುತ್ತಲೂ ಸುತ್ತುವ ಆರ್ಎಫ್ ಸುರುಳಿಯನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಇದು ನೇರ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಬಳಕೆಯಿಲ್ಲದೆ ಮನೆಯೊಳಗೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ರೇಡಿಯೋ ಆವರ್ತನ ಜನರೇಟರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ (ಇಂಡಕ್ಟಿವ್ ಕಪಲ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ನೋಡಿ). ಈ ಆರ್ಎಫ್ ಸುರುಳಿಯ ಮೂಲಕ ಉಪಕರಣದ ನಿರ್ವಾತ ತುದಿಯತ್ತ ತಳ್ಳಲ್ಪಟ್ಟಾಗ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ನಂತರ ಸಂಗ್ರಹಿಸಬಹುದು. ಇದು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸದಿರುವ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು ಇತರ ಮೇಲ್ಮೈಗಳ ಮೇಲೆ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ ಮಾಡುವಾಗ ಅಪೇಕ್ಷಣೀಯವಾಗಿದೆ. ಜನಪ್ರಿಯತೆಯಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ನಾಲ್ಕನೇ ವಿಧದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ವಾತಾವರಣದ ಒತ್ತಡದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ತೆಳುವಾದ ಪಾಲಿಮರ್ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಲು ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಈ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ನಿರ್ವಾತಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ವಿಶೇಷ ಯಂತ್ರಾಂಶದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಕಡೆಗಣಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ನಂತರ ಸಮಗ್ರ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಬಳಕೆಗೆ ಅನುಕೂಲಕರವಾಗಿದೆ. ವಾತಾವರಣದ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಲೇಪನಗಳಿಗೆ ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೋಲುತ್ತವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಭೌತಿಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಕ್ಕಾಗಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ರಚನೆಯು ಈ ಕೆಳಗಿನವುಗಳಲ್ಲಿ ಹಲವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಪ್ರತಿ ಘನ ಸೆಂಟಿಮೀಟರ್ಗೆ 109 ರಿಂದ 1012 ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸಾಂದ್ರತೆಗಳೊಂದಿಗೆ 1-10 eV ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಶಕ್ತಿಯ ಅಗತ್ಯವಿದೆ. ಕಡಿಮೆ-ತಾಪಮಾನದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ರಚನೆಯು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ; ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ತಾಪಮಾನವು ಅನಿಲ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಸಮನಾಗಿರುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು 10 ರಿಂದ 100 ರ ಟಿಇ/ಟಿಜಿ ಅನುಪಾತವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು, ಇದು ಪ್ರಯೋಜನಕಾರಿಯಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಕುಸಿಯುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಬಳಸಿದರೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ರಚನೆಯಾದ ನಂತರ ಕುಸಿಯುತ್ತವೆ ಅಥವಾ ಎಂದಿಗೂ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುವುದಿಲ್ಲ. ಇದು ಸಮತೋಲನವಲ್ಲದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಅಂದರೆ ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡಲಾದ ಮೊನೊಮರ್ ಪ್ರಭೇದಗಳು ತಟಸ್ಥ ಮೊನೊಮರ್ ಪ್ರಭೇದಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಚಲನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡದ ಮೊನೊಮರ್ ಬದಲಿಗೆ ತಲಾಧಾರಕ್ಕೆ ಶಕ್ತಿಯ ವರ್ಗಾವಣೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತವೆ. ಈ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಚಲನ ದರವು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಮೊನೊಮರ್ ಅನಿಲದ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಇದು ಅನಿಲ ಅಥವಾ ಆವಿಯಾಗಿರಬೇಕು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ವಿದ್ಯುತ್, ಒತ್ತಡ, ಹರಿವಿನ ಪ್ರಮಾಣ, ಆವರ್ತನ, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಅಂತರ ಮತ್ತು ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಸಂರಚನೆಯಂತಹ ಇತರ ನಿಯತಾಂಕಗಳೂ ಸಹ ಮುಖ್ಯವಾಗಿವೆ. ಕಡಿಮೆ ಹರಿವಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಕ್ಕೆ ಇರುವ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ಮಾತ್ರ ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಹರಿವಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನಲ್ಲಿ ಕಳೆಯುವ ಸಮಯವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಗರಿಷ್ಠ ದರವು ಎಲ್ಲೋ ಮಧ್ಯದಲ್ಲಿದೆ. ಅತ್ಯಂತ ವೇಗದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ತ್ರಿವಳಿ-ಬಂಧದ> ಎರಡು-ಬಂಧದ> ಏಕ-ಬಂಧದ ಅಣುಗಳ ಕ್ರಮದಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ಅಣುಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನವುಗಳಿಗಿಂತ ವೇಗವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ ಅಸೆಟಿಲೀನ್ ಎಥಿಲೀನ್ಗಿಂತ ವೇಗವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಎಥಿಲೀನ್ ಪ್ರೋಪೀನ್ ಇತ್ಯಾದಿಗಳಿಗಿಂತ ವೇಗವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರ್ ಶೇಖರಣೆಯಲ್ಲಿನ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ಅಂಶವು ಮೊನೊಮರ್ ಹರಿವಿನ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ಮೊನೊಮರ್ಗೆ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 200 ಗ್ರಾಂ/ಮೋಲ್ನ ಹತ್ತಿರ 15 ಗ್ರಾಂ/ಸೆಂ. ಮೀ. 2 ಹೆಚ್ಚಿನ ಹರಿವಿನ ದರ ಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ 50 ಗ್ರಾಂ/ಮೋಲ್ನಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕಕ್ಕೆ ಕೇವಲ 5 ಗ್ರಾಂ/ಸೆಂ. ಮೀ. 2 ಹರಿವಿನ ದರ ಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಭಾರೀ ಮೊನೊಮರ್ಗೆ ವೇಗವಾದ ಹರಿವಿನ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಹೆಚ್ಚಿದ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿದ ಒತ್ತಡವು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣೆಯ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸ್ಥಿರ ಒತ್ತಡದಿಂದ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಅಥವಾ ವಾತಾವರಣದ ಒತ್ತಡದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ಪರವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂಬುದಕ್ಕೆ ಇದು ಒಂದು ಕಾರಣವಾಗಿದೆ. 1 ಟಾರ್ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಆಲಿಗೋಮರ್ಗಳು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿರುವ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು ಅವುಗಳನ್ನು ಕರಗಿಸಿ ಕಡಿಮೆ ಮಟ್ಟದ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವನ್ನು ಪಡೆದು ಎಣ್ಣೆಯುಕ್ತ ಪದಾರ್ಥವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಮೊನೊಮರ್ ಕಡಿಮೆ ಇರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಅನುಕೂಲವಾಗುತ್ತದೆ. ವಿದ್ಯುತ್ ಶುದ್ಧತ್ವವು ಸಂಭವಿಸುವವರೆಗೆ ಮತ್ತು ದರವು ಅದರಿಂದ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗುವವರೆಗೆ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ದರವು ಇನ್ಪುಟ್ ಶಕ್ತಿಯ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಒಂದು ಕಿರಿದಾದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಅಂತರವು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಪ್ರತಿ ಘಟಕ ಪ್ರದೇಶಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ದರಗಳು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಬಳಸುವ ಉಪಕರಣದ ಪ್ರಕಾರವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಪರ್ಯಾಯ ವಿದ್ಯುತ್ ಹೊಳಪಿನ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಸುಮಾರು 5 ಕಿಲೋಹರ್ಟ್ಝ್ಗೆ ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳ ರಚನೆಯಿಂದಾಗಿ ದರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಆವರ್ತನದ ನಂತರ, ಮೊನೊಮರ್ಗಳ ಘರ್ಷಣೆಯ ಜಡತ್ವದ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತವೆ. ಇದು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಆವರ್ತನಗಳಿಗೆ ಮೊದಲ ಪ್ರಸ್ಥಭೂಮಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಆವರ್ತನದಲ್ಲಿ ಎರಡನೇ ಗರಿಷ್ಠವು 6 MHz ನಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಅಡ್ಡ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಮತ್ತೆ ಜಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಿಂದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಿಗೆ ಹರಡುವ ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳ ಮೂಲಕ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ, ಈ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಎರಡನೇ ಪ್ರಸ್ಥಭೂಮಿಯನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ಪ್ರತಿ ಮೊನೊಮರ್ಗೆ ಸ್ವಲ್ಪ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಇನ್-ಸಿತು ಹೊಂದುವಂತೆ ಮಾಡಬೇಕು. ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಮಾರ್ಗಗಳಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಅಯಾನುಗಳು, ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ಗಳಂತಹ ಅನೇಕ ಪ್ರಭೇದಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಯಾವುದು ಹೆಚ್ಚು ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನೋಡುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ. ವೆಸ್ಟ್ವುಡ್ ಮತ್ತು ಇತರರು ಸೂಚಿಸಿದ ಮೊದಲ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ. ನೇರ ಪ್ರವಾಹ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ನಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುವುದರಿಂದ ಇದು ಕ್ಯಾಟಯಾನಿಕ್ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವಾಗಿತ್ತು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತನಿಖೆಯು ಈ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಹೆಚ್ಚು ಆಮೂಲಾಗ್ರ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ ಎಂಬ ನಂಬಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು ಚಲನಚಿತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಸಿಕ್ಕಿಬೀಳುತ್ತವೆ, ಮತ್ತು ಒಲಿಗೋಮರ್ಗಳ ಪುನಸ್ಸಂಯೋಜನೆಯಿಂದ ಮುಕ್ತಾಯವನ್ನು ನಿವಾರಿಸಬಹುದು. ಇತರ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರದ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಸಹ ಈ ಸಿದ್ಧಾಂತವನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸುತ್ತವೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, 1990 ರ ದಶಕದ ಮಧ್ಯಭಾಗದಿಂದ ಹೆಚ್ಚು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕವಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಿದ ಹಲವಾರು ಪ್ರಬಂಧಗಳು ಕ್ಯಾಟಯಾನುಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಮಹತ್ವದ ಪಾತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಕೋಶವು ಘರ್ಷಣಮುಕ್ತವಾಗಿರುವಲ್ಲಿ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಅಯಾನು ಸಾಂದ್ರತೆಯು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗೆ ಅಯಾನು ಹರಿವು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ ಎಂಬ ಊಹೆಯನ್ನು ಪ್ರಶ್ನಿಸಲಾಗಿದೆ, ಅಯಾನು ಹರಿವನ್ನು ಬೋಮ್ ಕೋಶದ ಮಾನದಂಡದ ಪ್ರಕಾರ ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಅಯಾನು ಹರಿವು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ತಾಪಮಾನದ ವರ್ಗಮೂಲಕ್ಕೆ ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆರ್ಟಿ ಅಲ್ಲ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಲ್ಲಿ, ಅನಿಲ ಹಂತ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ಎರಡೂ ಸಂಭವಿಸುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಆವರ್ತನಗಳ ನಡುವೆ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿ, ಇದು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮಧ್ಯವರ್ತಿಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಕಡಿಮೆ ಆವರ್ತನಗಳಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಸಂಭವಿಸಿದಾಗ, ಮುಚ್ಚಿದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಚೇಂಬರ್ ಒಳಗಿನ ಒತ್ತಡವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಅನಿಲ-ಹಂತದ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು ಘನ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಿಗೆ ಹೋಗುತ್ತವೆ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಸಂಭವಿಸಬಹುದಾದ ವಿಧಾನಗಳ ಒಂದು ಉದಾಹರಣೆ ರೇಖಾಚಿತ್ರವನ್ನು ಚಿತ್ರ 2ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಅತ್ಯಂತ ಹೇರಳವಾದ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ನೀಲಿ ಬಣ್ಣದಲ್ಲಿ ಎರಡು ಬಾಣಗಳೊಂದಿಗೆ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಜೊತೆಗೆ ಬದಿಯ ಮಾರ್ಗಗಳನ್ನು ಕಪ್ಪು ಬಣ್ಣದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅನಿಲ ರಚನೆಯಿಂದ ಕ್ಷಯಿಸುವಿಕೆಯು ಸಂಭವಿಸುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಎರಡು ಮಾರ್ಗಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸ್ಥಿತಿ ಅಥವಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ಪ್ರೇರಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು, ಇವೆರಡೂ ನಿಕ್ಷೇಪಿತ ಪಾಲಿಮರ್ಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತವೆ. ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಹೊರತುಪಡಿಸಿ ಅನೇಕ ತಲಾಧಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಬಹುದು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಗಾಜು, ಇತರ ಸಾವಯವ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಅಥವಾ ಲೋಹಗಳು, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಮುಂದೆ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಇರಿಸಿದಾಗ ಅಥವಾ ಅವುಗಳ ನಡುವೆ ಮಧ್ಯದಲ್ಲಿ ಇರಿಸಿದಾಗ. ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಸ್ಥಿರವಿದ್ಯುತ್ತಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿರಬಹುದು, ಆದರೆ ಇತರ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಲಗತ್ತು ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಹೊಳೆಯುವ ವಿಸರ್ಜನೆಯಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಿಂದ ಪ್ರಾರಂಭವಾಗುವ ಅಯಾನಿಕ್ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ರಾಡಿಕಲ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ಮೂಲಕ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ನಡೆಯುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯಿದೆ. ಪ್ಯಾರಿಲೀನ್ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಉಷ್ಣ ಆರಂಭದ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಯಸುದಾ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಿದ ಶ್ರೇಷ್ಠ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವೆಂದರೆ ಚಿತ್ರ 3 ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಯಾವುದೇ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅನೇಕ ಪ್ರಸರಣ ಪ್ರಭೇದಗಳಿವೆ. ಈ ಅಂಕಿ ಅಂಶವು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ನಡೆಯಬಹುದಾದ ಎರಡು ವಿಭಿನ್ನ ಮಾರ್ಗಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಮೊದಲ ಮಾರ್ಗವು ಮೊನೊಫಂಕ್ಷನಲೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ಪ್ರಮಾಣಿತ ಫ್ರೀ ರಾಡಿಕಲ್ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವನ್ನು (ಎಂ) ಹೋಲುತ್ತದೆ-ಆದಾಗ್ಯೂ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಅಯಾನಿಕ್ ಆಗಿರಬಹುದು ಮತ್ತು ಮೂಲಭೂತವಾಗಿರಬೇಕಾಗಿಲ್ಲ ಎಂಬ ಎಚ್ಚರಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ. ಎರಡನೇ ಮಾರ್ಗವು ವಿಭಿನ್ನ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಇದು ಒಂದೇ ಮೊನೊಮರ್ (ಎಂ) ಮೇಲೆ ಕ್ಯಾಟಯಾನಿಕ್ ಮತ್ತು ರಾಡಿಕಲ್ ಪ್ರಸರಣ ಕೇಂದ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರಬಹುದು. ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, 'ಪಾಲಿಮರ್' ಒಂದು ಜಾತಿಯ ಮೇಲ್ಮೈ ಅಥವಾ ಇತರ ಮೊನೊಮರ್ಗಳಂತಹ ಅನೇಕ ಮಾರ್ಗಗಳ ಮೂಲಕ ಅನೇಕ ದಿಕ್ಕುಗಳಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯಬಹುದು. ಈ ಸಾಧ್ಯತೆಯು ಯಸುದಾ ಈ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವನ್ನು ಅತ್ಯಂತ ತ್ವರಿತ ಹಂತದ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಎಂದು ಕರೆಯಲು ಅವಕಾಶ ಮಾಡಿಕೊಟ್ಟಿತು. ರೇಖಾಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ, Mx ಮೂಲ ಮೊನೊಮರ್ ಅಣುವನ್ನು ಅಥವಾ ಕ್ಲೋರಿನ್, ಫ್ಲೋರಿನ್ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ನಂತಹ ಅನೇಕ ವಿಯೋಜನೆ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಲ್ಲಿ ಯಾವುದನ್ನಾದರೂ ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಎಂ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಸಕ್ರಿಯವಾಗಿರುವ ಮತ್ತು ಹೊಸ ಕೋವೆಲೆಂಟ್ ಬಂಧಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಭಾಗವಹಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪ್ರಭೇದಗಳನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತವೆ. ಎಂ ಪ್ರಭೇದವು ಸಕ್ರಿಯ ಡಿಫಂಕ್ಷನಲ್ ಮೊನೊಮರ್ ಪ್ರಭೇದವನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಐ, ಜೆ, ಮತ್ತು ಕೆ ಚಂದಾದಾರಿಕೆಗಳು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ವಿವಿಧ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಗಾತ್ರಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ. ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು ಸಕ್ರಿಯ ಪ್ರಭೇದಗಳನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತವೆಯಾದರೂ, ಯಾವುದೇ ಅಯಾನು ಅಥವಾ ರಾಡಿಕಲ್ ಅನ್ನು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು. ಇಲ್ಲಿ ನೋಡುವಂತೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಬಹಳ ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಅನೇಕ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ದರದಿಂದ ಹಿಡಿದು ಸರಪಳಿಯ ಉದ್ದದವರೆಗೆ ಎಲ್ಲದರ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ಮೂಲಕ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಾರ್ಗದ ಆಯ್ಕೆ ಅಥವಾ ಅನುಕೂಲವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಆಯ್ದ ಮೊನೊಮರ್ಗಳೊಂದಿಗಿನ ಪಲ್ಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಹೆಚ್ಚು ನಿಯಮಿತವಾದ ಪಾಲಿಮರ್ ರಚನೆಗಳಿಗೆ ಒಲವು ತೋರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಆಫ್-ಟೈಮ್ನಲ್ಲಿ (ಆಮೂಲಾಗ್ರ) ಸರಪಳಿ ಬೆಳವಣಿಗೆಯನ್ನು ಹೋಲುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನದಿಂದ ಇವು ಬೆಳೆಯುತ್ತವೆ ಎಂದು ಪ್ರತಿಪಾದಿಸಲಾಗಿದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು/ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಮೊನೊಮರ್ಗಳನ್ನು ಮೊನೊಮರ್ ಕೋಷ್ಟಕದಲ್ಲಿ ನೋಡಬಹುದು, ಅನೇಕ ಸರಳ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ಸುಲಭವಾಗಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನವು ಸಣ್ಣ ಅಯಾನೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಪ್ರಭೇದಗಳಾಗಿರಬೇಕು ಏಕೆಂದರೆ ಅವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಹೋಗಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ. ಬಹು ಬಂಧಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು ಸುಲಭವಾಗಿ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ ಆಗುತ್ತವೆಯಾದರೂ, ಇದು ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ, ಏಕೆಂದರೆ ಈಥೇನ್, ಸಿಲಿಕೋನ್ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಅನೇಕವು ಸಹ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ ಆಗುತ್ತವೆ. ಇತರ ಷರತ್ತುಗಳಿವೆ. ಯಸುದಾ ಮತ್ತು ಇತರರು. 28 ಮೊನೊಮರ್ಗಳನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿ, ಆರೊಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಗುಂಪುಗಳು, ಸಿಲಿಕಾನ್, ಒಲೆಫಿನಿಕ್ ಗುಂಪು ಅಥವಾ ಸಾರಜನಕವನ್ನು (ಎನ್ಎಚ್, ಎನ್ಎಚ್ 2, ಸಿಎನ್) ಹೊಂದಿರುವವುಗಳು ಸುಲಭವಾಗಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಆಮ್ಲಜನಕ, ಹಾಲೈಡ್ಗಳು, ಅಲಿಫಾಟಿಕ್ ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ಗಳು ಮತ್ತು ಆವರ್ತಕ ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವವುಗಳು ಹೆಚ್ಚು ಸುಲಭವಾಗಿ ವಿಭಜನೆಯಾಗುತ್ತವೆ ಎಂದು ಕಂಡುಹಿಡಿದಿದೆ. ನಂತರದ ಸಂಯುಕ್ತಗಳು ಹೆಚ್ಚು ಕ್ಷಯಿಸುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಅಡ್ಡಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ಸ್ಥಿರವಾದ ಪಾಲಿಮರ್ ರಚನೆಯನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ. N2, H2O, ಮತ್ತು CO ಅನ್ನು ಸ್ಟೈರೀನ್ನ ಕೋಪಾಲಿಮರ್ಗಳಲ್ಲಿ ಸೇರಿಸಲು ಸಹ ಸಾಧ್ಯವಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಗ್ರಾಫ್ಟ್ ಪಾಲಿಮರ್ನ ಒಂದು ವಿಧವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಬಹುದು ಏಕೆಂದರೆ ಅವುಗಳನ್ನು ತಲಾಧಾರದಿಂದ ಬೆಳೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಬಹುತೇಕ ಏಕರೂಪದ ಮೇಲ್ಮೈ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ ಎಂದು ತಿಳಿದುಬಂದಿದೆ, ಇದು ಅವುಗಳ ಅಪೇಕ್ಷಣೀಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ ಅನೇಕ ಪ್ರಸರಣ ಪ್ರಭೇದಗಳಿಂದಾಗಿ ಆಗಾಗ್ಗೆ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕವನ್ನು ಹೊಂದುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಶಾಖೆಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ಇದು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಬಹಳ ಕರಗದ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಹೈಪರ್ಬ್ರಾಂಚ್ಡ್ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ದ್ರಾವಕವಿಲ್ಲದೆ ನೇರವಾಗಿ ಸಂಗ್ರಹಿಸಬಹುದು. ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಸಾಮಾನ್ಯ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳೆಂದರೆಃ ಪಾಲಿಇಥಿಯೋಫೀನ್, ಪಾಲಿಹೆಕ್ಸಾಫ್ಲೋರೊಪ್ರೊಪಿಲೀನ್, ಪಾಲಿಟೆಟ್ರಾಮೆಥೈಲಿನ್, ಪಾಲಿಹೆಕ್ಸಾಮೆಥೈಲ್ಡಿಸಿಲೋಕ್ಸೇನ್, ಪಾಲಿಟೆಟ್ರಾಮೆಥೈಲ್ಡಿಸಿಲೋಕ್ಸೇನ್, ಪಾಲಿಪಿರಿಡಿನ್, ಪಾಲಿಫುರಾನ್ ಮತ್ತು ಪಾಲಿ-2-ಮೆಥೈಲೋಕ್ಸಾಜೋಲಿನ್. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪ್ರಮಾಣ ಕಡಿಮೆಯಾಗುವ ಕ್ರಮದಲ್ಲಿ ಈ ಕೆಳಗಿನವುಗಳನ್ನು ಪಟ್ಟಿ ಮಾಡಲಾಗಿದೆಃ ಪಾಲಿಸ್ಟೈರೀನ್, ಪಾಲಿಮೆಥೈಲ್ ಸ್ಟೈರೀನ್, ಪಾಲಿಸೈಕ್ಲೋಪೆಂಟಾಡೈನ್, ಪಾಲಿಯಾಕ್ರಿಲೇಟ್, ಪಾಲಿಮೆಥೈಲ್ ಅಕ್ರಿಲೇಟ್, ಪಾಲಿಮೆಥೈಲ್ ಮೆಥಾಕ್ರಿಲೇಟ್, ಪಾಲಿವಿನೈಲ್ ಅಸಿಟೇಟ್, ಪಾಲಿಸೋಪ್ರೀನ್, ಪಾಲಿಸೋಬುಟೀನ್ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಯೆಥೈಲಿನ್. ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ರಚಿಸಲಾದ ಬಹುತೇಕ ಎಲ್ಲಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ನೋಟವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿವೆ ಮತ್ತು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕ ಹೊಂದಿವೆ. ಹರಡುವ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ರೇಖೀಯ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸುಲಭವಾಗಿ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುವುದಿಲ್ಲ. ಈ ವಿಧಾನದಿಂದ ಇತರ ಅನೇಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ರಚಿಸಬಹುದು. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಸಾಮಾನ್ಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಿಗಿಂತ ಬಹಳ ಭಿನ್ನವಾಗಿವೆ. ಎರಡೂ ವಿಧಗಳು ಮೊನೊಮರ್ನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿದ್ದರೂ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸುವ ತಲಾಧಾರದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚು ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿವೆ. ರಿಯಾಕ್ಟರ್ನೊಳಗಿನ ಶೇಖರಣೆಯು ಸಂಭವಿಸುವ ಸ್ಥಳವು ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಉಂಟಾಗುವ ಪಾಲಿಮರ್ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೂ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ವಾಸ್ತವವಾಗಿ, ಒಂದೇ ಮೊನೊಮರ್ನೊಂದಿಗೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವನ್ನು ಬಳಸುವ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ರಿಯಾಕ್ಟರ್, ತಲಾಧಾರ ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ಮೂಲಕ. ಪ್ರತಿಯೊಂದೂ ವಿಭಿನ್ನ ಭೌತಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ವಿವಿಧ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು. ಈ ಅಂಶಗಳ ಮೇಲೆ ಪಾಲಿಮರ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಲಂಬನೆಯು ಮೂಲಭೂತ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಗುಂಪನ್ನು ನಿಯೋಜಿಸಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಹೊರತುಪಡಿಸಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿಸುವ ಕೆಲವು ಸಾಮಾನ್ಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿವೆ. ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ನಡುವಿನ ಅತ್ಯಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ವ್ಯತ್ಯಾಸವೆಂದರೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ನಿಯಮಿತವಾಗಿ ಪುನರಾವರ್ತಿಸುವ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದಿಲ್ಲ. ಮೇಲೆ ಚರ್ಚಿಸಿದಂತೆ ಯಾವುದೇ ಒಂದು ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಇರುವ ವಿವಿಧ ಹರಡುವ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯಿಂದಾಗಿ, ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬರುವ ಪಾಲಿಮರ್ ಸರಪಳಿಗಳು ಹೆಚ್ಚು ಕವಲೊಡೆಯುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಯಾದೃಚ್ಛಿಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಟ್ಟದ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕದೊಂದಿಗೆ ಕೊನೆಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ಡ್ ಎಥಿಲೀನ್ಗೆ ಪ್ರಸ್ತಾಪಿತ ರಚನೆಯ ಒಂದು ಉದಾಹರಣೆಯು ಅಡ್ಡ-ಜೋಡಣೆ ಮತ್ತು ಕವಲೊಡೆಯುವಿಕೆಯ ದೊಡ್ಡ ವಿಸ್ತರಣೆಯನ್ನು ಚಿತ್ರ 4ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಎಲ್ಲಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳ ಪ್ರಮಾಣವು ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ನಡುವೆ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಮೊನೊಮರ್ನ ರಾಸಾಯನಿಕ ರಚನೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಸಿಕ್ಕಿಬಿದ್ದ ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳ ರಚನೆಯು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿರುವುದರಿಂದ, ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಒಟ್ಟಾರೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ನೇರವಾಗಿ ಸ್ವತಂತ್ರ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಆಂತರಿಕ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಒಂದು ದಪ್ಪ ಪದರವಿದ್ದರೆ (ಉದಾ. 1 ಮೈಕ್ರೋಮೀಟರ್) ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ಗಾಜಿನ ಸ್ಲೈಡ್ನಲ್ಲಿ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ ಬಕಲ್ ಆಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಬಿರುಕು ಬಿಡುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರ್ ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ನಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಆಂತರಿಕ ಒತ್ತಡವು ಕರ್ಲಿಂಗ್ಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ. ಕರ್ಲಿಂಗ್ನ ಮಟ್ಟವು ಮೊನೊಮರ್ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಕರಗುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಕರಗುವುದಿಲ್ಲ. ಈ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಈ ಹಿಂದೆ ಚರ್ಚಿಸಲಾದ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಲ್ಲಿನ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಅಡ್ಡ-ಜೋಡಣೆಯಿಂದಾಗಿ. ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಈ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಚಲನ ಪಥದ ಉದ್ದವು ಸಾಕಷ್ಟು ಉದ್ದವಾಗಿರಬೇಕು, ಆದ್ದರಿಂದ ಈ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಒಂದು ಬಿಂದುವಿಗೆ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದು. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಗಳು ಸಹ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಿಗಿಂತ ಬಹಳ ಭಿನ್ನವಾಗಿವೆ. ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ವಿಭಾಗೀಯ ಚಲನಶೀಲತೆಯ ಅನುಪಸ್ಥಿತಿ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಮರ್ಗಳೊಳಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಟ್ಟದ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕದಿಂದಾಗಿ, ಸಣ್ಣ ಅಣುಗಳ ಪ್ರವೇಶವು ಅಂತಹ ಸಣ್ಣ ಪ್ರವೇಶಗಳಿಗೆ "ದ್ರಾವಣ-ಪ್ರಸರಣ" ಅಥವಾ ಆಣ್ವಿಕ-ಮಟ್ಟದ ಜರಡಿಯ ವಿಶಿಷ್ಟ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾಗಿ ಅನುಸರಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಈ ಎರಡು ಆದರ್ಶ ಪ್ರಕರಣಗಳ ನಡುವೆ ಬರುತ್ತವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಅಂತಿಮ ಸಾಮಾನ್ಯ ಲಕ್ಷಣವೆಂದರೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ. ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ನಿರ್ದಿಷ್ಟತೆಗಳು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ದಪ್ಪ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗೆ ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿವೆ ಮತ್ತು ಕೆಲವು ಸಾಮಾನ್ಯೀಕರಣಗಳನ್ನು ಮಾಡಬಹುದು. ಪ್ರಯೋಜನಗಳು ಮತ್ತು ಅನಾನುಕೂಲಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಇತರ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ವಿಧಾನಗಳಿಗಿಂತ ಹಲವಾರು ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಗೊಳ್ಳದ ಸಾವಯವ ಸಂಯುಕ್ತಗಳ ಪಾಲಿಮರ್ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಅತ್ಯಂತ ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರಯೋಜನವಾಗಿದೆ. ಬಹುತೇಕ ಎಲ್ಲಾ ಮೊನೊಮರ್ಗಳು, ಸ್ಯಾಚುರೇಟೆಡ್ ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ಗಳು ಮತ್ತು ಡಬಲ್ ಬಾಂಡ್ನಂತಹ ಪಾಲಿಮರೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ರಚನೆಯಿಲ್ಲದ ಸಾವಯವ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ಸಹ ಈ ತಂತ್ರದಿಂದ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಗೊಳಿಸಬಹುದು. ಎರಡನೆಯ ಪ್ರಯೋಜನವೆಂದರೆ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ವಿರುದ್ಧ ಲೇಪನಗಳಾಗಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸುವುದು. ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳೊಂದಿಗೆ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಲೇಪಿಸಲು ಹಲವಾರು ಹಂತಗಳು ಬೇಕಾಗಿದ್ದರೂ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ಇವೆಲ್ಲವನ್ನೂ ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ಒಂದೇ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಸಾಧಿಸುತ್ತದೆ. ಪಾಲಿಮರ್ ತಯಾರಿಕೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಯಾವುದೇ ದ್ರಾವಕದ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬರುವ ಪಾಲಿಮರ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲದ ಕಾರಣ ಇದು ಸ್ವಚ್ಛ ಮತ್ತು 'ಹಸಿರು' ಸಂಶ್ಲೇಷಣೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಮರುಬಳಕೆ ಮಾಡಬಹುದಾದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಮುಂದುವರಿಸಲು ಕಾರಣವಾಗುವುದರಿಂದ ಪಾಲಿಮರ್ ತಯಾರಿಕೆಗೆ ಯಾವುದೇ ಇನಿಶಿಯೇಟರ್ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ ಎಂಬುದು ಸಂಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಮತ್ತೊಂದು 'ಹಸಿರು' ಅಂಶವಾಗಿದೆ. ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬರುವ ಪಾಲಿಮರ್ ಲೇಪನಗಳು ವಿಶಿಷ್ಟ ಲೇಪನಗಳಿಗಿಂತ ಹಲವಾರು ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ. ಈ ಪ್ರಯೋಜನಗಳಲ್ಲಿ ಸುಮಾರು ಪಿನ್ ಹೋಲ್-ಮುಕ್ತವಾಗಿರುವುದು, ಹೆಚ್ಚು ದಟ್ಟವಾಗಿರುವುದು ಮತ್ತು ಲೇಪನದ ದಪ್ಪವನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು. ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ವಿಧಾನಗಳ ವಿರುದ್ಧ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಹಲವಾರು ಅನಾನುಕೂಲತೆಗಳಿವೆ. ಅತ್ಯಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ಅನನುಕೂಲವೆಂದರೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಹೆಚ್ಚಿನ ವೆಚ್ಚ. ಪಾಲಿಮರೀಕರಣಕ್ಕೆ ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ, ಇದು ಸೆಟಪ್ ಬೆಲೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯು ಮತ್ತೊಂದು ಅನನುಕೂಲವಾಗಿದೆ. ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯಿಂದಾಗಿ, ಮಾರ್ಪಾಡಿನ ನಂತರ ಮೇಲ್ಮೈಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಮೇಲೆ ಉತ್ತಮ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಸಾಧಿಸುವುದು ಸುಲಭವಲ್ಲ. ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬರುವ ಪಾಲಿಮರ್ನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಮೇಲೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಪ್ರಭಾವವು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು ಬಹಳ ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬಹುದು ಎಂದರ್ಥ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯು ಮೊನೊಮರ್ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸುಲಭವಾಗಿ ನಿರ್ಧರಿಸಬಹುದಾದ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳಿಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿ, ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಪಾಲಿಮರ್ ಹೇಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ಸಿದ್ಧಾಂತಗೊಳಿಸಲು ಅಸಾಧ್ಯವಾಗಿಸುತ್ತದೆ. ಅನ್ವಯಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣವು ನೀಡುವ ಪ್ರಯೋಜನಗಳು ಈ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಅನ್ವಯಗಳ ಬಗ್ಗೆ ಗಣನೀಯ ಸಂಶೋಧನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ನೀಡುವ ಅತ್ಯಂತ ವಿಭಿನ್ನವಾದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಲೆಕ್ಕವಿಲ್ಲದಷ್ಟು ವಿಭಿನ್ನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು ಎಂದರ್ಥ. ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಸಂಯೋಜಿತ ವಸ್ತುಗಳು, ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಲೇಪನಗಳು, ಮುದ್ರಣ, ಪೊರೆಗಳು, ಜೈವಿಕ ವೈದ್ಯಕೀಯ ಅನ್ವಯಗಳು, ನೀರಿನ ಶುದ್ಧೀಕರಣ ಮತ್ತು ಮುಂತಾದವುಗಳ ಅನ್ವಯಗಳನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ. 1980ರ ದಶಕದಿಂದಲೂ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳ ಶೇಖರಣೆಯು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಆಸಕ್ತಿಯ ವಿಷಯವಾಗಿದೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳನ್ನು ಜೈವಿಕ ಕಸಿಗಳಿಗೆ ಜೈವಿಕ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಸಾಧನವಾಗಿ ಮತ್ತು ಸೂಪರ್-ಹೈಡ್ರೋಫೋಬಿಕ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಜೀವಕೋಶದ ಲಗತ್ತು, ಪ್ರೋಟೀನ್ ಬೈಂಡಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಆಂಟಿ-ಫೌಲಿಂಗ್ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗಾಗಿ ಜೈವಿಕ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಸಹ ಅವುಗಳನ್ನು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ. ಕಡಿಮೆ-ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಒತ್ತಡದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಬಳಕೆಯ ಮೂಲಕ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಧಾರಣವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು, ಇದು ಕೆಲವು ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಜೈವಿಕ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಗಣನೀಯ ಸುಧಾರಣೆಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ, ಒಂದು ಸರಳ ಉದಾಹರಣೆಯೆಂದರೆ ವಿಸ್ತೃತ-ಉಡುಗೆ ಕಾಂಟ್ಯಾಕ್ಟ್ ಲೆನ್ಸ್ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ. ಈ ಯಶಸ್ಸಿನಿಂದಾಗಿ, ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಬೃಹತ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ನೀರಿನ ಸಂಸ್ಕರಣೆ ಮತ್ತು ಗಾಯದ ನಿರ್ವಹಣೆಯಂತಹ ಹಿಂದೆ ಸಂಬಂಧವಿಲ್ಲದ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿನ ಕಾರ್ಮಿಕರು ನಿಧಾನವಾಗಿ ಅರಿತುಕೊಳ್ಳುತ್ತಿದ್ದಾರೆ. ನ್ಯಾನೊ ಪ್ಯಾಟರ್ನಿಂಗ್, 3ಡಿ ಸ್ಕ್ಯಾಫೋಲ್ಡ್ಗಳು, ಮೈಕ್ರೋ-ಚಾನೆಲ್ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಮೈಕ್ರೋಎನ್ಕ್ಯಾಪ್ಸುಲೇಷನ್ನಂತಹ ಉದಯೋನ್ಮುಖ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳು ಈಗ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಸಹ ಬಳಸುತ್ತಿವೆ, ಇದಕ್ಕಾಗಿ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಲ್ಲ. ರಂಧ್ರಯುಕ್ತ ತಲಾಧಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಸಂಗ್ರಹವಾಗಿರುವ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯ ಪಾಲಿಮರ್ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳಿಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಶೇಖರಣೆ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿವೆ. ಆಮ್ಲಜನಕ ಮತ್ತು ಸಾರಜನಕವನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸುವ ಪೊರೆಗಳಾಗಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು, ಎಥೆನಾಲ್ ಮತ್ತು ನೀರು ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಆವಿಯ ಪ್ರವೇಶವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ. ರಿವರ್ಸ್ ಆಸ್ಮೋಸಿಸ್ ಮೆಂಬ್ರೇನ್ಗಳಾಗಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೈಸ್ಡ್ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳ ಅನ್ವಯವು ಗಣನೀಯ ಗಮನವನ್ನು ಸೆಳೆದಿದೆ. ಯಸುದಾ ಮತ್ತು ಇತರರು. ಸಾರಜನಕ-ಹೊಂದಿರುವ ಮೊನೊಮರ್ಗಳಿಂದ ಮಾಡಿದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದಿಂದ ತಯಾರಿಸಿದ ಪೊರೆಗಳು ದಿನಕ್ಕೆ 6,4 ಗ್ಯಾಲನ್/ಅಡಿ 2 ಹರಿವಿನೊಂದಿಗೆ 98 ಪ್ರತಿಶತದಷ್ಟು ಉಪ್ಪಿನ ನಿರಾಕರಣೆಯನ್ನು ನೀಡಬಲ್ಲವು ಎಂದು ತೋರಿಸಿವೆ. ಮೆಂಬರೇನ್ನ ಮೊನೊಮರ್ಗಳನ್ನು ಬದಲಿಸುವುದರಿಂದ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಪ್ರತಿರೋಧದಂತಹ ಇತರ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸಹ ನೀಡುತ್ತದೆ ಎಂದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಶೋಧನೆಯು ತೋರಿಸಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ಪಾಲಿಮರೈಸ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳು ವಿದ್ಯುತ್ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಸಹ ಕಂಡುಕೊಂಡಿವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಅನೇಕ ಧ್ರುವ ಗುಂಪುಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದರಿಂದ, ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲಜನಕದೊಂದಿಗೆ ರಾಡಿಕಲ್ಗಳು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿದಾಗ ಅವು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ತೆಳುವಾದ ಪದರದ ರೂಪದಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಅವಾಹಕ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿರುತ್ತವೆ ಎಂದು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿತ್ತು. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಾಹಕ ಗುಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಎಂದು ಅಧ್ಯಯನಗಳು ತೋರಿಸಿವೆ. ಕೆಲವು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಅವುಗಳ ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಂದಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂವೇದನಾ ಸಾಧನಗಳಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ತೇವಾಂಶ, ಪ್ರೋಪೇನ್ ಮತ್ತು ಇಂಗಾಲದ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ಗಾಗಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂವೇದನಾ ಸಾಧನಗಳಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ. ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ ವಯಸ್ಸಾದ ಮತ್ತು ತೇವಾಂಶದ ವಿರುದ್ಧದ ಅಸ್ಥಿರತೆಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳು ಅವುಗಳ ವಾಣಿಜ್ಯ ಅನ್ವಯಗಳನ್ನು ಸೀಮಿತಗೊಳಿಸಿವೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ಲೇಪನಗಳಾಗಿ ಬಳಸುವುದರ ಬಗ್ಗೆಯೂ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ. ಟೆಟ್ರಾಮೆಥಾಕ್ಸಿಸಿಲೇನ್ನಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳನ್ನು ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಲೇಪನಗಳಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಥಿಲೀನ್ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಕಾರ್ಬೋನೇಟ್ನ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಮಸೂರಗಳನ್ನು ಲೇಪಿಸಲು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳ ಬಳಕೆಯು ಜನಪ್ರಿಯತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನಿಕ್ಷೇಪಗಳು ಬೈಫೋಕಲ್ಗಳಂತಹ ಉತ್ತಮ ಏಕರೂಪತೆಯೊಂದಿಗೆ ಬಾಗಿದ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಲೇಪಿಸಬಹುದು. ಬಳಸುವ ವಿವಿಧ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು ಸ್ಕ್ರಾಚ್ ನಿರೋಧಕವಾಗಿರುವುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ ಹೈಡ್ರೋಫೋಬಿಕ್ ಆಗಿರಬಹುದು, ಇದು ಆಂಟಿ-ಫಾಗಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಟ್ಯೂನ್ ಮಾಡಬಹುದಾದ ತೇವಾಂಶ ಮತ್ತು ಹಿಮ್ಮುಖವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದಾದ ಪಿಹೆಚ್-ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪಾಲಿಮರ್ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ಔಷಧ ವಿತರಣೆ, ಬಯೋಮೆಟೀರಿಯಲ್ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್, ತೈಲ/ನೀರಿನ ಬೇರ್ಪಡಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು, ಸಂವೇದಕಗಳು ಮತ್ತು ಜೈವಿಕ ಇಂಧನ ಕೋಶಗಳಂತಹ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಅವುಗಳ ವಿಶಿಷ್ಟ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಂದಾಗಿ ಭರವಸೆಯ ಭವಿಷ್ಯವನ್ನು ತೋರಿಸಿವೆ. ಉಲ್ಲೇಖಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಂಸ್ಕರಣೆ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ